「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The first pattern is transferred to a mask layer by etching the mask layer making the first pattern as the mask.例文帳に追加

第１のパターンをマスクとしてマスク層をエッチングしてマスク層に第１のパターンを転写する。 - 特許庁

MASK PATTERN DIVIDING METHOD, MASK PATTERN DIVIDING PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン分割方法、マスクパターン分割プログラム、露光用マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND MASK USED FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

パターン形成方法及びパターン形成に用いるマスク - 特許庁

PATTERN DRAWING DEVICE, PATTERN DRAWING METHOD AND MASK FOR PATTERN DRAWING例文帳に追加

パターン描画装置、パターン描画方法及びパターン描画用のマスク - 特許庁

The exposure device 10 exposes a wafer 7 to light, by using a mask pattern 30 having a metal wiring mask pattern 31 and an identification mask pattern 32, and a mask pattern 40 having a metal wiring mask pattern 41 and an identification mask pattern 42.例文帳に追加

露光装置１０は、金属配線マスクパターン３１及び識別マスクパターン３２を有するマスクパターン３０と、金属配線マスクパターン４１及び識別マスクパターン４２を有するマスクパターン４０とを用いてウエハ７を露光する。 - 特許庁

GRAY TONE MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK HAVING AUXILIARY PATTERN例文帳に追加

補助パターン付きマスクの製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン検証方法およびプログラム - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN AND PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターン補正方法およびフォトマスク - 特許庁

MASK PATTERN GENERATION METHOD AND PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターン生成方法およびフォトマスク - 特許庁

FINE PATTERN MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING FINE PATTERN MASK例文帳に追加

微細パターンマスクおよびその製造方法、ならびにそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁

PATTERN TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

パターン転写用マスク、マスク作製方法及び露光方法 - 特許庁

TRANSFER MASK BLANK, TRANSFER MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加

転写マスクブランク及び転写マスク並びにパターン露光方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターンの作成方法、マスクの製造方法およびプログラム - 特許庁

MASK SET, METHOD FOR CREATING MASK DATA AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

マスクのセット、マスクデータ作成方法及びパターン形成方法 - 特許庁

HALFTONE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE USING THE MASK例文帳に追加

ハーフトーンマスク及びこれを用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK AND METHOD FOR DESIGNING PATTERN OF WIRING LAYER MASK例文帳に追加

露光用マスク及び配線層マスクのパターン設計方法 - 特許庁

MASK PATTERN CREATING METHOD, CREATING APPARATUS, AND MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加

マスクパターンの作成方法、作成装置及び露光用マスク - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MULTIPLYING MASK PATTERN PARTIALLY AND MASK STRUCTURE例文帳に追加

マスクパターン偏倍方法、偏倍装置及びマスク構造体 - 特許庁

The third layer is etched using the mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

マスクパターンをエッチングマスクとして第３の層をエッチングする。 - 特許庁

METHOD FOR CREATING MASK PATTERN OF MASK FOR EXPOSURE FOR FORMING DIFFUSION LAYER例文帳に追加

拡散層形成用露光マスクのマスクパターン作製方法 - 特許庁

METHOD OF CREATING MASK PATTERN DATA AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターンデータの生成方法およびマスクの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND PATTERN INSPECTION PROGRAM例文帳に追加

パターン検査方法、露光用マスク、およびパターン検査プログラム - 特許庁

MASK, RESIST PATTERN, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

マスク及びレジストパターン並びにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, PATTERN PROCESSOR AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

パターン形成方法、パターン処理装置および露光マスク - 特許庁

EXPOSURE MASK, PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

露光用マスク、パターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR DIVIDING MASK PATTERN AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

マスクパターン分割方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK AND PATTERN FORMING METHOD THEREFOR例文帳に追加

露光用マスク及びパターン形成方法 - 特許庁

EXPOSING MASK AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

露光用マスク及びパターン形成方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

露光用マスク及びパターン形成方法 - 特許庁

MASK PATTERN FORMATION METHOD AND PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパタンの形成方法、およびフォトマスク - 特許庁

MASK TRANSFER LASER PATTERN MACHINING METHOD例文帳に追加

マスク転写式レーザ形状加工方法 - 特許庁

MASK PATTERN FOR FINE STRUCTURE FORMATION EXPERIMENT例文帳に追加

微細構造形成実験用マスクパターン - 特許庁

PROBING PAD, MASK PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

プロービングパッド、マスクパターン、及び電子デバイス - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの近接効果補正方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD ACCOMPANIED WITH PATTERN MASK例文帳に追加

パターンマスクを伴うプラズマエッチングの方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

パターン形成方法及び位相シフトマスク - 特許庁

PREPARING METHOD OF MASK PATTERN AND PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターンの作製方法及びフォトマスク - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND CORRECTION DEVICE例文帳に追加

マスクパターン補正方法及び補正装置 - 特許庁

COATING METHOD, AND MASK FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

塗布方法およびパターン形成用マスク - 特許庁

MASK PATTERN FOR FINE STRUCTURE FORMING EXPERIMENT例文帳に追加

微細構造形成実験用マスクパターン - 特許庁

MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD, PROGRAM THEREFOR, AND MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION APPARATUS例文帳に追加

マスクパターン外観検査方法及びそのプログラム及びマスクパターン外観検査装置 - 特許庁