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「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > MASK patternの意味・解説 > MASK patternに関連した英語例文

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MASK patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5189



例文

MASK AND MASK PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

マスク及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN MASK FOR PROJECTOR例文帳に追加

プロジェクタ用パターンマスク - 特許庁

MANUFACTURE OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの作製法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法 - 特許庁

例文

MASK PATTERN VERIFYING DEVICE例文帳に追加

マスクパターン検証装置 - 特許庁


例文

MASK PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

マスクパターン形成方法 - 特許庁

MASK PATTERN CREATION METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成方法 - 特許庁

MASK PATTERN DETERMINING METHOD例文帳に追加

マスクパターン判定方法 - 特許庁

MASK PATTERN GENERATION METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成方法 - 特許庁

例文

MASK PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

マスクパターン生成方法 - 特許庁

例文

MASK PATTERN DRAWING METHOD例文帳に追加

マスクパターン描画方法 - 特許庁

MASK PATTERN COVERING MATERIAL例文帳に追加

マスクパターン被覆材料 - 特許庁

INSPECTION OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの検査方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターン形成方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND MASK PATTERN CORRECTION APPARATUS例文帳に追加

マスクパターン補正方法及びマスクパターン補正装置 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターン設計方法 - 特許庁

MASK PATTERN DESIGN METHOD例文帳に追加

マスクパターンの設計方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND MASK PATTERN FORMATION SYSTEM例文帳に追加

マスクパターン補正方法及びマスクパターン作成システム - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM AND MASK PATTERN CORRECTION SYSTEM例文帳に追加

マスクパターン補正プログラムおよびマスクパターン補正システム - 特許庁

Subsequently, the mask pattern is formed on a mask blank.例文帳に追加

マスクブランクに、マスクパターンを形成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの形成方法 - 特許庁

DESIGN METHOD OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの設計方法 - 特許庁

FORMING METHOD FOR MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの作成方法 - 特許庁

MASK PATTERN AND STENCIL MASK USING THE SAME例文帳に追加

マスクパターン及びそれを用いるステンシルマスク - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

マスクパターン補正方法及び露光用マスク - 特許庁

MASK PATTERN PROCESSING APPARATUS, MASK PATTERN PROCESSING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン処理装置、マスクパターン処理方法、およびプログラム - 特許庁

SYSTEM FOR CORRECTING MASK PATTERN AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの補正システム及びマスクパターンの補正方法 - 特許庁

MASK PATTERN IMAGING APPARATUS例文帳に追加

マスクパターン画像形成装置 - 特許庁

MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND MASK PATTERN PREPARING METHOD例文帳に追加

マスクパターン検証方法およびマスクパターン作成方法 - 特許庁

MASK DATA PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

マスクデータパターン生成方法 - 特許庁

METHOD FOR MAKING MASK PATTERN DATA例文帳に追加

マスクパターンデータ作成方法 - 特許庁

SHADOW MASK WITH PATTERN CORRECTED例文帳に追加

パターン補正されたシャドウマスク - 特許庁

MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD, MASK AND MASK PATTERN DATA GENERATION PROGRAM例文帳に追加

マスクパターンデータ生成方法、マスクの製造方法、マスク及びマスクパターンデータ生成プログラム - 特許庁

PATTERN EXPOSURE MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加

パタ—ン露光マスクおよびパタ—ン露光方法 - 特許庁

MASK FOR FORMING THIN FILM PATTERN例文帳に追加

薄膜パターン形成用マスク - 特許庁

METHOD FOR FIXING AND HOLDING PATTERN MASK例文帳に追加

パターンマスク固定保持方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING MASK PATTERN IMAGE例文帳に追加

マスクパターン画像処理方法 - 特許庁

MASK PATTERN FORMING METHOD, MASK AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成方法、マスクおよびレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING MASK PATTERN DATA例文帳に追加

マスクパターンデータの処理方法 - 特許庁

MASK PATTERN ALLOCATING METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD AND PROGRAM, AND MASK例文帳に追加

マスクパターン配置方法、マスク作製方法、プログラムおよびマスク - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

MASK AND METHOD FOR MEASURING DIMENSION OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスクおよびマスクパターンの寸法測定方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, AND MASK例文帳に追加

パターン形成方法及びマスク - 特許庁

MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

マスクおよびパタン転写方法 - 特許庁

MASK PATTERN MEASURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン形状計測方法 - 特許庁

VERIFYING METHOD FOR MASK PATTERN, PROGRAM FOR VERIFYING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターン検証方法、マスクパターン検証用プログラム、及びマスク製造方法 - 特許庁

The hard mask pattern is formed using the left first mask pattern and second mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

残留する第1のマスクパターン及び第2のマスクパターンをエッチングマスクとして用い、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁

MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING MASK例文帳に追加

マスク及びマスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁

MASK FOR FORMING ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN AND MASK DEVICE例文帳に追加

導電パターン形成用マスク及びマスク装置 - 特許庁

例文

MASK MANUFACTURING SYSTEM AND CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスク製造システム及びマスクパターン補正方法 - 特許庁




  
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