| 意味 | 例文 |
MASK patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5189件
MANUFACTURE OF MASK PATTERN例文帳に追加
マスクパターンの作製法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法 - 特許庁
MASK PATTERN DETERMINING METHOD例文帳に追加
マスクパターン判定方法 - 特許庁
MASK PATTERN GENERATION METHOD例文帳に追加
マスクパターン作成方法 - 特許庁
MASK PATTERN COVERING MATERIAL例文帳に追加
マスクパターン被覆材料 - 特許庁
INSPECTION OF MASK PATTERN例文帳に追加
マスクパターンの検査方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND MASK PATTERN CORRECTION APPARATUS例文帳に追加
マスクパターン補正方法及びマスクパターン補正装置 - 特許庁
MASK PATTERN DESIGN METHOD例文帳に追加
マスクパターンの設計方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND MASK PATTERN FORMATION SYSTEM例文帳に追加
マスクパターン補正方法及びマスクパターン作成システム - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM AND MASK PATTERN CORRECTION SYSTEM例文帳に追加
マスクパターン補正プログラムおよびマスクパターン補正システム - 特許庁
Subsequently, the mask pattern is formed on a mask blank.例文帳に追加
マスクブランクに、マスクパターンを形成する。 - 特許庁
DESIGN METHOD OF MASK PATTERN例文帳に追加
マスクパターンの設計方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND EXPOSURE MASK例文帳に追加
マスクパターン補正方法及び露光用マスク - 特許庁
MASK PATTERN PROCESSING APPARATUS, MASK PATTERN PROCESSING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加
マスクパターン処理装置、マスクパターン処理方法、およびプログラム - 特許庁
SYSTEM FOR CORRECTING MASK PATTERN AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加
マスクパターンの補正システム及びマスクパターンの補正方法 - 特許庁
MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND MASK PATTERN PREPARING METHOD例文帳に追加
マスクパターン検証方法およびマスクパターン作成方法 - 特許庁
MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD, MASK AND MASK PATTERN DATA GENERATION PROGRAM例文帳に追加
マスクパターンデータ生成方法、マスクの製造方法、マスク及びマスクパターンデータ生成プログラム - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING MASK PATTERN IMAGE例文帳に追加
マスクパターン画像処理方法 - 特許庁
MASK PATTERN FORMING METHOD, MASK AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
マスクパターン作成方法、マスクおよびレジストパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING MASK PATTERN DATA例文帳に追加
マスクパターンデータの処理方法 - 特許庁
MASK PATTERN ALLOCATING METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD AND PROGRAM, AND MASK例文帳に追加
マスクパターン配置方法、マスク作製方法、プログラムおよびマスク - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
マスクおよびパタン転写方法 - 特許庁
MASK PATTERN MEASURING METHOD例文帳に追加
マスクパターン形状計測方法 - 特許庁
VERIFYING METHOD FOR MASK PATTERN, PROGRAM FOR VERIFYING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクパターン検証方法、マスクパターン検証用プログラム、及びマスク製造方法 - 特許庁
The hard mask pattern is formed using the left first mask pattern and second mask pattern as an etching mask.例文帳に追加
残留する第1のマスクパターン及び第2のマスクパターンをエッチングマスクとして用い、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁
MASK FOR FORMING ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN AND MASK DEVICE例文帳に追加
導電パターン形成用マスク及びマスク装置 - 特許庁
MASK MANUFACTURING SYSTEM AND CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN例文帳に追加
マスク製造システム及びマスクパターン補正方法 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|