「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

PATTERN FORMING MASK, AND PATTERN FORMING DEVICE USING THE MASK例文帳に追加

パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

マスクパターン補正方法，マスクパターン補正装置およびそのプログラム - 特許庁

A mask pattern 15 stores the mask pattern data posterior to compaction processing.例文帳に追加

マスクパターン１５は、コンパクト化処理後のマスクパターンデータを格納する。 - 特許庁

PATTERN MASK FOR ELECTRON BEAM IRRADIATION例文帳に追加

電子線照射用パターンマスク - 特許庁

MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

マスク及びパターン形成方法 - 特許庁

PRODUCTION OF MASK FOR PATTERN TRANSFER AND MASK FOR PATTERN TRANSFER例文帳に追加

パターン転写用マスクの製造方法及びパターン転写用マスク - 特許庁

AUTOMATIC LAYOUT DEVICE FOR MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの自動レイアウト装置 - 特許庁

PATTERN ARRANGEMENT METHOD OF EXPOSURE MASK例文帳に追加

露光マスクのパタン配置方法 - 特許庁

MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, PATTERN-FORMING APPARATUS AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、パターン形成装置、パターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK FOR EXPOSURE TO LIGHT, AND MASK-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND MASK FORMING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

マスクパターンデータ作成方法、マスクパターン形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MASK PATTERN例文帳に追加

半導体装置およびマスクパターン - 特許庁

METHOD FOR FORMING MASK AND PATTERN例文帳に追加

マスクおよびパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN-DRAWING METHOD, MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターン描画方法、マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加

マスクパターン補正装置、マスクパターン補正プログラムおよび露光用マスクの製造方法 - 特許庁

VERIFICATION METHOD OF MASK PATTERN DATA, MANUFACTURING METHOD OF MASK, AND VERIFICATION PROGRAM OF MASK PATTERN DATA例文帳に追加

マスクパタンデータの検証方法、マスクの製造方法、マスクパタンデータの検証プログラム - 特許庁

MASK PATTERN TRANSFER METHOD, MASK PATTERN TRANSFER DEVICE, MANUFACTURE THEREOF, AND TRANSFER MASK例文帳に追加

マスクパタ—ン転写方法、マスクパタ—ン転写装置、デバイス製造方法及び転写マスク - 特許庁

DEVICE FOR CREATING MASK PATTERN, METHOD FOR CREATING MASK PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン生成装置、マスクパターン生成方法及び半導体装置 - 特許庁

Then the mask material pattern and resist pattern are used as a mask to process the substrate.例文帳に追加

そして、マスク材パターンとレジストパターンをマスクに基板を加工する。 - 特許庁

SHADOW MASK AND ETCHING MASK PATTERN FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

シャドウマスク及びシャドウマスク製造用エッチングマスクパターン - 特許庁

MASK AND METHOD FOR FORMING HOLE PATTERN BY USING THE MASK例文帳に追加

マスク及びそれを用いたホールパターン形成方法 - 特許庁

MASK PATTERN VERIFICATION METHOD, MASK PATTERN GENERATION METHOD, PATTERN DATA PROCESSOR, AND PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン検証方法、マスクパターン作成方法、パターンデータ処理装置、およびプログラム - 特許庁

MASK PATTERN TRANSFER METHOD, MASK PATTERN TRANSFER EQUIPMENT USING THE MASK PATTERN TRANSFER METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン転写方法、該マスクパターン転写方法を用いたマスクパターン転写装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁

MASK PATTERN DATA PREPARATION METHOD, MASK PATTERN DATA PREPARATION PROGRAM, MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成プログラム、マスク、半導体装置の製造方法 - 特許庁

PATTERN DRAWING DEVICE, PATTERN DRAWING METHOD, AND MASK例文帳に追加

パターン描画装置、パターン描画方法、及びマスク - 特許庁

MASK PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成方法及びパターン形成方法 - 特許庁

GENERATING MASK PATTERN FOR ALTERNATING PHASE-SHIFT MASK LITHOGRAPHY例文帳に追加

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンの生成 - 特許庁

METHOD FOR PATTERN FORMING USING MASK例文帳に追加

マスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁

MASK PATTERN FORMING METHOD AND SYSTEM例文帳に追加

マスクパターン作成方法及びシステム - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND PROGRAM, AND PHOTOMASK USING MASK PATTERN CORRECTION METHOD例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、プログラム及び該補正方法を用いたフォトマスク - 特許庁

PATTERN EVALUATING METHOD AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加

パターン評価方法およびマスクパターンの補正方法 - 特許庁

PATTERN EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

パターン露光方法および露光マスク - 特許庁

METHOD FOR EXPOSING CIRCUIT PATTERN AND MASK例文帳に追加

回路パターン露光方法及びマスク - 特許庁

MASK PATTERN PREPARING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

マスクパターン作成方法および装置 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE MASK例文帳に追加

露光用マスク、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN CIRCUIT AND MASK CORRECTION SYSTEM例文帳に追加

マスクパターン回路修正方法及びマスク修正システム - 特許庁

METAL MASK, ITS MASK PATTERN PART AND REINFORCING FRAME BODY例文帳に追加

メタルマスク並びにそのマスクパターン部及び補強用枠体 - 特許庁

GRAY TONE MASK, PATTERN TRANSFER METHOD AND GRAY TONE MASK BLANK例文帳に追加

グレートーンマスク、パターン転写方法、及びグレートーンマスクブランク - 特許庁

EXPOSURE MASK, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置 - 特許庁

CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM例文帳に追加

マスクパタ—ン補正方法及びマスクパタ—ン補正プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

METHOD OF DESIGNING MASK PATTERN SET, MASK PATTERN SET, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

マスクパターンセットを設計する方法、マスクパターンセット、及びデバイス製造方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MASK PATTERN THEREOF例文帳に追加

半導体装置およびそのマスクパターン - 特許庁