「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

MASK, METHOD FOR CONTROLLING PATTERN DIMENSION, AND CONTROLLING APPARATUS FOR PATTERN DIMENSION例文帳に追加

マスク、パターン寸法制御方法およびパターン寸法制御装置 - 特許庁

VERIFYING DEVICE OF SEMICONDUCTOR LAYOUT PATTERN AND MASK PATTERN GENERATING DEVICE例文帳に追加

半導体レイアウトパタン検証装置及びマスクパタン生成装置 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE TRANSFER AND PATTERN ARRANGEMENT METHOD例文帳に追加

露光転写用マスク及びパタン配置方法 - 特許庁

ETCHING MASK AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN例文帳に追加

エッチングマスク及び微細パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING HARD MASK PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子のハードマスクパターン形成方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

マスク製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOMASK AND METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN OF THE SAME例文帳に追加

フォトマスク及びそのマスクパターン設計方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, MASK SET, AND ALIGNER例文帳に追加

パターン形成方法、マスクセット、及び露光装置 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MASK LAYOUT PATTERN CORRECTION/ VERIFICATION DEVICE例文帳に追加

半導体マスクレイアウトパターン補正・検証装置 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF MASK例文帳に追加

パターン検査方法及びマスクの製造方法 - 特許庁

PATTERN LAYOUT METHOD FOR PHOTO-MASK FOR PATTERN TRANSFER AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTO-MASK FOR PATTERN TRANSFER AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン転写用フォトマスクのパターンレイアウト方法、パターン転写用フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a method of forming a mask pattern structure and a method of forming a fine pattern using the method of forming a mask pattern structure.例文帳に追加

マスクパターン構造物の形成方法とこれを利用した微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The first hard mask layer pattern is etched by using the second photoresist pattern, to form a second hard mask layer pattern.例文帳に追加

第２フォトレジストパターンを用いて、第１ハードマスク層パターンをエッチングして、第２ハードマスク層パターンを形成する。 - 特許庁

Correction quantities, needed for the mask pattern, which are found by comparing the mask pattern with patterns on the wafer actually obtained through the photolithography process using the mask pattern are prepared by mask pattern density as correction data by the mask pattern density.例文帳に追加

マスクパターン密度ごとに、マスクパターンとこれを用いたフォトリソグラフィプロセスにより実際に得られるウエハ上のパターンとの比較より求めた、マスクパターンに必要な補正量を、マスクパターン密度ごとの補正データとして予め準備する。 - 特許庁

SOI WAFER, TRANSFERRING MASK BLANK, TRANSFERRING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFERRING MASK, AND PATTERN EXPOSURE METHOD USING TRANSFERRING MASK例文帳に追加

ＳＯＩウェハ、転写マスクブランク、転写マスク、転写マスクの製造方法、及び転写マスクを用いたパターン露光方法 - 特許庁

To provide an accurate mask pattern-inspection method, an accurate mask pattern-inspection apparatus, and a manufacturing method of a mask using the apparatus.例文帳に追加

高精度なマスクのパターン検査方法とパターン検査装置、およびそれを用いたマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

MANUFACTURE OF MASK AND MASK PATTERN DATA FORMING DEVICE AS WELL AS RECORDING MEDIUM例文帳に追加

マスク製作方法及びマスクパターンデータ作成装置並びに記録媒体 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR FORMING EXPOSURE MASK AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

パターン形成方法、露光用マスクの形成方法及び露光用マスク - 特許庁

The mask substrate essentially comprising a quartz glass on which a mask pattern is formed.例文帳に追加

マスク基板は、マスクパターンが形成される石英ガラスを主成分とする。 - 特許庁

MASK DATA GENERATION METHOD, EXPOSURE MASK PREPARATION METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

マスクデータ生成方法、露光マスク作成方法およびパターン形成方法 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK BLANK, MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極端紫外線露光用マスクブランク及びマスク並びにパターン転写方法 - 特許庁

MASK CASE, MASK CASSETTE, PATTERN TRANSFER METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY APPARATUS例文帳に追加

マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁

MEMBRANE MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND POSITION ACCURACY-MAINTAINING METHOD OF MASK PATTERN例文帳に追加

メンブレンマスク、その製造方法及びマスクパターンの位置精度保持方法 - 特許庁

In the exposure mask having a mask pattern to be transferred onto a substrate by means of the projection optical system of the aligner, the mask pattern includes a pattern group consisting of a main pattern and an assist pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁

In an exposure mask having a mask pattern which is to be transferred onto a substrate by a projection optical system of an exposure apparatus, the mask pattern contains a pattern group comprising a main pattern and an assist pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁

To suppress reduction in the intensity of diffracted light from a mask pattern when the pitch of the mask pattern narrows.例文帳に追加

マスクパターンのピッチが狭くなった時のマスクパターンからの回折光の強度低下を抑える。 - 特許庁

Thus, the mask pattern 4a in the same shape as the mask pattern 2a is formed on the dry film 4.例文帳に追加

これによって、ドライフィルム４にマスクパターン２ａと同一形状のマスクパターン４ａを形成する。 - 特許庁

By utilizing the hard mask pattern 60 as an etching mask, a fine pattern of a semiconductor element is formed.例文帳に追加

ハードマスクパターン６０をエッチングマスクとして利用し半導体素子の微細パターンを形成する。 - 特許庁

MASK PATTERN FORMING METHOD, PATTERNING METHOD USING MASK PATTERN, AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターンの形成方法、該マスクパターンを用いたパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

STORING VESSEL FOR PATTERN TRANSFER MASK, CLEANING DEVICE FOR PATTERN TRANSFER MASK AND WASHING METHOD THEREOF例文帳に追加

パターン転写マスク用収納容器、パターン転写マスクの洗浄装置およびその洗浄方法 - 特許庁

Then a region in which dummy pattern can be arranged in the mask is determined based on the mask pattern layout.例文帳に追加

その後、マスクパターンレイアウトに基づき、マスクにおけるダミーパターン配置可能領域を決定する。 - 特許庁

The hard mask layer is etched by using the first photoresist pattern to form a first hard mask layer pattern.例文帳に追加

第１フォトレジストパターンを用いて、ハードマスク層をエッチングして第１ハードマスク層パターンを形成する。 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE AND METHOD FOR CORRECTING ITS PATTERN例文帳に追加

露光用マスク及びそのパターンの補正方法 - 特許庁

PARALLEL LINE PATTERN MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

平行線型マスクおよびその製造方法 - 特許庁

MASK FOR FORMING PATTERN AND CLEANING METHOD例文帳に追加

パターン形成用マスクおよびその洗浄方法 - 特許庁

OPTIMIZATION OF ILLUMINATION FOR SPECIFIC MASK PATTERN例文帳に追加

特定のマスク・パターンのための照明の最適化 - 特許庁

METHOD FOR SETTING MASK PATTERN AND LIGHTING CONDITION例文帳に追加

マスクパターン及び照明条件の設定方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR VERIFYING MASK LAYOUT PATTERN DATA例文帳に追加

マスクレイアウトパターンデータ検証方法および装置 - 特許庁

ETCHING METHOD USING PHOTORESIST PATTERN AS MASK例文帳に追加

フォトレジストパターンをマスクに利用するエッチング方法 - 特許庁

A mask pattern 11 is formed on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上にマスクパターン１１を形成する。 - 特許庁

VERIFICATION APPARATUS AND VERIFICATION METHOD FOR MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの検証装置および検証方法 - 特許庁

A fourth mask layer is formed on the first mask layer, and the first mask layer is formed in a line pattern shape with the fourth mask layer as a mask.例文帳に追加

第１マスク層上に第４マスク層を形成し、第４マスク層をマスクにして第１マスク層をラインパターン形状に成形する。 - 特許庁

PATTERN CORRECTING METHOD FOR MASK FOR EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

露光マスクのパターン補正方法、パターン形成方法およびプログラム - 特許庁

PATTERN FILM FORMATION METHOD, MATERIAL FOR MASK AND PATTERN FILM FORMATION SYSTEM例文帳に追加

パターン膜形成方法、マスク用材料、およびパターン膜形成システム - 特許庁

To provide a reflection type mask and a mask blank which enables an accurate and rapid mask pattern inspection.例文帳に追加

正確かつ迅速なマスクパターン検査を可能とする反射型マスク及びマスクブランクスを提供する。 - 特許庁