「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To impart a guideline to a designer when a mask pattern needs to be altered after a desired pattern and the pattern of a mask are verified.例文帳に追加

所望パターンとマスクのパターンとを検証し、マスクパターンの変更が必要な場合に設計者に指針を与えること。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN FOR EXTREMELY SHORT ULTRAVIOLET LIGHT例文帳に追加

極短紫外光用マスクパターンの補正方法 - 特許庁

WINDING MECHANISM OF MASK PATTERN FILM AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

マスクパターンフィルムの巻き付け機構及び露光装置 - 特許庁

MASTER PATTERN CREATION METHOD AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成方法およびマスク製造方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK AND FORMATION METHOD OF PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

露光用マスク及びフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁

The mask can be selectively pattern-formed.例文帳に追加

マスクは選択的にパターン形成することができる。 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTING METHOD AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法、及びフォトマスク作製方法 - 特許庁

PHOTO MASK AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

フォトマスク及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

MASK BLANK, PROTECTIVE FILM USED THEREFOR, AND PATTERN FORMING METHOD FOR MASK BLANK例文帳に追加

マスクブランク、並びにこれに用いる保護膜とマスクブランクのパターン形成方法 - 特許庁

Then, a mask registration section 16 reads a mask pattern corresponding to a print mode from the mask pattern storage section 15 and registers it in a mask registration memory 17.例文帳に追加

そして、マスク登録部１６により、印刷モードに応じたマスクパターンをマスクパターン記憶部１５から読み出し、マスク登録用メモリ１７に登録する。 - 特許庁

The magnetic resistance effect film is etched using the first mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

第１のマスクパターンをエッチングマスクとして、磁気抵抗効果膜をエッチングする。 - 特許庁

STENCIL MASK BLANK, STENCIL MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加

ステンシルマスクブランク、ステンシルマスク、及びその製造方法、並びにパターン露光方法 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK AND MASK BLANK, AND PATTERN TRANSFERRING METHOD例文帳に追加

極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN FOR EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加

露光用マスクパターンの補正方法、並びに露光用マスクの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND THE TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

A first mask pattern, having low wettability over a conductive layer is formed, a second mask pattern having high wettability over the conductive layer using the first mask pattern as a mask is formed, and a mask pattern for etching the conductive layer by removing the first mask pattern is formed.例文帳に追加

本発明は、導電層上に塗れ性の低い第１のマスクパターンを形成し、該第１のマスクパターンをマスクとして導電層上に塗れ性の高い第２のマスクパターンを形成した後、第１のマスクパターンを除去して、導電層をエッチングするためのマスクパターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

A photomask 11 for a test has a first mask pattern 21 and a second mask pattern 22 formed in a central portion of the first mask pattern 21.例文帳に追加

試験用フォトマスク１１は、第１のマスクパターン２１と、第１のマスクパターン２１の中心部位に設けられた第２のマスクパターン２２とが形成されている。 - 特許庁

A mask pattern produced by the dynamic mask module 100 is of a dynamic image, and thus the mask pattern is changeable at any time.例文帳に追加

ダイナミックマスクモジュール１００により生成されるマスクパターンはダイナミックなイメージであり、そのマスクパターンはいつでも変更可能である。 - 特許庁

To protect a pattern face of a mask including a cylindrical pattern face.例文帳に追加

円筒面状にパターン面を有するマスクのパターン面を保護すること。 - 特許庁

MASK PATTERN FORMING METHOD, FINE PATTERN FORMING METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

マスクパターンの形成方法、微細パターンの形成方法及び成膜装置 - 特許庁

METAL MASK, IMPLEMENT FOR REGULATION OF FUNCTIONAL PATTERN AND FUNCTIONAL PATTERN REGULATING METHOD例文帳に追加

メタルマスク、機能パターン調整用治具および機能パターン調整方法 - 特許庁

Then, a mask pattern for the boundary part is drawn based on the pattern data 3.例文帳に追加

そして、パターンデータ３に基づいて、境界部のマスクパターンを描画する。 - 特許庁

VERNIER PATTERN AND MASK MATCHING METHOD USING THE SAME AND PATTERN METERING METHOD例文帳に追加

バーニアパターン及びそれを用いたマスク合わせ方法、パターン測長方法 - 特許庁

Also, the pattern accuracy of the mask pattern is reverse calculated from the design margin M.例文帳に追加

また、この設計マージンＭからマスクパターンのパターン精度を逆算する。 - 特許庁

MASK PATTERN FORMING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

マスクパターンの形成方法及びマスクパターン形成装置 - 特許庁

A pattern on the mask MA, however, is out of focus.例文帳に追加

しかし、マスクＭＡ上のパターンは焦点がずれる。 - 特許庁

The pattern forming method comprises steps of forming one mask pattern with low wettability on the film, then forming a second mask pattern by applying or discharging a highly wettable material on the film via the first mask pattern, removing the first mask pattern and then removing a part of the first film using the second mask pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の一は、膜上にぬれ性の低い１のマスクパターンを形成した後、第１のマスクパターンを介して、膜上にぬれ性の高い材料を塗布又は吐出して第２のマスクパターンを形成し、第１のマスクパターンを除去して、第２のマスクパターンをマスクとして第１の膜の一部を除去する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, METHOD FOR VERIFYING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン補正方法、マスクパターン検証方法、フォトマスク製造方法および半導体装置製造方法 - 特許庁

EXPOSURE METHOD, MASK FOR TRANSFERRING PATTERN AND ALIGNER例文帳に追加

露光方法、パターン転写用マスク及び露光装置 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN FOR EXPOSURE, PROGRAM, MASK PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光用マスクパターンの補正方法、プログラム、マスクパターン形成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK REPEATER, PATTERN DRAWING APPARATUS AND GRAY SCALE METHOD例文帳に追加

マスクリピータ、パターン描画装置、及びグレースケール手法 - 特許庁

A binarized mask pattern storage circuit 3 stores a standard dictionary of a binarized mask pattern of a character or figure category.例文帳に追加

２値マスクパターン記憶回路３は、文字や図形カテゴリの２値マスクパターンの標準辞書を記憶している。 - 特許庁

EXPOSURE MASK, ALIGNER AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN例文帳に追加

露光用マスク、露光装置およびパターン製造方法 - 特許庁

METHOD FOR AUTOMATICALLY CORRECTING MASK-PATTERN DATA AND ITS PROGRAM例文帳に追加

マスクパターンデータ自動補正方法及びそのプログラム - 特許庁

LITHOGRAPHY MASK AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN例文帳に追加

リソグラフィーマスク及び微細パターンを作製する方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR WASHING PATTERN MASK FOR PRINTING例文帳に追加

印刷用パターンマスクの洗浄方法および装置 - 特許庁

MASK PATTERN DATA GENERATING SYSTEM AND DATA GENERATION METHOD例文帳に追加

マスクパターンデータ作成システムおよびデータ作成方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MASK PATTERN INSPECTION例文帳に追加

マスクパターンの検査方法およびマスクパターン検査装置 - 特許庁

LITHOGRAPHY EVALUATION PATTERN, MASK HAVING THE PATTERN AND ADJUSTING METHOD OF LITHOGRAPHY DEVICE USING THE MASK例文帳に追加

リソグラフィ評価用パターン、該パターンを有するマスク、及び該マスクを使用するリソグラフィ装置の調節方法 - 特許庁

The mask 10 has a mask pattern formed of through holes for charged particles to travel through, and the mask pattern comprises four mask regions 10-1 to 10-4 each having one and the same pattern.例文帳に追加

荷電粒子線が通過する貫通孔によりマスクパターンが形成されたマスク１０であって、同一のマスクパターンが形成された４つのマスク領域１０−１〜１０−４を有する。 - 特許庁

To provide a mask capable of preventing the contact thereof with a pattern and a pattern forming method in a pattern formation using the mask.例文帳に追加

マスクを用いたパターン形成において、パターンとマスクとの接触を防止したマスクおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD BY PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの作製方法、位相シフトマスクによるパターン露光方法 - 特許庁

A lower hard mask 109 is etched using the first and second etching mask patterns to form a hard mask pattern.例文帳に追加

第１及び第２のエッチングマスクパターンで下部のハードマスク１０９をエッチングし、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, THE GRAY TONE MASK, METHOD FOR INSPECTING THE GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、グレートーンマスクの検査方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁