「MASKLESS」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

MASKLESS EXPOSURE DEVICE AND MASKLESS EXPOSURE METHOD例文帳に追加

マスクレス露光装置およびマスクレス露光方法 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE OBSERVATION DEVICE例文帳に追加

マスクレス露光観察装置 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD OF MASKLESS EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

マスクレス露光装置及びマスクレス露光装置の露光方法 - 特許庁

EXPOSURE METHOD OF MASKLESS EXPOSURE APPARATUS, AND MASKLESS EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

マスクレス露光装置の露光方法およびマスクレス露光装置 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

マスクレス露光方法及び装置 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE METHOD AND DEVICE例文帳に追加

マスクレス露光方法及び装置 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL WAVEGUIDE ARRAY AND MASKLESS EXPOSURE METHOD例文帳に追加

マスクレス露光装置、光導波路アレイの製造方法及びマスクレス露光方法 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD THEREOF例文帳に追加

マスクレス露光装置及びその露光方法 - 特許庁

METHOD FOR MASKLESS PARTICLE-BEAM EXPOSURE例文帳に追加

マスクなし粒子ビーム露光のための方法 - 特許庁

PROJECTION OPTICAL SYSTEM FOR MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィのための投影光学系 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE APPARATUS AND SUBSTRATE OBSERVATION METHOD例文帳に追加

マスクレス露光装置および基板観察方法 - 特許庁

LARGE AREA MASKLESS EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

大面積マスクレス露光方法及び露光装置 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE SYSTEM USING MEMS DEVICE例文帳に追加

ＭＥＭＳ装置を使用したマスクレスの露光システム - 特許庁

UNIFORM BACKGROUND RADIATION OF MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

マスクレスリソグラフィにおける均一なバックグラウンド放射 - 特許庁

PATTERN DEFINITION DEVICE FOR MASKLESS PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

マスクレス粒子ビーム露光装置用パターン規定デバイス - 特許庁

a kabuki dance performed by a maskless man, which was introduced from noh theatre 例文帳に追加

能楽の男舞いを取り入れた歌舞伎舞踊 - EDR日英対訳辞書

MASKLESS PARTICLE BEAM DEVICE FOR EXPOSING PATTERN ON SUBSTRATE例文帳に追加

パターンを基板上に露光するマスクレス粒子ビーム装置 - 特許庁

MASKLESS SELECTIVE BORON-DOPED EPITAXIAL GROWTH例文帳に追加

マスク無しの選択的なボロン添加されたエピタキシャル成長 - 特許庁

of Noh dances, the dance {of bravery} performed by a maskless actor, called 'otokomai' 例文帳に追加

面をつけない男が舞う,能楽の勇壮な舞い - EDR日英対訳辞書

ILLUMINATION SYSTEM AND MASKLESS LITHOGRAPHIC SYSTEM HAVING THE ILLUMINATION SYSTEM例文帳に追加

照明システム及び照明システムを有するマスクレスリソグラフィシステム - 特許庁

MULTI-BEAM DEFLECTOR ARRAY DEVICE FOR MASKLESS PARTICLE-BEAM PROCESSING例文帳に追加

マスクレス粒子ビーム処理のための多重ビーム偏向器アレーデバイス - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR FAULT INDICATION ON SUBSTRATE IN MASKLESS APPLICATIONS例文帳に追加

マスクレスの用途で基板上に欠陥を表示するシステム及び方法 - 特許庁

To provide a maskless lithography apparatus which can increase its processing amount.例文帳に追加

処理量を増大可能なマスクレス・リソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

ILLUMINATION OF PATTERNING DEVICE BASED ON INTERFERENCE FOR USE IN MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

マスクレスリソグラフィで用いる干渉に基づいたパターニングデバイスの照明 - 特許庁

METHOD OF FORMING GRAY SCALE ON OBJECT AND MASKLESS LITHOGRAPHIC SYSTEM例文帳に追加

対象上にグレースケールを形成する方法およびマスクレスリソグラフィシステム - 特許庁

METHOD FOR FORMING GRAY SCALE ON OBJECT AND MASKLESS LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

対象上にグレースケールを形成する方法およびマスクレスリソグラフィシステム - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

マスクレス露光機及びこれを用いた表示装置用基板の製造方法 - 特許庁

To improve the accuracy of a device structure formed by a maskless lithography system.例文帳に追加

マスクレスリソグラフィシステムにより形成されるデバイス構造の精度を向上する。 - 特許庁

EXPOSURE APPARATUS EMPLOYING MASKLESS INTERFERENCE EXPOSURE UNIT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクレスの干渉露光ユニットを用いる露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

MASKLESS LITHOGRAPHY SYSTEM FOR FORMING GRAY SCALE PATTERN ON OBJECT AND METHOD FOR FORMING GRAY SCALE PATTERN ON OBJECT BETWEEN MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

対象上にグレースケールパターンを形成するためのマスクレスリソグラフィシステム及びマスクレスリソグラフィの間に対象上にグレースケールパターンを形成するための方法 - 特許庁

To provide a maskless exposure apparatus superior in energy efficiency by facilitating adjustment.例文帳に追加

調整が容易で、エネルギー効率に優れるマスクレス露光装置を提供すること。 - 特許庁

MASKLESS EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD THEREOF, AND METHOD FOR MANUFACTURING WIRING BOARD例文帳に追加

マスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR VERIFYING AND CONTROLLING PERFORMANCE OF MASKLESS LITHOGRAPHY TOOL例文帳に追加

マスクレスリソグラフィツールのパフォーマンスを検査およびコントロールするためのシステムおよび方法 - 特許庁

To provide an apparatus and method that more efficiently and effectively performs maskless lithography.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィをより効率的に実行する装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To achieve a maskless exposure method for improving alignment accuracy without decreasing throughput.例文帳に追加

スループットを低下させずアライメント精度を向上させたマスクレス露光方法を実現する。 - 特許庁

To provide a maskless exposure system for selectively exposing a photosensitive work surface.例文帳に追加

感光処理表面を選択的に露光させるためのマスクレス露光システムを提供する。 - 特許庁

OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR ILLUMINATING REFLECTIVE SPATIAL LIGHT MODULATOR FOR MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

マスクレスリソグラフィの反射型空間光変調器を照明するための光学系および方法 - 特許庁

To provide a method and a device for maskless exposure that can perform efficient maskless exposure with illumination light having high directivity, and to provide a method and a device for maskless exposure that can improve exposure efficiency of solder resist.例文帳に追加

指向性の高い照明光により効率よくマスクレス露光を行うことができるマスクレス露光方法およびマスクレス露光装置を提供すると共に、ソルダレジストの露光効率を向上させることができるマスクレス露光方法およびマスクレス露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method which are used to improve maskless lithography technology.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィ技術を改善するために使用されるシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

To minimize scattered light in a maskless lithography system having multiple pattern generating devices.例文帳に追加

マルチパターン生成装置をもつマスクレスリソグラフィシステムにおいて、散乱光を最小化する。 - 特許庁

To provide a maskless exposure device which has high resolving power and superior practicability with relatively simple and inexpensive constitution although requiring no mask, and to provide an exposure method of the maskless exposure device.例文帳に追加

マスク不要でありながら比較的単純、安価な構成で高解像力を有する実用性に優れたマスクレス露光装置及びマスクレス露光装置の露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a maskless exposure apparatus and a method of manufacturing a substrate for a display using the apparatus.例文帳に追加

マスクレス露光機及びこれを用いた表示装置用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In optical maskless lithography, scanning of a single substrate is typically much slower than in conventional lithography.例文帳に追加

従来のリソグラフィに比べマスクレス光リソグラフィでは通常、１枚の基板を走査する時間がかなり遅い。 - 特許庁

To provide a system and a method for determining the maximum operating parameter used for a maskless application.例文帳に追加

マスクレス適用に使用する最大動作パラメータを決定するためのシステム及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a maskless aligner of which exposure time is shortened by reducing light absorption at a liquid-crystal reticle.例文帳に追加

マスクレス露光装置に関し、液晶レティクルにおける光吸収を低減して、露光時間を短縮する。 - 特許庁