「MASKLESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a maskless plating apparatus which can easily adjust a liquid level in each treatment step of a plating process.例文帳に追加

めっきの各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができるマスクレスめっき装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus, and an apparatus manufacturing method utilizing dynamic correction of magnifications and positions in the maskless lithography.例文帳に追加

リソグラフィ装置及びマスクレス・リソグラフィにおける倍率及び位置の動的修正を利用したデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

The radiation beam measurement systems and methods are applicable to both mask-based and maskless lithography tools.例文帳に追加

この放射ビーム測定システムおよび方法は、マスクを用いたリソグラフィツールおよびマスクレスリソグラフィツールの両方に適用可能である。 - 特許庁

A method of producing optimized setpoint data for controlling the element operation of an array of individually controllable elements in a maskless system, and systems therefor are provided.例文帳に追加

マスクレスシステムの個別制御可能素子アレイの素子動作を制御する最適セットポイントデータを生成する方法、及びそのためのシステム。 - 特許庁

To provide a method and a system for forming various patterns to a maskless lithography system, more specifically, to provide a technique for the maskless lithography using a mirror array of a fixed size, in order to print branching lines in various pitches and to connect holes.例文帳に追加

マスクレスリソグラフィシステムに対する多様なパターンの生成を提供する方法及びシステムを提供することであり、より特定すれば、様々なピッチで枝分かれするラインをプリントし、ホールを接続するための一定サイズのミラーアレイを使用するマスクレスリソグラフィの技術を提供することである。 - 特許庁

To provide a method and system for producing various patterns for a maskless lithographic system, and more particularly, to provide a technique for maskless lithography to print lines branched at a variety of pitches, and to use mirror arrays of a fixed size for contacting holes.例文帳に追加

マスクレスリソグラフィシステムに対する多様なパターンの生成を提供する方法及びシステムを提供することであり、より特定すれば、様々なピッチで枝分かれするラインをプリントし、ホールを接続するための一定サイズのミラーアレイを使用するマスクレスリソグラフィの技術を提供することである。 - 特許庁

Such technologies as thermal spray, angled physical deposition, maskless electrophoresis deposition/dielectric electrophoresis deposition are used for depositing the getter substance.例文帳に追加

溶射、角を形成する物理析出、マスクレス電気泳動析出／誘電泳動析出のような技術が、ゲッタ物質を析出するために使用される。 - 特許庁

Techniques such as thermal spraying, angle-forming physical deposition, and maskless electrophoretic/dielectrophoretic deposition can be utilized for depositing the gettering material.例文帳に追加

溶射、角を形成する物理析出、マスクレス電気泳動析出／誘電泳動析出のような技術が、ゲッタ物質を析出するために使用される。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR ACHIEVING OPTIMUM FEATURE REPRESENTATION FOR MASKLESS LITHOGRAPHY REAL-TIME PATTERN RASTERIZATION BY USING COMPUTATIONALLY COUPLED MIRRORS例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィのリアルタイム・パターン・ラスタ化のための、コンピュータ的に結合されたミラーを使用して最適フィーチャ表現を達成する方法及びシステム - 特許庁

To enable maskless exposure in an exposure pattern forming apparatus having a light source array and an exposure apparatus provided with the exposure pattern forming apparatus.例文帳に追加

光源アレイを有する露光パターン形成装置及びその露光パターン形成装置を備えた露光装置において、マスクレス露光を可能とする。 - 特許庁

To solve the following problem: matching property of overlapped parts of each exposure area 81-87 is lost due to difference in magnification ratio of projection of a projection lens or the like of each engine of a maskless exposure device.例文帳に追加

マスクレス露光装置の各エンジンの投影レンズ等の投影倍率の違いにより各露光エリア８１〜８７の重なり部分の整合性が崩れる。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus more efficiently using a bandwidth available within a data path inside a maskless lithographic system, and also to provide a device manufacturing method.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィ・システム内のデータ経路内で使用可能な帯域幅をより効率的に使用するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an alignment method for a maskless laminated exposure by overlaying each layer with a virtual mask in an exposure process.例文帳に追加

マスクレス露光工程で仮想のマスクを用いてレイヤ別にオーバーレイする方法を通してマスクレス積層露光を行うことができる整列方法を提案する。 - 特許庁

The eddy-current dampers are provided within conventional scanning lithography devices and optical maskless lithography devices so as to improve performance by stabilizing the optical element motion.例文帳に追加

従来のスキャニングリソグラフィデバイスおよび光マスクレスリソグラフィデバイス内に渦電流式ダンパーを備え、光学素子運動を安定させることにより性能を改善する。 - 特許庁

To provide a maskless pattern generation system for directly writing a pattern in a substrate, which has no fault relevant to a reticle system and well-known light valve.例文帳に追加

レチクル系および公知の光弁に関連する欠点を有さない、基板にパターンを直接書き込むためのマスクレスパターン生成システムを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation light source for use in maskless lithography which has an improved pulse-to-pulse dose reproducibility of excimer lasers, and to provide a lithographic apparatus and a device manufacturing method.例文帳に追加

エキシマ・レーザのパルス−パルス線量再現性を改善したマスクレス・リソグラフのための放射光源、リソグラフ装置及びデバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To easily observe the prescribed portion of a substrate as regards a maskless exposure apparatus for use in manufacturing MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), semiconductors or the like.例文帳に追加

本発明は、ＭＥＭＳ(Micro Electro Mechanical Systems)、半導体等の製造に用いるマスクレス露光装置に関し、基板の所定部位を容易に観察することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device for sorting a micromirror device to obtain a drawing pattern with good linearity and no recess in a width or thickness direction, in a maskless exposure apparatus.例文帳に追加

マスクレス露光装置において、幅方向にも厚さ方向にも窪みのない直線性の良い描画パターンを得るためのマイクロミラーデバイス選別装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing an optical wiring board, which easily forms a slope shape to be provided in an end part of a core layer constituting an optical waveguide, by maskless exposure.例文帳に追加

光導波路を構成するコア層の端部に設ける傾斜面形状をマスクレス露光により容易に形成することができる光配線基板の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide technique for solving problem which arises due to longer time for forming image on a substrate by using maskless optical lithography compared with conventional lithography technique.例文帳に追加

従来のリソグラフィ技術に比べマスクレス光リソグラフィにより基板に像形成する時間がより長くなることで生じる問題に対処する技術の提供にある。 - 特許庁

To provide a technique to address the difficulty which arises due to the longer amount of time it takes to image a substrate using optical maskless lithography over a conventional lithography techniques using a mask.例文帳に追加

従来のリソグラフィ技術に比べマスクレス光リソグラフィにより基板に像形成する時間がより長くなることで生じる問題に対処する技術の提供にある。 - 特許庁

By using a maskless process such as a drop discharge method, a concentric circular thin film is laminated on a substrate, to form a circular thin film transistor having a circular electrode.例文帳に追加

液滴吐出法等のマスクレスプロセスを用いて、基板上に同心円状の薄膜を積層し、円形の電極を有する円形薄膜トランジスタを形成する。 - 特許庁

To provide a system for reducing off-axis position motion of an optical element to a value that may be tolerated by an optical maskless lithography system in regard to alignment of optical elements in an optical lithography system.例文帳に追加

光リソグラフィーシステムにおける光学エレメントのアライメントに関し、光マスクレスリソグラフィーシステムにより許容できる値まで光学エレメントの軸外位置移動を低減するシステムを提供する。 - 特許庁

The maskless exposure method of generating an exposure pattern and exposing a substrate with a reduced exposure pattern thereof is such that in subjecting an edge of the exposure pattern to emphasis processing during the exposure.例文帳に追加

露光パターンを生成し縮小させた該露光パターンで基板を露光するマスクレス露光方法であって、前記露光時に、前記露光パターンのエッジを強調処理することを特徴とする。 - 特許庁

In addition, by using a maskless process such as a drop discharge method, the circular thin film transistor having a circular semiconductor layer may be formed by laminating the concentric circular thin film on the substrate.例文帳に追加

また、液滴吐出法等のマスクレスプロセスを用いて、基板上に同心円状の薄膜を積層し、円形の半導体層を有する円形薄膜トランジスタを形成してもよい。 - 特許庁

To provide a maskless exposure apparatus capable of highly accurately forming an exposure pattern of an element or the like of a temperature sensor on a curved surface, such as the surface of an inner race or an outer race of a bearing device.例文帳に追加

例えば軸受装置のインナレースやアウタレースの表面ような曲面に温度センサのエレメントなどの露光パターンを高精度に形成することができるマスクレス露光装置を提供する。 - 特許庁

To improve the resolution of a maskless exposure method of digitally generating a projection pattern without using a mask to perform exposure, without having to uses a complex processes or mechanism element.例文帳に追加

本発明は、マスクを用いることなく投影パターンをデジタル的に生成して露光するマスクレス露光方法に関し、複雑なプロセスや機構要素を付加することなく、分解能を向上することを目的とする。 - 特許庁

To reduce shape defects at an end of a portion corresponding to the teeth pattern of an interdigital pixel electrode in a method for manufacturing a liquid crystal display device for forming an interdigital pixel electrode by use of maskless exposure.例文帳に追加

マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成する液晶表示装置の製造方法において、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of color filter in which pixel barriers are formed by maskless pattern exposure, RGB pixels are prepared using an inkjet method and color mixture in the respective pixels is suppressed.例文帳に追加

濃色離画壁をマスクレスパターン露光で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット方式で作製するカラーフィルターにおいて、各画素における混色が抑えられたカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography.例文帳に追加

マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。 - 特許庁

To provide a maskless exposure observation device to be used for manufacturing MEMS (micro electro mechanical systems), semiconductors or the like, the device allowing exposure on a substrate and observation of the substrate.例文帳に追加

本発明は、ＭＥＭＳ、半導体等の製造に用いるマスクレス露光観察装置に関し、基板への露光および基板の観察を行うことができるマスクレス露光観察装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The forming method of forming a spacer material in a maskless manner, the pattern forming method is characterized in that: a defective portion of a precedent pattern formed on a substrate or a resist material before exposure is detected; and the pattern is formed avoiding the defective portion.例文帳に追加

マスクレスでスペーサー材を形成する形成方法において、基板上に形成された先行パターン、もしくは、露光前のレジスト材料の欠陥部を検出し、当該箇所を避けて、パターンを形成するパターン形成方法である。 - 特許庁

Pulse-to-pulse dose reproducibility of a radiation system for maskless lithography is improved by providing multiple lasers, and combining radiation beams generated through each of them to form a radiation single projection beam.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフ用の放射システムのパルス−パルス線量再現性が、複数のレーザを提供することと、及び各々によって生成された放射ビームを結合して放射の単一投影ビームを形成することによって改善される。 - 特許庁

This method for developing lithographic maskless layout generates an ideal mask layout, representative of the image characteristics associated with a desired image, and produces an equivalent mirror-based mask layout in accordance with an average intensity of the ideal mask layout.例文帳に追加

上記課題は、所望の画像に関連する画像特性を表す理想マスクレイアウトを生成し、理想マスクレイアウトの平均強度に従って等価ミラーベースマスクレイアウトを作成する、リソグラフィックマスクレイアウトを現像するための方法によって解決される。 - 特許庁

Solutions are described for adoption of immersion lithography technique into the optical maskless lithography, and in particular, the present invention provides one or more solutions to reduce time when a liquid for liquid immersion exposure is in contact with prescribed part of a top surface of the substrate during imaging.例文帳に追加

マスクレス光リソグラフィに液浸リソグラフィ技術を採用する場合の解決法を説明し、特に、像形成中に液浸露光用の液体が基板上面の所定部分に接触する時間を減少させる１つ以上の解決法を提供する。 - 特許庁

Solutions are described for the adoption of immersion lithography techniques into optical maskless lithography, and in particular, the present invention provides one or more solutions to reduce the amount of time which the immersion liquid is in contact with any given part of the top surface of the substrate during imaging.例文帳に追加

マスクレス光リソグラフィに液浸リソグラフィ技術を採用する場合の解決法を説明し、特に、像形成中に液浸露光用の液体が基板上面の所定部分に接触する時間を減少させる１つ以上の解決法を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter forming material for maskless exposure capable of forming a color filter which is low in cost and excellent in display properties with high sensitivity, less variation in line width due to variation in exposure power and high definition without using a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを用いることなく、高感度でかつ露光パワーの変動による線幅変動が極めて少なく、高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れカラーフィルタを形成することができるマスクレス露光用カラーフィルタ形成材料などの提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a circular thin film transistor capable of simplifying a step, shortening a manufacturing period, and reducing a manufacturing cost, with its shape more controlled than a conventional one by manufacturing a circular thin film transistor using a maskless process such as a drop discharge method.例文帳に追加

液滴吐出法などのマスクレスプロセスを用いて円形薄膜トランジスタを作製することにより、工程の簡略化、作製時間の短縮、及び作製費用の低減を図ると共に、従来よりもその形状が制御された円形薄膜トランジスタの作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the beginning of this Kagura, after a maskless male dancer dances a sword dance using a Japanese sword, Amenouzume, who appears in the second half, dances a spinning Chinese sword dance called a "shiken," holding a tree branch designed to imitate bamboo leaves in her left hand and an isuzu (literally "50 bells") adorned with nusu (symbols of divinity made of cloth or paper) in her right hand. 例文帳に追加

この神楽では、始めに素面で男性の舞手が日本刀の剣舞をした後、後半の舞で登場するアメノウズメは、左手に笹葉を模した木の枝を、右手に幣をつけた五十鈴を持って、中国の剣舞の「刺剣」の動作をしてスピン回転をしながら舞う。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The pulse-to-pulse dose reproducibility of a radiation system for use in maskless lithography is improved, by providing a plurality of lasers and combing the radiation beams produced by each to form a single projection beam of radiation, whereby the variations average out and a projection beam of radiation, with ample pulse-to-pulse dose reproducibility is produced.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフ用の放射システムのパルス−パルス線量再現性が、複数のレーザを提供することと、及び各々によって生成された放射ビームを結合して放射の単一投影ビームを形成することによって、変動が平均化され、十分なパルス−パルス線量再現性を有する放射の投影ビームとなる。 - 特許庁

In the pattern drawing apparatus to form patterns in mirror image relation with respect to the substrate on both faces of the substrate, the patterns are formed on both faces of the substrate by direct drawing on the basis of specified data by using a direct drawing means such as a maskless exposure means or an ink jet patterning means.例文帳に追加

基板に関して鏡像関係となるパターンを基板の両面に形成するパターン描画装置は、マスクレス露光手段もしくはインクジェットパターニング手段などの直接描画手段を用いて、所定のデータに基づき基板の両面を直接描画することでパターンを基板の両面に形成する。 - 特許庁

In order to form a circuit pattern 12 on a non-conductive substrate 11, aqueous paste or inorganic solvent paste diffusing metal particles whose average grain size is 200 nm or smaller in 0.001 to 80 wt.% is first applied over the non-conductive substrate 11 by maskless printing to form a coating film of a predetermined pattern.例文帳に追加

非導電性基板１１上に回路パターン１２を形成するには、先ず平均粒径２００ｎｍ以下の金属粒子０．００１〜８０重量％を分散した水系ペースト又は有機溶媒系ペーストをマスクレス印刷法により非導電性基板１１に塗布して所定のパターンのコーティング膜を形成する。 - 特許庁

In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁