| 意味 | 例文 |
MGoを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 954件
The material containing MgO preferably includes scrap of a refractory (MgO-C).例文帳に追加
好ましくは、MgOを含む材料として(MgO-C)耐火物屑を用いる。 - 特許庁
MgO蒸着材 - 特許庁
MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加
MgO蒸着材 - 特許庁
MgO and W metal are sputtered simultaneously on a W heating substrate 901 to form an MgO+W cermet layer 902.例文帳に追加
W加熱基材901上にMgO及びW金属を同時にスパッタリングしてMgO+Wサーメット層902を形成する。 - 特許庁
MGO-C-BASED REFRACTORY例文帳に追加
MgO−C系耐火物 - 特許庁
POLYCRYSTALLINE MgO SINTERED BODY例文帳に追加
多結晶MgO焼結体 - 特許庁
MgO VAPOR-DEPOSITING MATERIAL, MgO FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
MgO蒸着材およびMgO膜、その製造方法 - 特許庁
POLYCRYSTALLINE MGO VAPOR DEPOSITING MATERIAL例文帳に追加
多結晶MgO蒸着材 - 特許庁
The powder for improving cuttability includes powder capable of forming an SiO_2-MgO amorphous phase or an SiO_2-MgO-alkali metal oxide amorphous phase and an oxide phase including SiO_2 or magnesium oxide (MgO).例文帳に追加
切削性改善用粉末は、SiO_2−MgO系非晶質相またはSiO_2−MgO−アルカリ金属酸化物系非晶質相、およびSiO_2または酸化マグネシウム(MgO)を含む酸化物相を形成できる粉末とする。 - 特許庁
A preferred raw material of the support is ultrafine powder of Al_2O_3, MgO, SiO_2, or CeO_2.例文帳に追加
好ましい担体原料はAl_2O_3、MgO、SiO_2またはCeO_2の超微粒子粉末である。 - 特許庁
MgO FILM FORMING METHOD AND PANEL例文帳に追加
MgO膜形成方法およびパネル - 特許庁
MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, MANUFACTURING PROCESS OF MgO DEPOSITION FILM例文帳に追加
MgO蒸着材およびその製造方法、MgO膜の製造方法 - 特許庁
MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL, MgO FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
MgO蒸着材の製造方法、MgO膜及びMgO膜の製造方法 - 特許庁
In this furmula, WSLAG shows the slag quantity (kg/t) in the converter at the completion of blowing and (MgO) shows the MgO concentration (mass%) in the slag in the converter at the completion of blowing.例文帳に追加
3.0≦0.0045(W_SLAG−200)[ (MgO)−21]≦8.0 …(1) [式中、W_SLAGは吹錬終了時の転炉内スラグ量(kg/t)を示し、(MgO)は吹錬終了時の転炉内スラグ中のMgO濃度(質量%)を示す] - 特許庁
The substrate layer is a MgO-SiO2 film formed by a ECR sputtering method and has honey-comb structure in which crystalline particles 12 of a regular hexagon of MgO are partitioned by crystalline grain boundary parts 14 of uniform width.例文帳に追加
下地層はECRスパッタ法により形成したMgO-SiO_2膜で、MgOである正六角形の結晶粒子12が、均等な幅の結晶粒界部14で隔てられたハニカム構造を有する。 - 特許庁
An MgO (111) single crystal thin film is deposited on a YSZ (111) single crystal substrate with an NiO (111) epitaxial thin film as a buffer layer, and single-layer graphene is deposited on this MgO (111) single crystal thin film.例文帳に追加
MgO(111)単結晶薄膜を、NiO(111)エピタキシャル薄膜をバッファー層としてYSZ(111)単結晶基板上に成膜して、このMgO(111)単結晶薄膜の上に単層グラフェンを成膜する。 - 特許庁
Examples of the powder for improving cuttability includes enstatite powder, talcum powder, kaolin powder, mica powder, water-granulated slag powder, magnesium oxide (MgO) powder, and mixed powder of SiO_2 and MgO.例文帳に追加
このような粉末としては、エンスタタイト粉末、タルク粉末、カオリン粉末、マイカ粉末、水砕スラグ粉末、酸化マグネシウム(MgO)粉末、SiO_2とMgOとの混合粉末等が例示できる。 - 特許庁
The protective layer 8 is formed of a MgO film layer 81 and a MgO crystal particle layer 82 made of a group of MgO crystal particles 16.例文帳に追加
保護層8をMgO膜層81と、MgO結晶粒子群16からなるMgO結晶粒子層82で構成する。 - 特許庁
APPARATUS FOR CONTROLLING AUTOMATIC INTRODUCTION OF MgO SOURCE例文帳に追加
MgOソースの自動投入調整装置 - 特許庁
POLYCRYSTAL MgO SINTERED COMPACT, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND MgO TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加
多結晶MgO焼結体及びその製造方法、並びにスパッタリング用MgOターゲット - 特許庁
Secondary electron emission coefficient of the upper layer MgO 15a is made smaller than that of the lower layer MgO 15b.例文帳に追加
上層MgO15aは下層のMgO15bに比べて2次電子放出係数が小さいものとする。 - 特許庁
Also provided are an MgO single crystal vapor deposition material and an MgO single crystal substrate for forming a thin film which are obtained from the MgO single crystal.例文帳に追加
また、このMgO単結晶から得られるMgO単結晶蒸着材及び薄膜形成用MgO単結晶基板である。 - 特許庁
HEAT TREATMENT METHOD FOR MgO SINGLE CRYSTAL SUBSTRATE例文帳に追加
MgO単結晶基板の熱処理方法 - 特許庁
MgO VAPOR-DEPOSITED MATERIAL AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
MgO蒸着材及びその製造方法 - 特許庁
5% ≤ CaO/(CaO +Al_2O_3 + MgO) × 100 ≤ 60%, 40% ≤ Al_2O_3/(CaO + Al_2O_3 + MgO) × 100 ≤ 90%, 0% ≤ MgO/(CaO + Al_2O_3 + MgO) × 100 ≤ 40%.例文帳に追加
5%≦CaO/(CaO+Al_2O_3+MgO)×100≦60%40%≦Al_2O_3/(CaO+Al_2O_3+MgO)×100≦90%0%≦MgO/(CaO+Al_2O_3+MgO)×100≦40% - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF MgO FOR ANNEALING SEPARATING AGENT例文帳に追加
焼鈍分離剤用のMgOの製造方法 - 特許庁
MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加
MgO蒸着材およびその製造方法 - 特許庁
In the next step, the single crystal MgO power layer is baked to form a crystalline MgO layer.例文帳に追加
次工程で単結晶MgO粉体層を焼成し、結晶MgO層を形成する。 - 特許庁
MgO VAPOR-DEPOSITED MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
MgO蒸着材及びその製造方法 - 特許庁
Furthermore, the melting points of the MgO and W metal are as high as 3100 K and 3700 K, respectively, and the infrared light source is not damaged even if it is heated to 3000 K.例文帳に追加
しかも、MgO、W金属の融点は3100K、3700Kと高く、3000Kに加熱されても破損しない。 - 特許庁
The average composition is desirable to be CaO/Al_2O_3=0.5-2.0 and MgO=5-30% and SiO_2 content is desirable to make to be <10%.例文帳に追加
平均組成がCaO/Al_2O_3=0.5〜2.0であり、MgO=5〜30%、SiO_2含有量を10%未満とすることが好ましい。 - 特許庁
At least one kind selected from Al2O3, CaO, MgO, SiO2, ZrO2, ZrO2, SiO2, B2O3, FeO, FeO2, and Fe2O3 in suitable as oxide.例文帳に追加
酸化物はAl_2O_3、CaO、MgO、SiO_2、ZrO_2、ZrO_2・SiO_2、B_2O_3、FeO、FeO_2およびFe_2O_3から選択された少なくとも1種が好適である。 - 特許庁
17.4(Al_2O_3) + 3.9(MgO) + 0.3(MgAl_2O_4) + 18.7(CaO) ≤ 500 ...(2) (Al_2O_3) + (MgO) + (MgAl_2O_4) + (CaO) ≥ 95...(3).例文帳に追加
17.4(Al_2O_3)+3.9(MgO)+0.3(MgAl_2O_4)+18.7(CaO)≦500 …(2)(Al_2O_3)+(MgO)+(MgAl_2O_4)+(CaO)≧95 …(3) - 特許庁
MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
MgO蒸着材およびその製造方法 - 特許庁
An MgO deposition material for forming a protection film for a PDP is composed of an MgO pellet having an MgO purity of ≥ 98% and a relative density of ≥ 90%.例文帳に追加
PDP保護膜22の成膜用MgO蒸着材はMgO純度98%以上かつ相対密度90%以上のMgOのペレットからなる。 - 特許庁
An MgO deposition material for forming a protection film 22 for a PDP is composed of an MgO pellet having an MgO purity of ≥ 98% and a relative density of ≥ 90%.例文帳に追加
PDP保護膜22の成膜用MgO蒸着材はMgO純度98%以上かつ相対密度90%以上のMgOのペレットからなる。 - 特許庁
A magnetic fixed layer 26 and a free magnetic layer 28 are arranged with a tunnel barrier layer 27 interposed, and the tunnel barrier layer 27 is formed as the laminate film of an MgO layer and a ZnO layer with the MgO layer as a base layer, and the MgO layer and the ZnO layer are formed so as to be crystal-orientated in a rock salt type (001) direction.例文帳に追加
トンネルバリア層27を挟む配置に磁化固定層26と自由磁化層28とが配置され、前記トンネルバリア層27が、MgO層を下地層として、MgO層とZnO層の積層膜として形成され、前記MgO層および前記ZnO層は、岩塩型(001)方向に結晶配向して形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
(II) The ratio [(Al_2O_3 or MgO)/(SiO_2)] by weight of Al_2O_3 or MgO to SiO_2 is 0.1-15.例文帳に追加
(II)Al_2O_3またはMgOと、SiO_2の重量比〔(Al_2O_3またはMgO)/SiO_2〕が0.1〜15。 - 特許庁
The acid-resistant hydraulic hardened body is composed of a hydrate product having molar ratio (CaO+MgO)/(SiO_2+Al_2O_3) of 0.05 to 0.42.例文帳に追加
耐酸性の水硬性硬化体が、(CaO+MgO)/(SiO_2+Al_2O_3)モル比が0.05以上0.42以下の水和生成物から成る。 - 特許庁
90°wedges of MgO and GaAs have frequently been used to assist the quantitative interpretation of lattice images. 例文帳に追加
MgOとGaAsの90°のくさびは、しばしば格子像の定量的な解釈を(補助的に)助けるために使われてきた。 - 科学技術論文動詞集
Further, the MgO-Ti mixture is added so that the MgO content in the MgO-Ti mixture changes from 0.01 mass% to 1 mass% of the molten steel quantity.例文帳に追加
また、MgO−Ti混合物中のMgO量が溶鋼量の0.01質量%から1質量%になるように、MgO−Ti混合物を添加すれば良い。 - 特許庁
Thus, the glass frit 342B can be interposed between neighboring single crystal MgO 342A or between single crystal MgO 342A and a thin film MgO layer 341, and bonding force of the single crystal MgO 342A and the thin film MgO layer 341 can be strengthened.例文帳に追加
このため、ガラスフリット342Bを、隣り合う単結晶MgO342Aの間、あるいは、単結晶MgO342Aおよび薄膜MgO層341の間に介在させることができ、単結晶MgO342Aおよび薄膜MgO層341の結合力を強めることができる。 - 特許庁
The mixing ratio between MgO and Al in the MgO Al mixture is preferably controlled to ≥0.67 by (the molar number of Al)/(the molar number of MgO), and the content of MgO in the MgO Al mixture shall be controlled to ≥30 mass%, and the content of Al to ≥20 mass%.例文帳に追加
MgO−Al混合物におけるMgOとAlの混合比は、(Alのモル量)/(MgOのモル量)で0.67以上が良く、MgO−Al混合物中のMgO含有率は30質量%以上、Al含有率は20質量%以上にする必要がある。 - 特許庁
In the forming process of a crystal MgO layer 342, a coating liquid obtained by dispersing MgO powder 342A in a solvent is applied on the a thin film MgO layer 341.例文帳に追加
結晶MgO層342の形成工程において、スプレー法にて、MgO粉体342Aを溶剤に分散させた塗工液を薄膜MgO層341上に塗布する。 - 特許庁
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