「PVD」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

HYBRID PVD-CVD SYSTEM例文帳に追加

ハイブリッドＰＶＤ−ＣＶＤシステム - 特許庁

To provide a physical vapor deposition (PVD) apparatus and a PVD method.例文帳に追加

物理気相蒸着（ＰＶＤ）装置とＰＶＤ法を開示する。 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD BY PVD AND TARGET FOR FILM DEPOSITION USED FOR PVD例文帳に追加

ＰＶＤ法による成膜方法及びＰＶＤ法に用いる成膜用ターゲット - 特許庁

A PVD(physical vapor deposition) metal-deposited layer, e.g. PVD Al or PVD Cu is deposited on the layer hard to dissolve under the pressure of 1 milli Torr or lower to give a conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

ＰＶＤ金属層、例えばＰＶＤＡｌ、またはＰＶＤＣｕが１ミリトル以下の圧力で溶けにくい層に堆積されて、コンフォーマルなＰＶＤ金属層を与える。 - 特許庁

METHOD FOR PRETREATING SUBSTRATE FOR PVD METHODS例文帳に追加

ＰＶＤ法のための基材前処理方法 - 特許庁

MULTILAYER PVD FILM FORMING APPARATUS FOR SUBSTRATE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

基板の多層ＰＶＤ成膜装置および方法 - 特許庁

HCD/UBMS HYBRID PVD METHOD, AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

ＨＣＤ・ＵＢＭＳハイブリッドＰＶＤ法およびその装置 - 特許庁

TWO-STAGE AIN-PVD IMPROVING FILM CHARACTERISTIC例文帳に追加

フィルム特性を改良する２段階ＡｌＮ−ＰＶＤ - 特許庁

The thickness of the PVD layer is at least about 100 nm.例文帳に追加

ＰＶＤ銅層の厚さは、少なくとも約１００ｎｍである。 - 特許庁

The thin film material of photocatalyst which develops an active function as photocatalyst, is obtained by means of forming an island- shaped film 2a on a substrate 1 by a CVD or PVD method, and growing a tabular crystalline 2d by the CVD or PVD method on the island-shaped film 2a as a core.例文帳に追加

CVD法またはPVD法で基板１上に島状膜２ａを形成させ、その島状膜２ａを核として、CVD法またはPVD法で板状の結晶２ｄを成長させることにより、高活性な光触媒機能を発現する光触媒薄膜材料を得られる。 - 特許庁

Further, the inner layer is formed by the CVD method which can give excellent adhesiveness, and the outermost layer is formed by the PVD method which can give a compressive residual stress.例文帳に追加

そして、内層を密着性に優れるCVD法にて形成し、最外層を圧縮残留応力が付与できるPVD法にて形成する。 - 特許庁

More preferably, the PVD method is an evaporation method or a sputtering method.例文帳に追加

ＰＶＤ法が、蒸着法、スパッタリング法であるとさらに好ましい。 - 特許庁

A doped target of an electrically conductive material is used, and, a layer is deposited by a sputtering process such as PVD or IMP PVD.例文帳に追加

ドープ済みの導電性材料のターゲットを使用し、ＰＶＤまたはＩＭＰ ＰＶＤのようなスパッタリングプロセスによって層を堆積させる。 - 特許庁

Moreover, oblique evaporation is performed by vacuum vapor deposition as the PVD method.例文帳に追加

また、ＰＶＤ法として真空蒸着法で斜方蒸着する。 - 特許庁

After forming a film including an Mo nitride on the glass substrate 1 as a relaxed layer 2 by a PVD method under an atmosphere that contains nitrogen gas, an Mo film is formed as the Mo electrode film 3 by the PVD method under an Ar gas atmosphere, thus reducing internal stresses of a film and preventing ready peeling.例文帳に追加

ガラス基板１上に、窒素ガスを含む雰囲気でPVD法によりMo窒化物を含む膜を緩衝層２として形成した後、Arガス雰囲気でPVD法によりMo膜をMo電極膜３として形成することで、被膜の内部応力を低減することができ、剥がれ難くできる。 - 特許庁

GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL SHEET, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PVD TREATMENT DEVICE例文帳に追加

一方向性電磁鋼板、その製造方法及びＰＶＤ処理装置 - 特許庁

PVD TREATMENT SYSTEM, AND METHOD OF FORMING HARD FILM USING THE SAME例文帳に追加

ＰＶＤ処理装置及びこれを用いた硬質被膜の形成方法 - 特許庁

Then an upper conductive layer is formed by PVD and wet plating.例文帳に追加

そして，ＰＶＤおよび湿式めっきにより上層導電層を形成する。 - 特許庁

A coating material is preferably formed by the PVD method.例文帳に追加

前記コーティング材をＰＶＤ法によって形成されるようにするのが望ましい。 - 特許庁

The insulation protective layer 14 is a film made by CVD or PVD.例文帳に追加

絶縁性保護層１４は、ＣＶＤ又はＰＶＤにより形成した膜である。 - 特許庁

To provide a cooled dark space shield for a multi-cathode, large area PVD apparatus.例文帳に追加

マルチカソード大面積ＰＶＤ装置用の冷却暗部シールドが開示されている。 - 特許庁

The resulting CVD/PVD metal layer is substantially void-free.例文帳に追加

結果として生じるＣＶＤ／ＰＶＤ金属層は、実質的にボイドのないものである。 - 特許庁

A top clad layer is just to be formed after the heat treatment if required, and can be formed using a CVD method represented by plasma CVD or a PVD method such as a sputtering method.例文帳に追加

トップクラッド層は、必要ならば熱処理後に形成すれば良く、プラズマCVDで代表されるCVD法、あるいはスパッタ法などのPVD法等を用いて形成することができる。 - 特許庁

Thereafter, the holes or contacts are filled with a metal, e.g. by reflowing an additional metal deposited by the PVD on the conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

その後、孔またはコンタクトは、金属で、例えばコンフォーマルなＰＶＤ金属層上に物理気相堆積によって堆積された追加の金属をリフローすることによって満たされる。 - 特許庁

Physical vapor depositing (PVD) is performed as if film were laminated on a wafer.例文帳に追加

物理蒸着処理（ＰＶＤ）は、ウェハー上に膜を堆積するように実行される。 - 特許庁

FILM DEPOSITION SYSTEM FOR BOTH PVD/CVD, AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SYSTEM例文帳に追加

ＰＶＤ・ＣＶＤ両用成膜装置及び当該装置を用いた成膜方法 - 特許庁

The PVD method or CVD method is used for forming the electrolyte layer 30.例文帳に追加

電解質層３０の成膜にあたっては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法が用いられる得る。 - 特許庁

To produce a chromium-based hard coating, in which deterioration in mold releasability is reduced, by a PVD method.例文帳に追加

離型性の低下が抑制されたクロム系硬質被膜をＰＶＤ法で製造する。 - 特許庁

Preferably, the metalescent layer is formed by an electroless plating method, a CVD method or a PVD method.例文帳に追加

金属光沢層が無電解メッキ法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法で形成すると好ましい。 - 特許庁

To provide an EB-PVD (Electron-Beam Physical Vapor Deposition) apparatus equipped with an independent system designed to monitor and maintain a constant relative level of the molten pool within the EB-PVD chamber.例文帳に追加

ＥＢ−ＰＶＤチャンバ内部の溶融プールの一定の相対液面を監視して維持するように設計された、独立したシステムを備えるＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

In the film deposition system for both PVD/CVD where a substrate 2, a PVD system 3 and a CVD system 4 are arranged inside a vacuum chamber 1, and PVD film deposition 28 and CVD film deposition 27 are performed to the substrate 2, a shielding device 9 preventing the sticking of an evaporated material from the PVD system 3 to the CVD system 4 is provided.例文帳に追加

真空チャンバ１内に基体２とＰＶＤ装置３とＣＶＤ装置４とが配置され、前記基体２に対してＰＶＤ成膜２８とＣＶＤ成膜２７とを行えるようにしたＰＶＤ・ＣＶＤ両用成膜装置において、前記ＰＶＤ装置３からの蒸発物質が前記ＣＶＤ装置４に付着することを防止する遮蔽装置９が設けられた。 - 特許庁

SHIELDING STRUCTURE OF TREATMENT CHAMBER, AND CVD SYSTEM, PVD SYSTEM, AND ETCHING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

処理室のシールド構造及びこれを使用するＣＶＤ装置、ＰＶＤ装置及びエッチング装置 - 特許庁

A PVD (physical vapor deposition) coating film of DLC (diamond-like carbon) or CrN is preferably formed between the peripheral grooves and the port.例文帳に追加

周溝とポート間に、ＤＬＣ又はＣｒＮのＰＶＤ被膜を形成するのがよい。 - 特許庁

A film of a piezoelectric layer is formed by the MOCVD method on a sacrificing piezoelectric layer formed by the PVD method.例文帳に追加

ＰＶＤ法にて形成した犠牲圧電層の上にＭＯＣＶＤ法で圧電層を成膜する。 - 特許庁

Desirably, further, a PVD(Physical Vapor Deposition) layer 4 is arranged on the radical nitriding treatment layer 3 and particularly, the PVD layer 4 is composed of AlTiN or CrN having low stickiness on an aluminum alloy.例文帳に追加

好ましくは、さらに、ラジカル窒化処理層３上にＰＶＤ層４が設けられ、そして特にＰＶＤ層４は、アルミニウム合金に対する付着性の低いＡｌＴｉＮまたはＣｒＮよりなる。 - 特許庁

To provide an improved system executing the plasma reinforced PVD of a metallic material of copper, aluminum, tungsten or the like.例文帳に追加

銅、アルミニウム、タングステン又は他の金属材料のプラズマ強化ＰＶＤを行う改善されたシステム。 - 特許庁

The surface-treatment surface is formed of titanium nitride given by physical vapor deposition (PVD).例文帳に追加

表面処理面は、物理的気相成長法（ＰＶＤ）によって与えられた窒化チタンで構成される。 - 特許庁

The present invention relates to a PVD target structure for use in physical vapor deposition.例文帳に追加

本発明は、物理的気相成長法が用いられるＰＶＤターゲット構造体に関するものである。 - 特許庁

As a method for the vapor deposition may be either physical vapor deposition (PVD) method or chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

蒸着させる方法としては、物理蒸着法（ＰＶＤ）でも化学蒸着法（ＣＶＤ）でもよい。 - 特許庁

A substrate is contacted with an electroless copper plating bath, and a titanium nitride barrier layer is formed on the surface thereof by PVD.例文帳に追加

基体を無電解銅メッキ浴と接触させ、その上にＰＶＤにより、窒化チタンバリア層を形成する。 - 特許庁

To provide a method for coating chromium nitride by PVD, whereby a chromium nitride film with few droplets can be obtained.例文帳に追加

ドロップレットの少ない窒化クロム膜が得られるＰＶＤによる窒化クロムのコーティング方法を提供するこ。 - 特許庁

To provide target constructions and methods for reducing target motion and rubbing that occurs in PVD processes.例文帳に追加

ターゲットの動きおよびＰＶＤプロセスで起こる擦れを減少させるターゲット構造物および方法を提供する。 - 特許庁

The one section may be changed by coating, and the coating can be applied by PVD or CVD.例文帳に追加

一区分をコーティングによって変更してもよく、コーティングはＰＶＤやＣＶＤによって付けることができる。 - 特許庁

The platinum oxide is prepared by using a physical vapor deposition (PVD) and a chemical vapor deposition (CVD).例文帳に追加

この白金酸化物は、物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いて作成する。 - 特許庁

A sintered compact comprising ≥95 wt.% germanium and tungsten is used as a target in a PVD (Physical Vapor Deposition) system.例文帳に追加

９５重量％以上のゲルマニウムとタングステンを含む焼結体をＰＶＤ装置のターゲットとして用いる。 - 特許庁