| 意味 | 例文 |
Particle Systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1233件
METHOD FOR EVALUATING ABERRATION OF CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING METHOD, METHOD FOR EVALUATING ASTIGMATISM AND EVALUATION PATTERN例文帳に追加
荷電粒子線光学系の収差評価方法、荷電粒子線装置調整方法、荷電粒子線露光方法、非点収差評価方法及び評価用パターン - 特許庁
The dielectric ceramic 11 contains a main phase particle 12 consisting of an ABO_3 system main component and a secondary phase particle 13 having a composition different from the main phase particle 12.例文帳に追加
誘電体セラミック11は、ABO_3系の主成分からなる主相粒子12と、主相粒子12とは異なる組成を有する二次相粒子13とを含む。 - 特許庁
To provide a means for confirming the irradiation positions of particle beams with one sort of equipment in a particle beam irradiation system which enables the application of two or more types of particle beams.例文帳に追加
複数の種類の粒子線を照射可能な粒子線照射システムにおいて、粒子線の照射位置を確認する手段を一種類の機器で提供する。 - 特許庁
PARTICLE OPTICAL DEVICE, ILLUMINATOR, AND PROJECTION SYSTEM AND ITS UTILIZING METHOD例文帳に追加
粒子光学装置、照明装置および投写システムならびにその利用方法 - 特許庁
COMPOSITE STRUCTURE FORMING METHOD, PREPARED PARTICLE, AND COMPOSITE STRUCTURE FORMING SYSTEM例文帳に追加
複合構造物形成方法、調製粒子、および複合構造物形成システム - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR ESTIMATING PRESSURE LOSS, AND SYSTEM FOR TRANSPORTING PARTICLE例文帳に追加
圧力損失推定方法、圧力損失検出装置及び粒子輸送システム - 特許庁
EXHAUST APPARATUS CONFIGURED TO REDUCE PARTICLE CONTAMINATION IN DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
堆積システムのパーティクルコンタミネーションを減少するように構成された排気装置 - 特許庁
METHOD OF EVALUATING BEAM, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
ビーム評価方法、荷電粒子線投影露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁
MEASURING METHOD OF MINUTE PARTICLE SHAPE, SYSTEM THEREFOR, AND SIGNAL PROCESSING CIRCUIT THEREFOR例文帳に追加
微小粒子形状の計測方法、そのシステム及びその信号処理回路 - 特許庁
SYSTEM AND PROCESS OF PREPARING REGENERATED EXPANDABLE POLYSTYRENE RESIN PARTICLE例文帳に追加
再生発泡性ポリスチレン系樹脂粒子の再生処理システム及びその処理法 - 特許庁
SUBSTANCE FEEDING AND MEASURING DEVICE, PARTICLE MACHINING APPARATUS, COVERING APPARATUS AND COVERING SYSTEM例文帳に追加
物質供給計量装置、粒子加工装置、被覆装置及び被覆システム - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EMITTING APPARATUS, CIRCULAR ACCELERATOR AND CIRCULAR ACCELERATOR SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビームの出射装置及び円形加速器並びに円形加速器システム - 特許庁
COAL FIRED POWER GENERATION SYSTEM AND METHOD FOR ENLARGING MEAN PARTICLE DIAMETER OF FLY ASH例文帳に追加
石炭火力発電システム及びフライアッシュの平均粒径を拡大させる方法 - 特許庁
CENTERLESS SUPERFINISHING APPARATUS HAVING LAPPING SYSTEM CONTAINING FLOATING ABRASIVE PARTICLE例文帳に追加
浮遊研磨粒子を含有するラッピング・システムを有するセンターレス超仕上げ装置 - 特許庁
STENCIL MASK AND PROTECTION METHOD THEREOF, PROTECTIVE SHEET, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
ステンシルマスク及びその保護方法、保護シート、並びに荷電粒子線露光装置 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING THIN FILM HAVING DISPERSED FINE METAL PARTICLE例文帳に追加
金属微粒子が分散した薄膜の製造方法および薄膜製造装置 - 特許庁
DOUBLET HAVING OPTIMUM CURVE AXIS USED FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線投影系に用いる、最適化された曲線軸を有するダブレット - 特許庁
any process in which an atomic or nuclear system acquires an additional particle 例文帳に追加
原子または核のシステムが追加の粒子を取得するどのようなプロセスでも - 日本語WordNet
To provide a system and a method for particle detection using real imaging.例文帳に追加
真イメージングを使用した粒子検出のシステムおよび方法を提供すること。 - 特許庁
CHARGE PARTICLE ENERGY ANALYZER AND PARTICLES REACTION ANALYSIS SYSTEM USING THE ANALYZER例文帳に追加
荷電粒子エネルギー分析装置及び該装置を用いた粒子反応解析装置 - 特許庁
A numerical-value calculating apparatus is provided with a means which executes the track analysis of a particle after a network analysis regarding a particle transportation system is performed.例文帳に追加
粒子輸送領域に関するネットワーク解析を行なった後、粒子の軌道解析を実行する手段を有する。 - 特許庁
METHOD FOR ADJUSTING BEAM LANDING ANGLE IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD AND APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加
荷電粒子線露光装置におけるビームランディング角の調整方法、荷電粒子線露光方法及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
To provide a charged particle amount evaluation system capable of evaluating the amount of charged particles within a desired particle range.例文帳に追加
所望の粒径範囲で帯電粒子の粒子量を評価することができる帯電粒子量評価装置を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam irradiation system capable of shortening the irradiation time in a particle beam therapy by a spot scanning method.例文帳に追加
スポットスキャン法による粒子線治療において、照射時間を短縮可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供する。 - 特許庁
Only the core particle is baked and a color difference in an L*a*b color specification system in the core particle after baking is three or less.例文帳に追加
前記コア粒子のみを焼成し、焼成後のコア粒子内のL*a*b表色系における色差が3以下である。 - 特許庁
The charged-particle beam lithography apparatus images a pattern on a substrate with the projected charged-particle beam through a projection system.例文帳に追加
本発明は、荷電粒子線を用いて投影系を介して基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置である。 - 特許庁
To provide a particle number measuring system having excellent handleability of a user, for displaying not only a particle number concentration after dilution which is a measurement result by a particle number measuring device but also a particle number concentration before dilution.例文帳に追加
粒子数計測システムにおいて粒子数計測装置の計測結果である希釈後の粒子数濃度だけでなく、希釈前の粒子数濃度を表示可能にするとともに、ユーザの使い勝手を良くする。 - 特許庁
To provide a particle size specifying method and a particle size specifying system for granular materials capable of achieving highly accurate particle size specification in a short period of time in specifying particle size in a sample in which granular materials are mixed.例文帳に追加
粒状材料が混在した試料における粒度の特定に際し、短時間で、高精度な粒度特定を実現することのできる、粒状材料の粒度特定方法と粒度特定システムを提供すること。 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE UTILIZING THE SAME例文帳に追加
荷電粒子線露光装置及びそれを利用した半導体装置の製造方法 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
荷電粒子ビーム露光装置、荷電粒子ビーム露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁
MULTIPOLAR FIELD GENERATING DEVICE FOR CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM AND ABERRATION CORRECTION DEVICE例文帳に追加
荷電粒子光学系における多極場発生装置および収差補正装置 - 特許庁
ELECTRON LENS, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM USING THE SAME AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
電子レンズ、その電子レンズを用いた荷電粒子線露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM, CHARGED PARTICLE BEAM SHAPING MEMBER, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
電子ビーム露光装置、荷電粒子線を整形する部材及びその製造方法 - 特許庁
SYSTEM AND PROGRAM FOR SIMULTANEOUSLY MEASURING SHAPE, DIAMETER AND TEMPERATURE OF PARTICLE AND DROPLET例文帳に追加
粒子及び液滴の形状・径と温度との同時計測システム並びにそのプログラム - 特許庁
PARTICLE-OPTICAL ILLUMINATION/IMAGING SYSTEM HAVING SINGLE SIGHT CONDENSER-OBJECTIVE LENS例文帳に追加
コンデンサ−対物−単一視野レンズを備えた粒子光学的照明・結像システム - 特許庁
The particle detecting system has a radiation source for generating a radiation lighting beam.例文帳に追加
粒子検出システムは、放射の照明ビームを生成する放射源を有している。 - 特許庁
At this time the zinc oxide-based inorganic system particle is dissolved in the carbonic water.例文帳に追加
このとき、酸化亜鉛を主体とする無機系微粒子は炭酸水に溶解する。 - 特許庁
SEPARATION OF MAGNETIC PARTICLE MIXED IN FLUID, SEPARATION SYSTEM AND SEPARATOR例文帳に追加
流体に混入した磁性粒子の分離方法及び分離システム並びに分離装置 - 特許庁
SYSTEM AND DEVICE FOR ANALYZING PARTICLE BEHAVIOR, INFORMATION OUTPUT DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加
粒子挙動解析システム、粒子挙動解析装置、情報出力装置、プログラム - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁
METHOD FOR REDUCING VIBRATION IN LIQUID COOLING SYSTEM, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
液体冷却系の振動低減方法、荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
An illumination system 10, a forming means 20 and a projection optical system 30 are provided for each of the particle beams.例文帳に追加
各粒子ビームのために、照明システム10、成形手段20および投射光学系30が設けられている。 - 特許庁
MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE EMPLOYING THE SYSTEM OR THE METHOD例文帳に追加
マルチ荷電粒子線露光装置および方法ならびに該装置または方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure method and a charged particle beam exposure system in which nonuniformity of CD (line width of pattern) due to fogging is improved.例文帳に追加
かぶりによるCDの不均一性を改善した荷電粒子ビーム露光方法及び荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for firmly attaching a functional inorganic system fine particle to a cotton fiber surface without processing the surface of the particle.例文帳に追加
機能性無機系微粒子表面に何らの処理をすることなく、綿繊維表面に強固に付着させる方法を提供する。 - 特許庁
SUBSTRATE FOR TRANSFER MASK, TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE TRANSFER MASK, AND METHOD FOR EXPOSING CHARGED PARTICLE BEAM AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
転写マスク用基板、転写マスク、転写マスクの製造方法並びに荷電粒子線露光方法及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
To provide a charged particle beam optical system which is possessed of an aperture that is less increased in temperature when a charged particle beam impinges on it or it absorbs a charged particle beam, simple in structure, and easily controlled in temperature.例文帳に追加
荷電粒子線の衝突や吸収による温度上昇が少ないアパーチャを有し、構造が簡単で温度制御が容易な荷電粒子線光学系を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam irradiation system capable of securing high safety and highly accurately performing irradiation with charged particle beams, and a charged particle beam emission method.例文帳に追加
本発明の目的は、高い安全性を確保して、高精度で荷電粒子ビームを照射できる荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。 - 特許庁
BEAM ADJUSTING RETICLE FOR CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, ADJUSTING METHOD OF LIGHTING BEAM IN CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR ADJUSTING PROJECTION OPTICAL SYSTEM IN CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加
荷電粒子線露光装置用ビーム調整用レチクル、荷電粒子線露光装置における照明ビームの調整方法、荷電粒子線露光装置における投影光学系の調整方法 - 特許庁
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