「Particle System」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

PARTICLE JET FILM DEPOSITION SYSTEM FOR CONTINUOUS FILM DEPOSITION OF FOIL SUBSTRATE, AND CONTINUOUS FILM DEPOSITION METHOD OF FOIL SUBSTRATE例文帳に追加

箔基材連続成膜の微粒子噴射成膜システム及び箔基材連続成膜方法 - 特許庁

AUTO-BIAS ACTIVITY LOAD CIRCUIT USED FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING SYSTEM, AND RELATED POWER SOURCE例文帳に追加

荷電粒子ビーム処理システムで使用される自己バイアス能動負荷回路及び関連する電源 - 特許庁

To provide an apparatus for reducing particle residues in a semiconductor wafer processing system.例文帳に追加

半導体ウェーハ処理システムにおける残留粒子を減少させるための装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR QUICKLY SWITCHING LARGE CURRENT MODE AND SMALL CURRENT MODE IN CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子ビーム・システムにおいて大電流モードと小電流モードとを高速に切り替える方法 - 特許庁

As it is clear from Fig. 1, disperse system is stable in hydroxyapatite ultrafine particle suspension.例文帳に追加

図１から明らかなように、ヒドロキシアパタイト超微粒子懸濁液では分散系が安定している。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND STAGE THEREFOR, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線露光装置用ステージ、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

To obtain an accurate PET image in a spot scanning type charged particle beam irradiation system.例文帳に追加

スポットスキャニング方式の荷電粒子ビーム照射システムにおいて、精度のよいPET画像を取得する。 - 特許庁

ELECTRON OPTICAL SYSTEM ARRAY AND PREPARING METHOD THEREOF, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子光学系アレイとこの作製方法、荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING HOLLOW BEAM APERTURE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ホロービームアパーチャの製造方法、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

RECOVERY STARTING AID SYSTEM OF PARTICLE FILTER INCORPORATED IN EXHAUST LINE FOR VEHICLE ENGINE例文帳に追加

自動車車両エンジンの排気ライン内に組み込まれた粒子用フィルタの再生開始援助システム - 特許庁

CHARGED-PARTICLE BEAM DEVICE, TEST PIECE HOLDING SYSTEM, METHOD FOR HOLDING TEST PIECE, AND METHOD FOR DETACHING TEST PIECE例文帳に追加

荷電粒子線装置，試料保持システム，試料の保持方法、および、試料の離脱方法 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing system capable of adjusting an irradiation position in a short time.例文帳に追加

短時間で照射位置の調整が可能な荷電粒子ビーム描画システムを提供する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM MAPPING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF例文帳に追加

荷電粒子線写像投影光学系の調整方法及び荷電粒子線写像投影光学系 - 特許庁

To provide an apparatus and method for observing defects by using a charged particle beam system.例文帳に追加

荷電粒子ビーム・システムを用いて欠陥を観察するための方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a simplified, compact particle count measuring system with a reduced cost.例文帳に追加

粒子数計測システムの構成を簡単化及びコンパクト化するとともに、そのコストを削減する。 - 特許庁

To provide a particle beam therapy system easily improving an accuracy in therapy by spot scanning irradiation.例文帳に追加

スポットスキャニング照射で治療精度を容易に向上できる粒子線治療システムを提供する。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD OF IMPROVING PRODUCTION OF SPHERICAL GLASS PARTICLE WITH VERTICAL GLASS FURNACE例文帳に追加

縦型ガラス炉において球状ガラス粒子の生産を向上させるためのシステムおよび方法 - 特許庁

A charged particle optical lens system is formed of quadrupole lenses of 4 stages, and three aperture electrodes.例文帳に追加

荷電粒子光学レンズ系は、４段の四極子レンズと、３つの開口電極から構成される。 - 特許庁

The magnetic particle has a slight variation of magnetic force and excellent dispersibility in a water system.例文帳に追加

この磁性微粒子は、磁力のばらつきが少なく、水系などで優れた分散性を有する。 - 特許庁

FERRITE STACK, RING CORE THEREFOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フェライトスタック用リングコア、フェライトスタック、荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

ELECTROMAGNET POWER SUPPLY DEVICE AND PARTICLE BEAM APPLICATION MEDICAL SYSTEM THEREWITH例文帳に追加

電磁石電源装置およびこの電磁石電源装置を備えた粒子線照射医療システム - 特許庁

The surface of the coarse particle portion B is covered with steel making slag fine powder containing a CaO component system.例文帳に追加

また、粗粒分Ｂの表面を、ＣａＯ成分系を含有する製鋼スラグ微粉で覆う。 - 特許庁

The specific information of the particle coordinate system is generated on the basis of the moving information of a missile 10.例文帳に追加

パーティクル座標系の特定情報をミサイル１０の移動情報に基づき生成する。 - 特許庁

DETECTION METHOD OF SUBSTANCE TO BE DETECTED USING LABELED MAGNETIC PARTICLE, AND DETECTION SYSTEM OF SUBSTANCE TO BE DETECTED例文帳に追加

標識磁性粒子を用いた被検物質の検出方法、及び被検物質の検出システム - 特許庁

REFLECTING DEVICE, COMMUNICATING PIPE, EXHAUSTING PUMP, EXHAUST SYSTEM, METHOD FOR CLEANING THE SYSTEM, STORAGE MEDIUM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND PARTICLE CAPTURING COMPONENT例文帳に追加

反射装置、連通管、排気ポンプ、排気システム、該システムの洗浄方法、記憶媒体、基板処理装置及びパーティクル捕捉部品 - 特許庁

To provide a calibration method for a charged-particle-beam exposure system capable of reducing time needed to calibrate the optics system.例文帳に追加

光学系の較正に要する時間を短縮することができる荷電粒子線露光装置の較正方法等を提供する。 - 特許庁

The image generation system includes a particle padding processing part 132 to define a particle provided in a three-dimensional space as a master particle, to calculate coordinates of a padding point to be generated on a screen plane based on positional coordinates of the master particle visualization processed to a screen plane and to generate a slave particle on the padding point on the screen plane.例文帳に追加

３次元空間に与えられたパーティクルを親パーティクルとし、スクリーン平面へ透視変換された親パーティクルの位置座標に基づきスクリーン平面に発生させる水増し点の座標を演算し、前記スクリーン平面の水増し点に子パーティクルを生成するパーティクル水増し処理部１３２を含む画像生成システムである。 - 特許庁

To propose a charged particle beam exposing system and an inspection method by which the degree of contamination on a mask for exposure in the charged particle beam exposing system using an electron beam, etc., can be inspected uniformly and accurately.例文帳に追加

電子線等の荷電粒子ビーム露光装置における露光用マスク露光用マスクの汚染度を、画一的でより精度の高く検査できる荷電粒子ビーム露光装置、および検査方法を提案する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system in which a high vacuum can be kept in a vacuum chamber and the effect of magnetism generated from a linear motor onto a charged particle beam optical system is suppressed.例文帳に追加

真空チャンバー内を高度の真空に保つことができ、かつ、リニアモーターが発生する磁気が、荷電粒子線光学系に与える影響を少なくした荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam measuring device capable of improving the upper limit of charged particle beam current measurable of space distribution of the charged particle beam in an accelerator system with a distribution measuring device.例文帳に追加

加速器システムのなかで荷電粒子ビームの空間分布分布測定装置で計測可能な荷電粒子ビーム電流の上限を向上させることができる荷電粒子ビーム計測装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a charged particle ray device that has a charged-particle optical system capable of forming an image by zooming out charged particle rays and is not affected by stray light when observed at a high magnification.例文帳に追加

荷電粒子線をズーム拡大して結像させる荷電粒子光学系を有する装置であっても、高倍率での観察等を行なうときに、迷光の影響を受けない荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography system capable of conducting both charged particle beam lithography by a character projection method for drawing one or more patterns of many patterns arranged in an aperture, and a charged particle beam lithography by a variable shaped beam method.例文帳に追加

アパーチャに多数配置されたパターンの一つから複数のパターンを描画する一括描画方式での荷電粒子ビーム描画と、可変成形ビーム描画方式による荷電粒子ビーム描画との両方を行う。 - 特許庁

In a considered particle system, the number of particles is N, mass of each the particle is m, and interaction potential is expressed by a product of an interaction coefficient ε and a dimensionless function f representing inter-particle distance dependence.例文帳に追加

粒子数がＮであり、各粒子の質量がｍであり、相互作用ポテンシャルが、粒子間距離依存性を表す無次元化関数ｆ及び相互作用係数εの積で表される粒子系を考える。 - 特許庁

The CNT 4 is grown from a titanium-cobalt combined fine particle 3 by the CVD method after the titanium-cobalt combined fine particle 3 is deposited on an insulating film 2 on a silicon substrate 1 using a catalytic fine particle forming system.例文帳に追加

触媒微粒子生成システムを用いて、シリコン基板１の絶縁膜２上にチタン・コバルト複合微粒子３を堆積した後、ＣＶＤ法によりチタン・コバルト複合微粒子３からＣＮＴ４を成長させる。 - 特許庁

To provide a multi-beam pattern defining (PD) system, capable of correcting a distortion error in an image forming system and a charged particle processing or inspecting apparatus.例文帳に追加

結像系のひずみエラーを補正できるマルチビーム・パターン定義（ＰＤ）システム、及び荷電粒子処理または点検装置を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent method and a system which monitor a mixing stage and a separation stage using a magnetic particle in an analyzing system.例文帳に追加

分析システムにおいて磁性粒子を用いた混合段階及び分離段階を監視する優れた方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

BIOMASS GASIFICATION METHOD AND SYSTEM USING METAL-SUPPORTING CARRIER, AND METHOD AND SYSTEM FOR RECOVERING METAL PARTICLE FROM METAL-SUPPORTING CARRIER例文帳に追加

金属担持担体を用いたバイオマスのガス化方法及びシステム並びにその金属担持担体から金属粒子を回収する方法及びシステム - 特許庁

The column includes a charged particle beam emitter (2) for emitting primary charged particle beams as one source of the primary charged particle beams; a biprism (6) adapted for acting on the primary charge particle beams so as to generate two virtual sources; and a charged particle beam optical system (10) adapted to simultaneously focus the charged particle beams on two positions of a specimen (8) corresponding to images of two virtual sources.例文帳に追加

コラムは、一次荷電粒子ビーム源として一次荷電粒子ビームを放出する荷電粒子ビームエミッタ（２）と、２つの仮想源が作られるように一次荷電粒子ビームに作用するようになったバイプリズム（６）と、荷電粒子ビームを２つの仮想源の像に対応した試料（８）の２つの位置に同時に集束させるようになった荷電粒子ビーム光学系（１０）とを有する。 - 特許庁

An electronic optical system provided to radiate charged particle beam on a testpiece, a deflecting system to scan the charged particle beam for image formation and a detecting system to detect secondary electrons produced in the testpiece when the charged particle is radiated on the testpiece from the electronic optical system are provided in a scanning electronic microscope main body 110.例文帳に追加

走査電子顕微鏡本体１１０は、試料上に荷電粒子線を照射するために設けた電子光学系と、画像作成のために上記荷電粒子線を走査する偏向系と、上記電子光学系から上記試料に荷電粒子を照射した際に試料から発生する二次電子やその他の信号を検出する検出系とを備える。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR SUPPRESSING ABERRATION INDUCED BY SPATIAL CHARGES IN CHARGED PARTICLE PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子投射リソグラフィ・システムにおける空間電荷に起因する収差を抑制する装置および方法 - 特許庁

To provides a system for stably mass-producing seamless capsules of uniform particle size.例文帳に追加

均一な粒径のシームレスカプセルを安定的に大量生産可能なシームレスカプセル製造装置を提供する。 - 特許庁

ROTATION CENTER SEARCH METHOD AND ROTATION CENTER SEARCH SYSTEM OF SAMPLE HOLDER FOR CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線装置用試料ホルダの回転中心探索方法及び回転中心探索システム - 特許庁

In the semiconductor mask, a mask for the charged-particle beam exposure system is formed in the two constitutions of an extremely thin mask and supporting sections made of a silicon.例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光装置用マスクを、極薄マスク部とシリコン製支持部の二部構成とする。 - 特許庁

To provide an exhaust apparatus configured to reduce particle contamination in a deposition system.例文帳に追加

堆積システムのパーティクルコンタミネーションを減少するように構成された排気装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system which immediately detects the attachment of foreign substances onto a reticle.例文帳に追加

レチクルに異物が付着したことを直ちに検出可能な荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁