「Particle System」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electron beam system for producing a precise structures using charged particle beams.例文帳に追加

荷電粒子ビームを使用して微細構造を製造する電子ビーム・システムを提供すること。 - 特許庁

REFERENCE MARK STRUCTURE AND ITS MANUFACTURE, AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

基準マーク構造体、その製造方法及びそれを用いた荷電粒子線露光装置 - 特許庁

METHOD OF ESTIMATING LINE WIDTH AND OUT-OF-FOCUS AMOUNT OF PATTERN FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子線露光装置におけるパターンの線幅及びボケ量の推定方法 - 特許庁

DIAGNOSTIC SYSTEM OF DAC AMPLIFIER, CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND DIAGNOSTIC METHOD OF DAC AMPLIFIER例文帳に追加

ＤＡＣアンプ診断装置、荷電粒子ビーム描画装置及びＤＡＣアンプ診断方法 - 特許庁

RADIATION SOURCE DEVICE FOR SUPPRESSING DEBRIS PARTICLE, LITHOGRAPHIC APPARATUS, ILLUMINATION SYSTEM, AND METHOD THEREOF例文帳に追加

デブリ粒子を抑制するための放射線源装置、リソグラフィ装置、照明システム、および方法 - 特許庁

ELECTRON OPTICAL SYSTEM ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE USING IT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD OF CALCULATING BLUR IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

荷電粒子線露光装置におけるボケ量の計算方法、及び近接効果補正方法 - 特許庁

CHARGED PARTICLE MEASURING APPARATUS AND SYSTEM, AND DETECTION EFFICIENCY ACQUISITION ARITHMETIC UNIT例文帳に追加

荷電粒子測定装置、検出効率取得演算装置及び荷電粒子測定システム - 特許庁

FIDUCIAL MARK, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM HAVING THE SAME AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フィデュシャルマーク、それを有する荷電粒子線露光装置及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING SILICON CRYSTAL PARTICLE, PHOTOELECTRONIC CONVERTER, AND LIGHT POWER GENERATION SYSTEM例文帳に追加

シリコン結晶粒子の製造方法及び光電変換装置並びに光発電装置 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF DETERMINING REGION TO BE INSPECTED IN LITHOGRAPHY INSPECTION APPARATUS例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置及び描画検査装置での検査領域の決定方法 - 特許庁

To provide a system combined with monitoring and filtration of a fine particle contained in a fluid.例文帳に追加

流体に含まれる微粒子の監視と濾過とを組み合わせたシステムを提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR REMOVING CARBON POLLUTION IN SEMI- ATMOSPHERIC PRESSURE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

準大気圧荷電粒子ビーム・リトグラフィ・システム内の炭素汚染を排除する方法と装置 - 特許庁

RADIATION SOURCE DEVICE FOR SUPPRESSING DEBRIS PARTICLE, LITHOGRAPHIC APPARATUS, ILLUMINATING SYSTEM, AND METHOD例文帳に追加

デブリ粒子を抑制するための放射線源装置、リソグラフィ装置、照明システム、および方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

荷電ビーム描画装置、荷電ビーム描画方法、およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

ELECTRON BEAM ADJUSTING METHOD, CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM CONTROL DEVICE, AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

電子ビームの調整方法，荷電粒子光学系制御装置、及び走査電子顕微鏡 - 特許庁

PARTICLE DETECTION AND EMBEDDED VISION SYSTEM FOR ENHANCING SUBSTRATE YIELD AND THROUGHPUT例文帳に追加

基板産出高およびスループットを向上させる粒子検出および組み込み視覚システム - 特許庁

Because a fine particle portion has a higher soda content, the portion is preferentially discharged outside the system.例文帳に追加

微粒部はソーダ含有量が高いので、これを優先的に系外に排出する。 - 特許庁

IRRADIATION PLANNING METHOD, APPARATUS, PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND COMPUTER PROGRAM FOR THEM例文帳に追加

照射計画方法、装置、粒子線照射システム、及び、これらに用いるコンピュータプログラム - 特許庁

An aqueous dispersion is obtained by dispersing a zinc oxide-based inorganic system particle in water.例文帳に追加

酸化亜鉛を主体とする無機系微粒子を水に分散させた水性分散液を得る。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for correcting beam drift in a charged particle beam system.例文帳に追加

荷電粒子ビーム・システムにおけるビーム・ドリフトを補正する方法および装置を提供する。 - 特許庁

ELECTRONIC-OPTICAL-SYSTEM ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS USING IT, AND DEVICE-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

DEFLECTING SYSTEM, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING DEVICE USING IT, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

偏向器、それを用いた荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

This particle number measuring system 100 includes an information processing device 4 for displaying switchably particle number information after dilution by the measurement result by the particle number measuring device 2 and particle number information before dilution obtained from the particle number information after dilution and a dilution ratio by a dilution unit.例文帳に追加

粒子数計測システム１００において、粒子数計測装置２の計測結果による希釈後の粒子数情報、及び希釈後の粒子数情報と希釈ユニットによる希釈比とから得られる希釈前の粒子数情報を切り替え可能に表示する情報処理装置４を備える。 - 特許庁

The subject modified loess particle powder having average particle size of 1-100μm and micropore specific surface area of ≥20 m^2/g is manufactured as follow; loess is ground to form the particle powder having average particle size of 1-100μm and, thereafter, the loess particle powder is heated at 200-600°C in an open system.例文帳に追加

平均粒径が１〜１００μｍ、かつマイクロポア比表面積が２０ｍ^２／ｇ以上である変性黄土粒子粉末であって、黄土を粉砕して平均粒径１〜１００μｍの粒子粉末としたのち、開放系中で２００〜６００℃に加熱することにより製造する。 - 特許庁

The particle beam therapy system 100 is structured of a synchrotron 200, a beam transport system 300, and an irradiation device 500.例文帳に追加

粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成される。 - 特許庁

ANALYZING METHOD OF CHARGE DISTRIBUTION, ANALYZING METHOD OF ELECTROMAGNETIC FIELD, CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM, DESIGNING METHOD FOR IT, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加

電荷分布の解析方法、電磁場解析方法、荷電粒子光学系の設計方法、荷電粒子光学系、および荷電粒子線装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ENERGY APPLICATION NOZZLE BY CHARGED PARTICLE, ENERGY APPLICATION NOZZLE, ENERGY APPLICATION APPARATUS, AND SYSTEM FOR MEASURING IRRADIATION STRENGTH OF THE CHARGED PARTICLE例文帳に追加

荷電粒子によるエネルギー付与用ノズルの製造方法、エネルギー付与用ノズル、エネルギー付与装置、および荷電粒子照射強度計測システム - 特許庁

CHARGED PARTICLE MAPPING/PROJECTING OPTICAL SYSTEM, CHARGED PARTICLE RAY DEFECT INSPECTING DEVICE COMPRISING IT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY THE SAME例文帳に追加

荷電粒子写像投影光学系、該光学系を備える荷電粒子線欠陥検査装置及び該装置により製造された半導体デバイス - 特許庁

To obtain a multibeam charged particle beam optical lithography system in which positional correction of a charged particle beam can be carried out in a short time with high accuracy.例文帳に追加

マルチビーム型荷電粒子線露光装置おいて、荷電粒子線の位置補正を短時間に、かつ、高精度に行うことを可能にする。 - 特許庁

To provide a gas-borne particle measuring system capable of measuring gas-borne particles by an air-borne particle counter without decreasing accuracy.例文帳に追加

ガス中の粒子を空気中粒子計数器で精度を低下させることなく計測することができるガス中粒子計測システムを提供する。 - 特許庁

To provide a particle dispersed system, an identification factor attaching method and device, a particle-dispersed system attaching means, a medium with an identification factor, an identification information reading method and device, a medium discrimination method and device, and a medium discriminating system.例文帳に追加

粒子分散系、識別因子付与方法及び装置、粒子分散系付与手段、識別因子付き媒体、識別情報読取方法及び装置、媒体識別方法及び装置、媒体識別システム等を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam accelerator capable of solving a problem where a stable region boundary of betatron vibration is changed and a charged particle beam is emitted depending on ripple of main electromagnet power; and to provide a particle beam irradiation system using the charged particle beam accelerator.例文帳に追加

主電磁石電源のリップルによってはベータトロン振動の安定領域境界が変動し出射されてしまうという課題を解決する荷電粒子ビーム加速器及びその荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子照射システムの提供。 - 特許庁

To provide a particle dispersion system resin sheet which is enhanced in dimensional stability and a particle dispersion system resin sheet which is enhanced in light dispersibility by dispersing particles into a base material layer and to provide a liquid crystal display device using these particle dispersion system resin sheets.例文帳に追加

本発明は、基材層に粒子を分散させることにより寸法安定性に優れた粒子分散系樹脂シートや光拡散性に優れた粒子分散系樹脂シートを提供すること、および上記粒子分散系樹脂シートを用いた液晶表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The positive electrode mixture contains a particle of a compound as expressed by the following formula (1) and a sulfide system solid electrolyte particle, and the tap density of the particle expressed by the formula (1) is 2.0 g/cm^3 or more.例文帳に追加

下記式（１）で表される化合物の粒子と硫化物系固体電解質粒子とを含み、式（１）で表される粒子のタップ密度が２．０ｇ／ｃｍ^３以上である正極合材。 - 特許庁

METHOD FOR PROVIDING OPERABLE FILTER SYSTEM FOR FILTERING PARTICLE OUT OF BEAM OF RADIATION, FILTER SYSTEM, APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE FILTER SYSTEM例文帳に追加

放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法、フィルタ・システム、装置、及びフィルタ・システムを含むリソグラフィ装置 - 特許庁

In the charged particle beam exposure system comprising a charged particle beam source, an illumination optical system for irradiating a reticle with a charged particle beam from the charged particle beam source and a projection optical system for projecting a focused image of pattern formed to the reticle on a sensitive substrate, and a reticle-cleaning mechanism is further included for cleaning the reticle.例文帳に追加

荷電粒子線源と、前記荷電粒子線源からの荷電粒子線をレチクルに照射する照明光学系と、前記レチクルに形成されたパターンを感応基板上に投影結像する投影光学系とを有する荷電粒子線露光装置において、 前記レチクルを洗浄するレチクル洗浄機構をさらに有するようにした。 - 特許庁

This projection optical system is a device for projecting and focusing charged particle beams passing through a reticle 1 for receiving charged particle beam illumination on a sensitive substrate 7.例文帳に追加

本投影光学系は、荷電粒子線照明を受けるレチクル１を通過した荷電粒子線を感応基板７上に投影結像させる装置である。 - 特許庁

To provide a particle beam therapy network system allowing introduction of a particle beam therapy apparatus having high efficiency and profitability by specialization and distribution of functions.例文帳に追加

機能の特化と分散により効率よく採算性のよい粒子線治療装置の導入を可能にする粒子線治療ネットワークシステムを得る。 - 特許庁

To provide a particle beam therapy network system allowing the introduction of a particle beam therapy apparatus having high efficiency and profitability by specialization and distribution of functions.例文帳に追加

機能の特化と分散により効率よく採算性のよい粒子線治療装置の導入を可能にする粒子線治療ネットワークシステムを得る。 - 特許庁

To provide a phosphor bead of spherical hollow particle or solid particle suitable for tracer analysis system and its producing method.例文帳に追加

トレーサー分析系に適した球形中空粒子又は中実粒子からなる蛍光体ビーズ及びその製造方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

The particles are detected by a secondary particle detector 23 by means of a secondary particle collector 21 and an electro-optical system lens 22, and a result is stored in a storage part 24.例文帳に追加

該粒子は、二次粒子収集部２１、電子光学系レンズ２２を介して二次粒子検出部２３により検出され、記憶部２４に記憶される。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system, where the inner diameter of a projection lens can be reduced and the vertical incidence property of a charged particle beam with respect to an induction substrate is improved.例文帳に追加

投影レンズの内径を小さくでき、感応基板への荷電粒子線垂直入射性を改善した荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

ABERRATION MEASURING INSTRUMENT FOR CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM, CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER COMPRISING ABERRATION MEASURING INSTRUMENT, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE USING THAT INSTRUMENT例文帳に追加

荷電粒子線光学系用収差測定装置、該収差測定装置を具備する荷電粒子線露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

ELASTOMER PARTICLE HAVING CONDUCTIVE SURFACE, PRESSURE SENSOR HAVING THE PARTICLE, METHOD OF MANUFACTURING THE SENSOR, AND SENSOR SYSTEM HAVING THE SENSOR例文帳に追加

導電性表面を有するエラストマー粒子、その粒子を備える圧力センサ、そのセンサを製造するための方法およびそのセンサを備えるセンサシステム - 特許庁