| 意味 | 例文 |
Particle Systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1233件
To provide an apparatus for inspecting magnetism of a stage component in a charged particle ray exposure system, which is capable of detecting the influence exerted by a magnetic component that is formed for practical use, upon a magnetic field of the charged particle ray exposure system.例文帳に追加
実際に使用される形状の磁性部品が荷電粒子線露光装置の磁場に与える影響を検出することが可能な、荷電粒子線露光装置におけるステージ用部品の磁性検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure system in which a high vacuum can be kept in a vacuum chamber and the effect of a magnetic field generated from a linear motor or the outer magnetic field thereof onto a charged particle beam optical system is suppressed.例文帳に追加
真空チャンバー内を高度の真空に保つことができ、かつ、リニアモーターが発生する磁場やその他の外部磁場が、荷電粒子線光学系に与える影響を少なくした荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam drawing method for reducing the deviation amount of electronic beam irradiation, position on a substrate with respect to a second charged particle beam writing apparatus, when differing charged-particle beam writing apparatus perform writing processing with respect to the substrate, and to provide a charged-particle beam writing system.例文帳に追加
基板に対して異なる荷電粒子ビーム描画装置により描画処理を行う際、2番目の荷電粒子ビーム描画装置に対する基板上の電子ビーム照射位置ずれ量を小さくすることのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置システムを提供する。 - 特許庁
The system of sieving a particle dispersion includes a sieving means for sieving a particle dispersion by a sieve, a recovery means for recovering the overflowing particle dispersion overflowing from the primary side of the sieve, and a returning means for returning the recovered particle dispersion recovered by the recovery means to the upstream side of the sieving means.例文帳に追加
粒子分散液を篩いにより篩分する篩分手段と、篩いの一次側から溢流した溢流粒子分散液を回収する回収手段と、回収手段で回収された回収粒子分散液を篩分手段の上流側に返送する返送手段と、を備える粒子分散液篩分システムである。 - 特許庁
The multi-charged particle writing system for writing on a wafer 9 using a plurality of charged particle beams comprises a Faraday cup 14 receiving a plurality of charged particle beams directly and measuring the total current thereof, and a multi-detector 15 having a function for receiving each charged particle beam directly and multiplying incident electrons, and measuring the relative value of the current of each charged particle beam.例文帳に追加
複数の荷電粒子線を用いてウエハ9を描画するマルチ荷電粒子線描画装置において、複数の荷電粒子線を直接入射させその総電流を計測するファラデーカップ14と、各荷電粒子線を直接入射させ入射電子を増倍する機能を有し、各荷電粒子の電流の相対値を計測するマルチ検出器15とを有する。 - 特許庁
PARTICLE DISPERSED SYSTEM, IDENTIFICATION FACTOR ATTACHING METHOD AND DEVICE, PARTICLE DISPERSED SYSTEM ATTACHING MEANS, MEDIUM WITH IDENTIFICATION FACTOR, IDENTIFICATION INFORMATION READING METHOD AND DEVICE, MEDIUM DISCRIMINATION METHOD AND DEVICE, MEDIUM DISCRIMINATING SYSTEM, ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVELOPMEMT UNIT, ELECTROPHOTOGRAPHIC COPYING METHOD AND COPY WITH ID FUNCTION例文帳に追加
粒子分散系、識別因子付与方法及び装置、粒子分散系付与手段、識別因子付き媒体、識別情報読取方法及び装置、媒体識別方法及び装置、媒体識別システム、電子写真現像剤ユニット、電子写真複写方法並びにID機能付き複写物 - 特許庁
To provide a method capable of adjusting the optical axis of a beam easily with high precision in a charged particle beam optical system.例文帳に追加
荷電粒子線光学系において、ビームの光軸を高い精度で容易に調整できる方法等を提供する。 - 特許庁
This device can be applied to an optical system for detecting the three-dimensional position of the particle under observation by the microscope.例文帳に追加
本発明は、顕微鏡観察下における微粒子3次元位置を検出する光学系に適用することができる。 - 特許庁
To provide a particle monitor system capable of detecting accurately the number or the size of particles flowing inside an exhaust pipe.例文帳に追加
排気管内を流れるパーティクルの数や大きさを正確に検出することができるパーティクルモニタシステムを提供する。 - 特許庁
The lower surface plate for the float glass polishing system is formed of a composite material as a molded and cured mixture of granite particle and thermosetting resin.例文帳に追加
花崗岩粒子と熱硬化性樹脂との混合物が成形及び硬化された複合材料で形成される。 - 特許庁
The particle size measuring apparatus 20 can be provided on the vaporizer 10, the piping 3 and 4 or a CVD film deposition system body 5.例文帳に追加
粒度測定装置20は、気化器10、配管3,4またはCVD成膜装置本体5に設けることができる。 - 特許庁
To provide a fibrous particle-production apparatus and a test system which can stably prepare fibrous particles and makes evaluation using the fibrous particles possible.例文帳に追加
繊維状粒子を安定して生成可能にして、繊維状粒子を用いた評価を行なえるようにする。 - 特許庁
The position of the tube configuring element of the solid particle section in the created system is temporally developed according to Formula 9.例文帳に追加
作成された系における固体粒子部分のチューブ構成要素の位置を、式9に従って時間発展させる。 - 特許庁
To obtain a particle beam system to provide desired operation characteristics more speedily after changing a state of a beam blanker.例文帳に追加
ビームブランカーの状態を変化させた後、より速やかに所望の動作特性を提供する粒子ビームシステムを得る。 - 特許庁
A dual charged-particle beam system is automatically navigated to the vicinity of defect location using information from the defect file.例文帳に追加
複式荷電粒子ビームシステムが、欠陥ファイルからの情報を用いて、自動的にその欠陥位置の近傍にナビゲートされる。 - 特許庁
To provide a beam pick-up method capable of miniaturizing a synchrotron, and a small particle beam medical treatment system using it.例文帳に追加
シンクロトロンの小型化が可能なビーム取り出し方法、ならびにそれを用いた小型粒子線治療システムを提供する。 - 特許庁
BEAM FORMING APERTURE, METHOD FOR FORMING BEAM FORMING APERTURE, CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ビーム成形アパーチャ、ビーム成形アパーチャの製造方法、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure system more improved in exposure and transfer accuracy by reducing its axial aberration.例文帳に追加
軸上収差を小さくすることにより、より露光転写精度の優れた荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁
It does not matter whether or not the acquired image is one of the sample or one of a component of a charged particle optical system.例文帳に追加
取得画像は、試料の画像であるまたは荷電粒子光学系の構成部品の画像であるとを問わない。 - 特許庁
To provide a high voltage power source or the like constituted to apply a bias to an optical component in a charged particle beam processing system.例文帳に追加
荷電粒子ビーム処理システムで光学部品にバイアスをかけるよう構成される高電圧電源等を提供する。 - 特許庁
To provide charged particle beam equipment in which the center of deflection of a deflector is aligned accurately with the intermediate image of an optical system.例文帳に追加
偏向器の偏向中心と光学系の中間像を正確に一致させた荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁
SYSTEM FOR EXPOSURE OF SUBSTRATE WITH SEVERAL INDIVIDUALLY SHAPED PARTICLE BEAMS FOR HIGH RESOLUTION LITHOGRAPHY OF STRUCTURED PATTERN例文帳に追加
構造パターンの高解像度リソグラフィのための、複数の個々に成形された粒子ビームによって基板を照射する装置 - 特許庁
A potential is applied to the back of a photosensor sample S, and an electron beam is scanned in a charged particle optical system 10.例文帳に追加
感光体試料Sに対して裏面に電位を加えて、荷電粒子光学系10で電子ビームを走査する。 - 特許庁
Film formation is performed using the fine particle by means of aerosol 7 type gas deposition by use of a fine deposition system 1.例文帳に追加
当該微粒子を用いて、微細成膜装置1を用いてエアロゾル7式ガスデポジション法により被膜形成を行う。 - 特許庁
To improve service life of an airfoil cooling system by realizing a particle separator for eliminating dirty particles without generating clogging.例文帳に追加
目詰まりなく汚れた粒子を除去するパーティクルセパレータを実現し、エーロフォイル冷却方式の高寿命化を図る。 - 特許庁
To simply obtain an oxide nanocrystal of proper cubic system, having a small particle size without carrying out additional heat treatment.例文帳に追加
付加的熱処理を行わず小さい粒子サイズを有する適当な立方晶の酸化物ナノクリスタルの簡単な製造 - 特許庁
ELECTRODE STRUCTURE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRON-OPTICAL-SYSTEM ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加
電極構造体及びその製造方法、電子光学系アレイ、荷電粒子線露光装置、並びに、デバイスの製造方法 - 特許庁
To expose a target efficiently by a maskless exposure system using a charged particle beam while suppressing increase in the size of an exposure device.例文帳に追加
露光装置の大型化を抑制し、荷電粒子線を用いてマスクレス露光方式で効率的にターゲットを露光する。 - 特許庁
The modified red phosphorus is obtained by coating the surface of a red phosphorus-containing particle (A) with a modified resin coating film (F) containing a white particle (B) having whiteness of ≥70, a colored particle (C) having hue (H) of 30-80 in the hue circle of Munsell color system and a binder resin (D).例文帳に追加
赤燐含有粒子(A)の表面が、白度が70以上の白色粒子(B)、マンセル表色系の色相環における色相Hが30〜80の有色粒子(C)及びバインダー樹脂(D)を含む改質樹脂被膜(F)で被覆された改質赤燐。 - 特許庁
An aligner 1 includes a stage for mounting a wafer 31, coated with a resist sensitive for a charged particle beam and a light beam, and a charged particle beam optical system 3 and a light beam optical system 5 for forming a pattern on the wafer 31.例文帳に追加
本発明の露光装置1は、荷電粒子ビーム及び光の両方に感度を有するレジストを塗布したウエハ31を載置するステージ35と、同ウエハ上にパターンを形成するための荷電粒子ビーム光学系3及び光光学系5を具備する。 - 特許庁
To provide am optical system that can improve the energy utilization efficiency of a charged particle generating source, by readily converting the output of the charged particle generating source, an exposure apparatus using the optical system, and a method of manufacturing devices that uses the exposure apparatus.例文帳に追加
荷電粒子発生源からの出力を容易に変えることを可能にして、荷電粒子発生源のエネルギーの利用効率を高める光学系、その光学系を用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁
The paste for a thin film is equipped with metal fine particles made from either Pd system alloy, Pt system alloy, Au system alloy, Ag system alloy or Ni system alloy with their particle diameters of 1 to 40 nm, and water or an organic solvent with the metal fine particles dispersed.例文帳に追加
薄膜電極用ペーストは、Pd系合金,Pt系合金,Au系合金,Ag系合金又はNi系合金のいずれかからなる粒径が1〜40nmの金属微粒子と、その金属微粒子が分散した水又は有機溶剤とを備える。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a toner for developing electrostatic charge image, capable of suppressing the occurrence of coarse grains and the deterioration of the particle size distribution, and homogenizing compositions, and a particle size distribution measuring system which can be used in the method.例文帳に追加
粗粉の発生及び粒度分布の悪化を抑制すると共に、組成分を均一化することが可能な静電荷像現像用トナーの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a charged particle beam lithography system and a charged particle beam lithography method that suppress a variation in size due to resist heating through multiple lithography, and make a resulting increase in throughput small.例文帳に追加
レジストヒーティングによる寸法変動を多重描画で抑制し、それによるスループットの増加を小さくすることのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
To provide a leakage particle detection system capable of acquiring an accurate, reproducible, thereby measurable and predictable result, and detecting a single fine particle unfindable by human visual sensation.例文帳に追加
正確で再現性があり従って計測可能で予測性のある結果が得られ、人間の視覚では見つけることができない単独微細粒子を検出できる漏出粒子検出システムを提供する。 - 特許庁
This sample analyzer 10 is equipped with a flow cell 30 for forming a sample flow, and an imaging system 24 for acquiring a particle image by imaging a particle contained in the sample flow in the flow cell 30.例文帳に追加
試料分析装置10は、試料流を形成するためのフローセル30と、フローセル30中の試料流に含まれる粒子を撮像して粒子画像を取得するための撮像系24と、を備える。 - 特許庁
To provide a particle counter system and a method for generating scattered light energy spectra, providing high power irradiation in a low-noise environment and which can also be easily converted into particle-measuring data.例文帳に追加
粒子カウンタシステム、ならびに、低ノイズ環境での高出力照射を提供し、かつ粒子測定データに容易に変換可能である散乱光エネルギースペクトルを生成する方法が必要とされる。 - 特許庁
To provide a method and a system capable of improving the signal-to-noise ratio during particle characteristic by implementing a phase sensitive technique which allows for clearly distinguishing between the signals from the particle and the background.例文帳に追加
粒子からの信号と背景からの信号を明確に区別できる位相に敏感な技術を実装して粒子の特性評価における信号対雑音比を向上する方法と装置を提供する。 - 特許庁
To provide a particle counter system and a method for generating a scattered light energy spectrum, providing high power irradiation in a low noise environment and which can also be easily converted into particle-measuring data.例文帳に追加
粒子カウンタシステム、ならびに、低ノイズ環境での高出力照射を提供し、かつ粒子測定データに容易に変換可能である散乱光エネルギースペクトルを生成する方法が必要とされる。 - 特許庁
To provide a system for manufacturing toner, by which a toner having a sharp particle size distribution can be efficiently produced, while the toner does not contain coarse particles even in a toner having small particle diameters and intense aggregation property.例文帳に追加
凝集性の強い、小粒径なトナーにおいても、粗大な粒子が含有されず、粒度分布がシャープなトナーを効率良く作り出すことができるトナーの製造システムを提供することである。 - 特許庁
To provide a charged particle beam irradiation system and a charged particle beam emission method for efficiently emitting and using accumulated beam in a synchrotron and supporting the flatness of an amount of irradiated beam.例文帳に追加
シンクロトロン内の蓄積ビームを効率良く出射・利用でき、かつ照射線量の平坦度を担保することができる荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビーム出射方法を提供する。 - 特許庁
In order to reduce type particle contamination, the vapor phase raw material distribution system 30 is designed to reduce the difference, or ratio, between the pressure in the plenum 32 and the pressure in the deposition system.例文帳に追加
パーティクル汚染を低減するため、気相原料分散システム30は、プレナム32の圧力と成膜システムの圧力との差または比を低減するよう構成される。 - 特許庁
To prevent deformation or damages to a board contained in an electron optical system, which will not degrade the performance of a charged particle beam exposure system or efficiency in manufacturing a device.例文帳に追加
荷電粒子線露光装置の性能あるいはデバイス製造の効率を低下させることなく、電子光学系に含まれる基板の変形や破損を未然に防止する。 - 特許庁
A particle accelerator (102) includes an electrical field system (106) and a magnetic field system (108) that are configured to direct charged particles along a desired path within an acceleration chamber (206).例文帳に追加
加速チェンバー(206)内部において所望の経路に沿って荷電粒子を導く電場システム(106)及び磁場システム(108)を含む粒子加速器(102)である。 - 特許庁
To provide a charging method for providing an incentive related to use of a system for determining a particle generation factor of a user.例文帳に追加
ユーザのパーティクル発生要因判定システムの利用に関するインセンティブを与えることができる課金方法を提供する。 - 特許庁
To provide a charged-particle-beam system capable of minimizing the vibration of a sample generated by floor vibration or sound.例文帳に追加
床の振動や音によって引き起こされる試料の振動を最小にすることができる荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁
To provide a multi-charged particle writing system capable of measuring a current of each electron beam accurately and capable of exposing a desired pattern.例文帳に追加
各電子ビームの電流を正確に測定でき、所望パターンを露光できるマルチ荷電粒子線描画装置を提供する。 - 特許庁
To provide a game device, or the like, capable of realistically expressing particles of a particle system by simple calculation.例文帳に追加
粒子系の粒子の現実的な表現を単純な計算によって行うことが可能なゲーム装置等を提供すること。 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM OF CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, DATA CONVERSION METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND MASK例文帳に追加
荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光方法、データ変換方法、半導体装置の製造方法及びそれに用いるマスク - 特許庁
To provide a charged particle irradiation system whose area of installation is small and by which charged particles can be emitted from a plurality of directions.例文帳に追加
設置面積が小さく、かつ複数の方向から荷電粒子を出射可能な荷電粒子照射システムを提供すること。 - 特許庁
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