| 意味 | 例文 |
Particle Systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1233件
To provide a monitoring system for a particle beam therapy system for immediately specifying a failure region when an abnormality occurs in a device to be monitored and for flexibly responding to an increase in a new device.例文帳に追加
監視対象機器に異常が発生した際に故障部位の特定を早急に行うことができ、新たな機器の増加にも柔軟に対応できる粒子線治療システムの監視システムを提供する。 - 特許庁
To provide a flocculating and settling apparatus capable of automatically discharging a large particle intruding into a system to the outside of the system and controlling the amount of the fine sand to be circulated to be constant.例文帳に追加
系内に侵入した大径粒子を自動的に系外に排出することができ、また、循環する微粒砂の量も一定量に制御することができる凝集沈殿処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide an optical system for a cytometer using a multiplex system for detecting light of various wavelengths in order to obtain information about a particle which light impinges in a flow channel of the cytometer.例文帳に追加
サイトメータのフローチャネル内で光が当たっている粒子に関する情報を得るのに各種の波長の光を検出するための多重化方式を使用するサイトメータ用光システムを提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam irradiating system capable of completely removing charged particles around the optical axis having no contribution to image formation.例文帳に追加
結像に寄与しない光軸周辺部の荷電粒子を高加速される前により完全に除去できる荷電粒子線照射系を提供する。 - 特許庁
To provide an image display system improved in electron mobility of a thin film transistor by expanding the particle diameter of crystal and a method for laser annealing of low-temperature polysilicon.例文帳に追加
結晶粒径を拡大し、薄膜トランジスタの電子移動度を高める画像表示システム及び低温ポリシリコンのレーザアニール方法を提供する。 - 特許庁
This cosmetic composition is characterized by containing a cooling substance having 1-200 μm particle diameter and raising an endothermic reaction by the reaction with water, and being a non-aqueous system.例文帳に追加
水と反応して吸熱反応を起こす粒径1〜200μmの冷却物質を含み、非水系であることを特徴とする化粧料組成物。 - 特許庁
The relative movement between the particles 36 and 38 and the optical element system 32 creates the modulation desired to be able to appropriately analyze the particle 36 and 38.例文帳に追加
粒子36,38と光学素子装置32の間の相対運動により粒子36および38を適切に解析するために必要な変調が生じる。 - 特許庁
FOCUS PROBE OPTICAL SYSTEM, POSITION DETECTING DEVICE USING THE SAME, AND CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION DEVICE EQUIPPED WITH THE POSITION DETECTING DEVICE例文帳に追加
焦点プローブ光学系、その焦点プローブ光学系を備えた位置検出装置、及びその位置検出装置を備えた荷電粒子線照射装置 - 特許庁
To provide a method and system for analyzing suspended substances, which can measure the concentration of a liquid sample, reflecting the particle size of a suspended substance.例文帳に追加
浮遊物質の粒度を反映した、液体試料の濃度測定を行うことのできる浮遊物質解析方法及び浮遊物質解析システムを提供する。 - 特許庁
METHOD OF CALCULATING IRRADIATION ENERGY, METHOD OF CALCULATING PROXIMITY EFFECT, METHOD OF DESIGNING MASK OR RETICLE PATTERN, CHARGED-PARTICLE-BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
照射エネルギーの計算方法、近接効果計算方法、マスク又はレチクルパターンの設計方法、荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
In an especially preferable embodiment, the particle can be used with an inhalation system such as a dry powder inhalator, a constant dosage inhalator or an atomizer.例文帳に追加
特に好ましい実施態様では、この粒子は、乾燥粉末吸入器、定用量吸入器または噴霧器のような吸入デバイスとともに使用され得る。 - 特許庁
To provide a particle counting system and its method of usage which are comparably low price and capable of shortening measurement time while keeping precision of measurement results.例文帳に追加
測定結果の精度は維持しつつ、比較的安価に測定時間の短縮化を図ることが可能な粒子計数システム及びその使用方法を提供する。 - 特許庁
A sample holder of the side-entry system sample stage of the charged particle beam device has a sample pedestal mounted for a sample for dimensional proofreading.例文帳に追加
本発明の荷電粒子線装置のサイドエントリー方式の試料ステージの試料ホルダーには、寸法校正用試料用の試料台が装着される。 - 特許庁
To provide a water treating system and water treating method in which flocculation and precipitation of fine particle substances contained in water to be treated can be effectively accelerated.例文帳に追加
処理対象水が含む微粒物質の凝集沈降をより効果的に促進できる水処理システムおよび水処理方法を提供すること。 - 特許庁
The throughput can be improved by applying a method of a present charged particle beam exposure device, and assuring the exposure accuracy by optical system correction.例文帳に追加
そして、現状の荷電粒子線露光装置の方法を応用し、光学系補正を行って露光精度を確保することで、スループットの向上も可能となる。 - 特許庁
An analyzer 1 analyzes a behavior of an object to be analyzed after the object to be analyzed has been represented thereby as a particle system comprising a plurality of particles.例文帳に追加
解析装置1は、解析対象の物体を複数の粒子からなる粒子系として記述した上で当該物体の振る舞いを解析する。 - 特許庁
To provide a system and program capable of controlling the particle size quality of a granular material by grasping the content of the granular material to the whole from the image of the granular material.例文帳に追加
粒状材料の画像から各粒状材の全体に対する含有率を把握して粒度を管理できるシステム及びプログラムの提供。 - 特許庁
The operational schedule of each stage 11 and 24 and a charged particle beam optical system (a deflector 16, a contrast opening 18, etc.), is decided based on the actually measured time.例文帳に追加
実測時間に基づいて各ステージ11、24及び荷電粒子線光学系(偏向器16、コントラスト開口18等)の動作スケジュールを決定する。 - 特許庁
The radiation-collection system is adjusted to collect extreme ultra-violet radiation which radiates in a collection-direction, which is substantially different from the particle-movement direction.例文帳に追加
該放射線収集システムは粒子移動方向と大きく異なる収集方向に放射する極紫外線を収集するように調整される。 - 特許庁
The method for adjusting the landing angle in the charged particle beam exposure system includes a step of disposing a minute point pattern 51 regarded as being substantially a point on a mask stage 11, and a step of disposing a minute first pin hole 61 on the surface of a wafer.例文帳に追加
マスクステージ11上にほぼ点とみなせる微小な点パターン51を配置し、ウェハ面上に微小な第1ピンホール61を配置する。 - 特許庁
To reconstitute a membrane protein on a phospholipid-apolipoprotein complex particle containing apolipoprotein and phospholipid by using an in vitro reconstituted protein synthesis system.例文帳に追加
アポリポタンパク質とリン脂質を含むリン脂質-アポリポタンパク質複合体粒子に膜タンパク質を、invitro再構成タンパク質合成系を用いて、再構成する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure apparatus for exposing a desired pattern by suppressing the generation of other aberrations when performing an astigmatic correction of an electronic optical system for contraction.例文帳に追加
縮小電子光学系の非点を補正する際、他の収差の発生を抑え、所望パターンを露光できる荷電粒子線描画装置を提供する。 - 特許庁
To provide a charged beam particle lithography system capable of improving a throughput by shortening the time from deflecting an applied voltage to change an irradiation position on a CP aperture to starting lithography.例文帳に追加
CPアパーチャ上での照射位置を変えるための印加電圧を偏向してから描画を始めるまでの時間を短縮し、スループットの向上を図る。 - 特許庁
To provide a catalyst recovery system which is simplified and made compact and which efficiently recovers catalyst particles and suppresses oxidation of the discharged catalyst particle.例文帳に追加
簡素化、小型化を図るとともに、効率良く触媒粒子の回収作業を行うことが可能で、かつ排出された触媒粒子の酸化を抑制すること。 - 特許庁
To provide a method by which the Coulomb effect of a charged particle beam exposure system can be corrected accurately by accurately grasping the gradation of the Coulomb effect by accurately and simply calculating stochastic blur.例文帳に追加
Stochastic Blurを正確に、かつ簡単に計算することにより、クーロン効果ボケを正確に把握し、クーロン効果を正確に補正する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an underwater solid particle thickening device with which a cost effective water treatment system can be built by reducing the number of required centrifuges.例文帳に追加
必要とする遠心分離機の台数を削減することにより経済的な水処理システムを構築し得る水中固形粒子濃縮装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of accurately computing coulomb effect even in the charge particle optical system in which velocity and direction of the charged particles are changed to a large extent.例文帳に追加
荷電粒子の速度や方向が大幅に変化する荷電粒子線光学系においても、クーロン効果を正確に計算する方法を提供する。 - 特許庁
PATTERNED ORIENTATIONAL CARBON NANOTUBE CATHODE, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パタン化配向性カーボンナノチューブ陰極、パタン化配向性カーボンナノチューブ陰極の製造方法、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
Every time amplitude of the signal output from the vibration detector exceeds a threshold value, the system determines that a debris particle passes through between meshing sections of the gear assembly.例文帳に追加
振動検出器からの信号出力の振幅が閾値を超える度に、システムは、デブリ粒子がギア組立体の噛み合い部分間を通過したとみなす。 - 特許庁
To provide a particulate classification method and an apparatus capable of precisely classifying even particulates of particle sizes of less than several microns with a complete continuous system in terms of time.例文帳に追加
粒径が数ミクロン以下の微粒子でも時間的に完全連続方式で精密分級が可能な微粒子分級方法及び装置を提供する。 - 特許庁
LABEL SILICA NANO-PARTICLE FOR IMMUNO-CHROMATOGRAPHY REAGENT, IMMUNO-CHROMATOGRAPHY REAGENT, TEST STRIP FOR IMMUNO-CHROMATOGRAPHY USING IT, AND FLUORESCENCE DETECTION SYSTEM FOR IMMUNO-CHROMATOGRAPHY例文帳に追加
イムノクロマト法試薬用標識シリカナノ粒子、イムノクロマト法試薬、それを用いたイムノクロマト法用テストストリップ、及びイムノクロマト法用蛍光検出システム - 特許庁
An optical window can be placed in a particle detection system which includes a separator between a first environment and a second environment.例文帳に追加
光ウィンドウは、パーティクル検出システム内に位置することができ、パーティクル検出システムは、第1環境と第2環境との間にあるセパレータを含む。 - 特許庁
The source employs a multiplicity of independently-addressable emitters within a small region which can be centered on the axis of the charged particle system.例文帳に追加
この源は、荷電粒子システムの軸を中心とすることができる小さな領域内にある独立してアドレス指定可能な多数の放出器を使用する。 - 特許庁
To provide a spacer particle arranging device capable of accurately and stably arranging spacer particles at arbitrary positions on a substrate by an ink jet system.例文帳に追加
インクジェット方式によってスペーサ粒子を基板上の任意の位置に正確にかつ安定的に配置することができるスペーサ粒子配置装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a charged particle beam exposure system by which a reticle which is not contaminated by fine particles or the like can be used without reducing performance at all times.例文帳に追加
処理能力を低下させることなく、常に微粒子等で汚染されていないレチクルを使用可能である荷電粒子線投影露光装置を提供する。 - 特許庁
The radiation collecting system is regulated in such a manner as to collect the extreme ultraviolet radiation that radiates in the collecting direction that is largely different from the particle movement direction.例文帳に追加
該放射線収集システムは粒子移動方向と大きく異なる収集方向に放射する極紫外線を収集するように調整される。 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure system which can manufacture a plurality of columns as an unitary body and can enhance an assembly accuracy between the respective columns.例文帳に追加
複数個のコラムを一体化させて製造することができるとともに各コラム間の組み立て精度が向上されている荷電ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
The charged particle beam device irradiating a charged particle beam 101 onto an object 106, converting a detected signal 104 from the object to image data to display on a screen, includes a charged particle beam control section 3 scanning the charged particle beam in an arbitrary direction and irradiating it to a discrete position on the object, and an image processing system 13 containing an image data rearranging section 5 rearranging the image data.例文帳に追加
荷電粒子ビーム101を被対象物106に照射し、被対象物からの検出信号104を画像データに変換し画面上に表示する荷電粒子ビーム装置であって、荷電粒子ビームを任意の方向に走査し、被対象物上の離散的な位置に照射する荷電粒子ビーム制御部3と、画像データを並び替える画像データ並び替え部5を含む画像処理システム13とを有する。 - 特許庁
To provide a selectively permeable material by which a film capable of removing suspended substances in air such as SPM (suspended matter of ≤10 μm particle size) and nSPM (suspended matter of ≤100 nm particle size) and having sufficient permeability of gas can be formed and to provide an air-conditioning system using the same.例文帳に追加
SPM、nSPM等の大気中の浮遊物質を除去することが可能であり、且つ気体の透過性が十分である膜を形成することができる選択透過材料、及びそれを用いる空調システムを提供すること。 - 特許庁
To provide a system for accurately and efficiently measuring the particle size distribution of a granular material such as aggregate without requiring a classification means for performing screening in a confirming test for the particle size distribution of aggregate.例文帳に追加
骨材の粒度分布の確認試験等において、篩い分けするための分別手段を必要とせずに、骨材等の粒状体の粒度分布を正確にかつ効率的に測定することのできる粒状体の粒度分布の測定システムを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for manufacturing toner particles having a sharp particle size distribution, capable of coping with a mass production scale, when acquiring toner particle dispersion by using an ultrasonic generation device, concerning the method for manufacturing toner particles granulated in a wet system.例文帳に追加
湿式で造粒されるトナー粒子の製造方法において、超音波発生装置を使用してトナー粒子分散液を得る際に、量産スケールに対応可能で粒度分布がシャープなトナー粒子を製造する製造方法を提供することである。 - 特許庁
To obtain an oily liquid composition which contains a particle added in a lowly viscous oily base, delays the particle deposition, and even if it is deposited, can provide its homogeneous dispersion system by simply shaking.例文帳に追加
低粘度油性基剤中に粒子を配合するに当たって、粒子の沈降速度を遅延し、かつ、沈降した場合であっても振とうすることで容易に粒子の均一分散系が得られる、粒子を配合した油性液状組成物を提供する。 - 特許庁
To provide method and system for measuring freshly mixed concrete aggregate particle size, capable of confirming the quality of freshly mixed concrete aggregate by measuring particle size of the freshly mixed concrete aggregate simply, accurately, speedily, and inexpensively.例文帳に追加
本発明は、生コンクリート骨材の粒度を簡単で、かつ、正確、迅速、安価に測定することにより、生コンクリート骨材の品質を確認することができる生コンクリート骨材粒度測定方法および生コンクリート骨材粒度測定システムに関するものである。 - 特許庁
To provide a powdery particle material treatment system capable of efficiently removing an obstruction substance such as a water soluble component or heavy metals from a powdery particle material while suppressing the foaming of washing wastewater and simplifying equipment to reduce the amount of washing water.例文帳に追加
洗浄排水の発泡を抑制しながら、設備を簡素化して洗浄水量を低減しながらも、粉粒体から水溶性成分や重金属等の障害物質を効率的に除去することができる粉粒体処理システムを提供する。 - 特許庁
The apparatus of producing a positive electrode slurry comprises an adjustment mechanism 20 which adjusts the particle diameter of a powder material 50 used in the positive electrode active material layer of a battery by a dry system, and a kneading mechanism 40 which kneads the powder material having adjusted particle diameter and a solvent 60 by a wet system.例文帳に追加
正極電極スラリーの製造装置は、電池の正極活物質層に用いられる粉末材料50の粉末粒径を乾式方式によって調整する調整機構20と、粉末粒径が調整された粉末材料と溶剤60とを湿式方式によって混練する混練機構40と、を備える。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE ON SUBSTRATE, METHOD FOR FRACTURING OR MASK DATA PREPARATION FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY, METHOD AND SYSTEM FOR FORMING A PLURALITY OF CIRCULAR PATTERNS ON SURFACE, AND SYSTEM FOR FRACTURING OR MASK DATA PREPARATION TO BE USED IN CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加
半導体装置を基板上に製造するための方法、荷電粒子ビームリソグラフィのための断片化またはマスクデータ準備のための方法、複数の円形パターンを表面上に形成するための方法およびシステム、ならびに荷電粒子ビームリソグラフィで用いるための断片化またはマスクデータ準備のためのシステム - 特許庁
The particle image analyzer includes an illuminating optical system 4 for implementing dark-field illumination to particles, an imaging optical system 5 for imaging particles dark-field-illuminated, an image processing substrate 6 extracting particle image from taken images by dark-field illumination to derive morphological characteristic information representing morphological characteristics of particles by analyzing the extracted particle images and an imagery data processing section 2b.例文帳に追加
この粒子画像分析装置は、粒子を暗視野照明するための照明光学系4と、暗視野照明された粒子を撮像するための撮像光学系5と、暗視野照明による撮像画像から粒子像を抽出し、抽出された粒子像を分析して粒子の形態的特徴を表す形態的特徴情報を求める画像処理基板6および画像データ処理部2bとを備える。 - 特許庁
To provide an analyzing method of charge distribution as well as analyzing method of potential distribution which accurately analyzes charge distribution and potential distribution at a material to which charged particle beam or electromagnetic wave is projected, and analyzing method of electromagnetic field, charged particle optical system, designing method for it, and charged particle beam device.例文帳に追加
荷電粒子線または電磁波が照射された物質における電荷分布およびポテンシャル分布を正確に解析できる電荷分布の解析方法、および、ポテンシャル分布の解析方法、それらを用いた電磁場解析方法、荷電粒子光学系の設計方法、荷電粒子光学系、および荷電粒子線装置を提供すること。 - 特許庁
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