| 意味 | 例文 |
Particle Systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1233件
The charged particle beam irradiation system 100 includes a charged particle beam generator 200, a beam transport system 300, and an irradiation device 500.例文帳に追加
荷電粒子ビーム照射システム100は荷電粒子発生装置200とビーム輸送系300と照射装置500から構成される。 - 特許庁
ENSEMBLE MANIFOLD, SYSTEM, AND METHOD FOR MONITORING PARTICLE IN CLEAN ENVIRONMENT例文帳に追加
清浄環境で粒子をモニターするアンサンブルマニホルド、システムおよび方法 - 特許庁
External magnetic fields enter the optical axis of a charged particle beams exposure system from voids A, B, and C and disturb the action of a charged particle beam optical system.例文帳に追加
荷電粒子線露光装置の光軸には、空隙A、B、Cから外部磁場が侵入し、荷電粒子線光学系の作用を乱す。 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR REMOVING COAGULATED PARTICLE IN GRINDING SLURRY例文帳に追加
研摩スラリ中の凝塊化粒子を除去する方法及びそのシステム - 特許庁
DEFLECTOR AND ITS DRIVE METHOD AS WELL AS CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
偏向器及びその駆動方法、並びに荷電粒子線露光装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTER SYSTEM AND ITS METHOD, AND DEVICE MANUFACTURE例文帳に追加
荷電粒子線描画装置及び方法、ならびにデバイス製造方法 - 特許庁
DATA PREPARATION AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加
データ作成方法およびそれを用いた荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加
荷電粒子ビームを用いた描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
ENERGY DISTRIBUTION FORMATION DEVICE AND PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM EQUIPPED WITH THE DEVICE例文帳に追加
エネルギー分布形成装置及びこれを備えた粒子線照射システム - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR DELIVERING MAGNETIC PARTICLE GROUP IN BRANCH PIPE SYSTEM例文帳に追加
分岐管系における担磁粒子群の搬送方法及び搬送装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND MASK FOR DIRECT PLOTTING AND PLOTTING METHOD例文帳に追加
荷電粒子線露光装置および直描用マスク並びに描画方法 - 特許庁
SMALL QUANTITY PARTICLE BATCH PROCESS SYSTEM USED FOR ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS例文帳に追加
電子線照射装置に使用する粒体少量バッチ処理システム - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR COMPUTING PARTICLE SIZE DISTRIBUTION OF SMALL PARTICLES IN PROCESS例文帳に追加
工程内で小粒子の粒径分布を計算する方法及びシステム - 特許庁
SURFACE MODIFIED RARE EARTH SYSTEM MAGNETIC PARTICLE POWDER FOR BOND MAGNET, AND BONDED MAGNET USING THE SURFACE MODIFIED RARE EARTH SYSTEM MAGNETIC PARTICLE POWDER例文帳に追加
ボンド磁石用表面改質希土類系磁性粒子粉末及び該表面改質希土類系磁性粒子粉末を用いたボンド磁石 - 特許庁
The illumination system 10 and projection optical system 30 are composed of particle-optical lenses having lens elements common to more than one particle beam.例文帳に追加
照明システム10およびまたは投射光学系30は一つを超える粒子ビームに共通のレンズ素子を有する粒子光学レンズからなる。 - 特許庁
DEFECT RECOGNIZING METHOD, DEFECT OBSERVING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加
欠陥認識方法、欠陥観察方法、及び荷電粒子ビーム装置 - 特許庁
APPARATUS FOR INSPECTING MAGNETISM OF STAGE COMPONENT IN CHARGED PARTICLE RAY EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線露光装置におけるステージ用部品の磁性検査装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM TRANSFER SYSTEM AND MANUFACTURE OF DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
荷電粒子線転写装置及びこれを用いるデバイス製造方法 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE, AND RETICULE USED IN THE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線投影露光方法、荷電粒子線投影露光装置及びそれに用いるレチクル - 特許庁
ELECTRONIC OPTICAL SYSTEM ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM PROVIDED THEREWITH, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁
METALLIC LAYER DEPOSITION SYSTEM FOR REDUCING PARTICLE FORMATION AND VAPOR PHASE RAW MATERIAL DISTRIBUTION SYSTEM AND METHOD例文帳に追加
パーティクルの形成を低減する金属層成膜システム、気相原料分配システムおよび方法 - 特許庁
The device generally includes a continuous perfusion fermentation system, a continuous particle removal system integrated with the perfusion fermentation system; and a continuous purification system integrated with the particle removal system, which is maintained under sterile conditions.例文帳に追加
本発明の装置は一般に、無菌状態で維持される、連続灌流発酵システムと、灌流発酵システムと一体化した連続粒子除去システムと、粒子除去システムと一体化した連続精製システムとを含む。 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure system which can perform high-accuracy exposure by using a stable charged particle beam.例文帳に追加
安定した荷電粒子ビームにより高精度な露光を行うことができる荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, RESIZING DEVICE FOR PATTERN DIMENSIONS, CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD AND RESIZING METHOD OF THE PATTERN DIMENSIONS例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画装置、パターン寸法のリサイズ装置、荷電粒子ビーム描画方法及びパターン寸法のリサイズ方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTING EXPOSURE DEVICE, MASK FOR EXPOSURE, METHOD OF MANUFACTURING MASK FOR EXPOSURE, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTING EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線投影露光装置、露光用マスク、露光用マスクの製造方法、及び荷電粒子線投影露光システム - 特許庁
RESPIRATORY NAVIGATION APPARATUS AND RESPIRATORY TIMING DISPLAY METHOD USED FOR PARTICLE BEAM THERAPEUTIC APPARATUS, AND PARTICLE BEAM THERAPEUTIC SYSTEM例文帳に追加
粒子線治療装置に用いられる呼吸ナビゲーション装置及び呼吸タイミング表示方法並びに粒子線治療システム - 特許庁
METHOD FOR GENERATING FINE PARTICLES, FINE PARTICLE GENERATOR, FINE PARTICLE UNIT PROVIDED THEREWITH AND VERIFICATION SYSTEM FOR PURIFICATION PROVIDED THEREWITH例文帳に追加
微粒子発生方法、微粒子発生装置、これを備えた微粒子ユニットおよびこれを備えた清浄化検証システム - 特許庁
DEVELOPING DEVICE, TONER PARTICLE CARRYING ROLLER, IMAGE FORMING APPARATUS AND SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING TONER PARTICLE SUPPLY ROLLER例文帳に追加
現像装置、トナー粒子担持ローラ、画像形成装置、画像形成システム、及び、トナー粒子供給ローラの製造方法 - 特許庁
BEAM EMISSION CONTROL METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM ACCELERATOR, AND PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM USING CHARGED BEAM ACCELERATOR例文帳に追加
荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及び荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子ビーム照射システム - 特許庁
SUSPENSION OR PARTICLE-SOLVENT MIXED SYSTEM CONTAINING ZINC-CONTAINING CALCIUM PHOSPHATE PARTICLE, AND THERAPEUTIC AGENT FOR ZINC DEFICIENCY DISORDERS例文帳に追加
亜鉛含有リン酸カルシウム微粒子含有懸濁液または粒子溶媒混合系及び亜鉛欠乏症治療剤 - 特許庁
To provide a particle detecting system, a particle detecting method, and a program for efficiently counting particles.例文帳に追加
効率よくパーティクルを計数することが可能なパーティクル検出システム、パーティクル検出方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁
MIST ELIMINATOR, MOISTURE REMOVAL SYSTEM, AND METHOD OF REMOVING WATER PARTICLE FROM INLET AIR例文帳に追加
ミストエリミネータ、脱湿システム、及び吸気から水粒子を除去する方法 - 特許庁
CHARGED-PARTICLE-BEAM EXPOSURE SYSTEM AND CALIBRATION METHOD THEREFOR例文帳に追加
荷電粒子線露光装置の較正方法及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
SCANNING-TYPE IRRADIATION NOZZLE DEVICE, BEAM TRANSPORTING CHAMBER AND PARTICLE BEAM THERAPEUTIC SYSTEM例文帳に追加
走査式照射ノズル装置、ビーム輸送チェンバ及び粒子線治療システム - 特許庁
METHOD FOR DETECTING MARK FOR ALIGNMENT IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線露光装置における位置合わせ用マークの検出方法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR EXPOSING AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
回路パターンの設計方法、露光方法及び荷電粒子ビーム露光システム - 特許庁
METHOD OF SAMPLE MANUFACTURE AND TRANSMISSIVE IRRADIATION AS WELL AS PARTICLE OPTICAL SYSTEM例文帳に追加
サンプルの製造及び透過性照射方法並びに粒子光学システム - 特許庁
IRRADIATION OPTICAL SYSTEM, AND PARTICLE PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加
照射光学系及びこの照射光学系を備えた粒子処理装置 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING AND/OR ANALYSIS OF PARTICLE IN GAS STREAM例文帳に追加
ガス流中粒子の測定及び/又は分析のためのシステム及び方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, EXPOSING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
荷電粒子線露光装置、露光方法及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁
TONER PARTICLE CARRYING ROLLER, DEVELOPING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS, AND IMAGE FORMATION SYSTEM例文帳に追加
トナー粒子担持ローラ、現像装置、画像形成装置、及び画像形成システム - 特許庁
ULSI COMPRISING BINARY-NOTATION-SYSTEM ELEMENT FOR RETURNING ELEMENTARY PARTICLE OR ATOM TO PAST例文帳に追加
素粒子又は原子過去戻し2進法方式素子から成るULSI - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR LINKING PARTICLE BEAM TREATMENT PLAN例文帳に追加
粒子線治療計画連携システム及び粒子線治療計画連携方法 - 特許庁
GAS INJECTION SYSTEM FOR SPECIAL PARTICLE BEAM THERAPY EQUIPMENT AND METHOD FOR OPERATING GAS INJECTION SYSTEM例文帳に追加
とりわけ粒子線治療設備用のガス噴射システムおよびガス噴射システムを動作させるための方法 - 特許庁
To provide a method and system for reducing particle contamination in a vapor phase raw material distribution system.例文帳に追加
気相原料分散システムにおけるパーティクル汚染を低減する方法およびシステムを提供する。 - 特許庁
OPTICAL SYSTEM ELEMENT, ASTIGMATISM COMPENSATOR, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
光学系要素、非点収差補正器、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
MEMBER USED FOR MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
マスク、半導体素子製造方法、電子ビーム露光装置、荷電ビーム処理装置において用いられる部材 - 特許庁
The scaling rate S in the Z-axial direction of a particle coordinate system is adjusted according to movement information of a particle generation source and then the particle coordinate systems are connected.例文帳に追加
パーティクル座標系のZ軸方向でのスケーリング率Sを、パーティクル発生源の移動情報に基づき調整することで、パーティクル座標系同士を連結させる。 - 特許庁
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