「Proximity effect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK, DEVICE AND PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE例文帳に追加

近接効果補正方法、フォトマスク、デバイス、近接効果補正装置 - 特許庁

OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

光近接効果を補正する方法 - 特許庁

On proximity effect correction, a proximity effect correction pattern X1, a proximity effect correction pattern X1', and a proximity effect correction pattern X1" are added to a circuit pattern.例文帳に追加

近接効果補正時に、回路パターンに、近接効果補正パターンＸ１、近接効果補正パターンＸ１´、近接効果補正パターンＸ１´´を付加する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING OPTICAL PROXIMITY EFFECT, APPARATUS FOR CORRECTING OPTICAL PROXIMITY EFFECT, AND PROGRAM例文帳に追加

光近接効果補正方法、光近接効果補正装置、及びプログラム - 特許庁

TACTILE SENSE EFFECT BASED ON PROXIMITY DETECTION例文帳に追加

近接感知による触覚的効果 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの近接効果補正方法 - 特許庁

PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD AND EB MASK例文帳に追加

近接効果補正方法及びＥＢマスク - 特許庁

PROCESS FOR CONTROLLING PROXIMITY EFFECT CORRECTION例文帳に追加

近接効果補正を制御するためのプロセス - 特許庁

MANUFACTURE OF OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION MASK例文帳に追加

光近接効果補正マスクの製造方法 - 特許庁

OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD AND DEVICE, OPTICAL PROXIMITY EFFECT VERIFICATION METHOD AND DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM AND OPTICAL PROXIMITY EFFECT VERIFICATION PROGRAM例文帳に追加

光近接効果補正方法と装置、光近接効果検証方法と装置、露光用マスクの製造方法、更に光近接効果補正プログラムと光近接効果検証プログラム - 特許庁

METHOD FOR VERIFYING PROXIMITY EFFECT CORRECTION OF MODEL BASE例文帳に追加

モデルベースの近接効果補正の検証方法 - 特許庁

OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

光近接効果補正方法およびその装置 - 特許庁

To prevent size variation due to proximity effect and loading effect.例文帳に追加

近接効果およびローディング効果による寸法変動を回避する。 - 特許庁

METHOD FOR REDUCING PROXIMITY EFFECT OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子ビーム・リソグラフィの近接効果低減方法 - 特許庁

OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD, OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE, OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN DESIGN RESTRICTION DEVELOPING METHOD AND CALCULATION METHOD OF OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION CONDITION例文帳に追加

光近接効果補正方法、光近接効果補正装置、光近接効果補正プログラム、半導体装置の製造方法、パターン設計制約策定方法および光近接効果補正条件算出方法 - 特許庁

PROXIMITY EFFECT CORRECTING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

近接効果補正方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

PROXIMITY EFFECT CORRECTING METHOD AND DEVICE- MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

近接効果補正方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

VERIFICATION APPARATUS FOR ACCURACY OF PROXIMITY EFFECT CORRECTION, VERIFICATION METHOD FOR ACCURACY OF PROXIMITY EFFECT CORRECTION, AND PROGRAM THEREOF例文帳に追加

近接効果補正精度検証装置及び近接効果補正精度検証方法並びにそのプログラム - 特許庁

PROXIMITY EFFECT CORRECTING METHOD AND MANUFACTURE OF DEVICE例文帳に追加

近接効果補正方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT CORRECTION RATE例文帳に追加

近接効果補正量の補正方法及び装置 - 特許庁

METHOD FOR VERIFYING PROXIMITY EFFECT CORRECTION AND VERIFICATION APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

近接効果補正の検証方法及び検証装置 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK DATA, PROGRAM, PROXIMITY EFFECT CORRECTION MASK例文帳に追加

マスクデータ補正方法、プログラム及び近接効果補正マスク - 特許庁

PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD, RETICLE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

近接効果補正方法、レチクル及びデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT IN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子ビーム描画装置における近接効果補正方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING LIGHT PROXIMITY EFFECT OF SEMICONDUCTOR PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

半導体製造プロセスの光近接効果補正方法 - 特許庁

A proximity effect corrector 14 performs a proximity effect correction by using the value of the parameter, and creates exposure data.例文帳に追加

近接効果補正部１４は、そのパラメータの値を用いて近接効果補正を行い、露光データを作成する。 - 特許庁

The amount of irradiation for proximity effect correction which corrects a proximity effect in the charged particle beam plotting is computed.例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画における近接効果を補正する近接効果補正照射量を算出する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT, RETICLE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

近接効果補正方法、レチクル及びデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a light proximity effect correction method which can carry out light proximity effect correction in a short time.例文帳に追加

短時間で光近接効果補正を行うことができる光近接効果補正方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To correct light proximity effect with high accuracy.例文帳に追加

光近接効果の補正を高精度に行なえるようにする。 - 特許庁

To shorten the processing time of optical proximity effect correction (OPC).例文帳に追加

光近接効果補正（ＯＰＣ）の処理時間を短縮する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE, AND OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

露光装置、露光方法、及び光近接効果補正方法 - 特許庁

A proximity effect amount calculating section 25 obtains a proximity effect amount, and a loading effect correction amount calculating section 26 computes a loading effect amount correction amount.例文帳に追加

そして、近接効果影響値算出部２５が近接効果影響値を算出し、ローディング効果補正量算出部２６がローディング効果補正量を算出する。 - 特許庁

Proximity effect is also taken into account, and an optimal set of parameters is obtained in order to get a common control function for proximity effect and fogging effect.例文帳に追加

近接効果も考慮され、近接効果及びかぶり効果のための共通制御関数を獲得するために、最適な組のパラメータが得られる。 - 特許庁

MASK FOR CORRECTING LIGHT PROXIMITY EFFECT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

光近接効果の補正のためのマスクとその製造方法 - 特許庁

To provide a proximity effect correcting method or the like capable of rightly correcting a proximity effect, even when a beam blur is changed locally.例文帳に追加

ビームボケが局部的に変化していても、正しく近接効果が補正できる近接効果補正方法等を提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION例文帳に追加

光近接効果補正方法及び光近接効果補正システム - 特許庁

To realize a predictive model for process proximity effect with high precision.例文帳に追加

精度が高いプロセス近接効果の予測モデルを実現すること。 - 特許庁

VERIFICATION METHOD OF PROXIMITY EFFECT CORRECTION IN ELECTRON BEAM DRAWING例文帳に追加

電子ビーム描画における近接効果補正の検証方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING PROCESS PROXIMITY EFFECT, AND RECORDING MEDIUM STORING PATTERN CORRECTION PROGRAM FOR PROCESS PROXIMITY EFFECT例文帳に追加

プロセス近接効果の補正方法、プロセス近接効果の補正装置及びプロセス近接効果のパターン補正プログラムを格納した記録媒体 - 特許庁

To produce an etching proximity effect correction model correcting a mask pattern with respect to an etching proximity effect with high accuracy.例文帳に追加

エッチング近接効果に対するマスクパターンの補正を非常に高精度で行うことができるエッチング近接効果補正モデルを作成する。 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法、近接効果補正装置およびプログラム - 特許庁

To provide a method for reducing a proximity effect of electron beam lithography.例文帳に追加

電子ビーム・リソグラフィの近接効果低減方法を提供すること。 - 特許庁

COMPUTATION METHOD OF PROXIMITY EFFECT, DANGEROUS POINT DETECTOR, AND PROGRAM例文帳に追加

近接効果の計算方法、危険箇所検出装置及びプログラム - 特許庁

Since the proximity effect correction is carried out using the corrected mask bias amount taking the beam blur caused by a Coulomb effect into consideration, the accuracy of the proximity effect correction can be improved.例文帳に追加

クーロン効果によるビームぼけを考慮した補正マスクバイアス量を用いて近接効果補正を行うことで、近接効果補正精度を向上することが可能になる。 - 特許庁