「Scanning Projection Aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SCANNING PROJECTION ALIGNER AND DEVICE-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

走査露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

走査型投影露光装置及び露光方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER AND EXPOSING METHOD例文帳に追加

走査型投影露光装置および露光方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNING METHOD, LASER, SCANNING PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURE OF DEVICE例文帳に追加

走査露光方法、レ—ザ装置、走査型露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

SCANNING-TYPE PROJECTION ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE例文帳に追加

走査型投影露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER AND POSITIONING METHOD THEREOF例文帳に追加

走査型投影露光装置及びその位置合わせ方法 - 特許庁

The scanning projection aligner comprises a projection optical system PL having an image field, capable of being simultaneously exposed at one shot of the scanning projection aligner.例文帳に追加

スキャン露光装置における１ショットを、一括して露光可能なイメージフィールドを有する投影光学系ＰＬを備えている。 - 特許庁

METHOD OF SCANNING TYPE PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

走査型投影露光方法及び走査型投影露光装置 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING MICRO DEVICE例文帳に追加

走査型投影露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

走査型投影露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER AND METHOD FOR FABRICATING DEVICE USING IT例文帳に追加

走査型露光装置、及びその装置を用いるデバイス製造方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 - 特許庁

PLANE POSITION DETECTOR AND SCANNING TYPE PROJECTION ALIGNER USING THE DETECTOR例文帳に追加

面位置検出装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 - 特許庁

To provide a scanning projection aligner where the agreement accuracy between the running surface of a wafer stage and the image formation surface of a reticle image at the time of scanning is improved in the scanning projection aligner.例文帳に追加

走査露光装置においてスキャン時のウエハーステージの走り面とレチクル像の結像面の一致精度の向上した走査露光装置を提供すること。 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER, METHOD OF CORRECTING RUNNING OF MASK STAGE, AND METHOD OF MANUFACTURING MICRO DEVICE例文帳に追加

走査型投影露光装置、マスクステージの走り補正方法及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

LUMINOUS EXPOSURE CONTROL METHOD AND APPARATUS, AND SCANNING PROJECTION ALIGNER USING THEM例文帳に追加

露光量制御方法および露光量制御装置、並びにそれらを用いた走査型露光装置 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER, AND ILLUMINANCE CALIBRATING METHOD AND ALIGNING METHOD THEREOF例文帳に追加

走査型投影露光装置、走査型投影露光装置の照度キャリブレーション方法及び露光方法 - 特許庁

To provide a projection aligner for performing focus measurement at the same position in a shot in all shots regardless of a scanning speed, the control method of the projection aligner, and a manufacturing method of a device.例文帳に追加

走査速度にかかわらず、全ショットにてショット内の同一の位置でフォーカス計測を行うことができる露光装置及びその制御方法並びにデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning projection aligner for forming a device by using an inexpensive mask irrespective of the device size.例文帳に追加

デバイスの大きさにかかわらず安価なマスクによりデバイスを形成することが可能な走査型投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a scanning projection aligner capable of adjusting the projection magnification at any time in accordance with the form of a photosensitive substrate without complicating the exchange of the photosensitive substrate.例文帳に追加

感光性基板の交換動作を複雑にすることなく、感光性基板の変形に応じて投影倍率を随時調整することのできる走査型投影露光装置。 - 特許庁

To provide a scanning projection aligner which can print a pattern with uniform resolution over the entire surface of a light exposure region.例文帳に追加

露光領域全面にわたり均一な解像力でパターンを焼き付けることができる投影露光装置、特に走査型の投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This scanning projection aligner is provided with a function for correcting the zero point position of a focus detection system and the running direction of a wafer stage for setting the running surface of the wafer stage at the time of scanning and the image formation surface of a reticle image to parallel positions.例文帳に追加

スキャン時のウエハーステージの走り面とレチクル像の結像面を平行な位置に設定できるフォーカス検出系の原点位置とウエハーステージの走り方向を補正する機能を設けたことを特徴とする走査型露光装置。 - 特許庁

To provide a scanning aligner and exposure method, where thermal deformation state of a mask is monitored at always, and based on the monitoring result, the imaging characteristics of a projection optical system is accurately corrected.例文帳に追加

マスクの熱変形状態を常時監視し、その監視結果に基づいて投影光学系の結像特性を正確に補正可能な走査型露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

A laser beam 103L taken out from an ArF excimer laser 103 of the exposure light source of a scanning aligner 100 is guided through the inside of an aligner main body 101, and is projected on a reticle 115 to expose a wafer 120d in the form of a pattern through a reducing projection lens 117 to the outgoing laser beam through the reticle 115.例文帳に追加

スキャン型露光機１００の露光光源であるＡｒＦエキシマレーザ１０３から取り出されたレーザ光１０３Ｌを、露光機本体１０１の内部を導き、レチクル１１５に照射し、レチクル１１５を出射したレーザ光を縮小投影レンズ１１７を通してウエハー１２０ｄをパターン状に露光する。 - 特許庁

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

To provide an inexpensive aligner capable of transferring a fine pattern en bloc with high precision at a low cost, using an electron gun capable of irradiating charge particles of a large area to transfer over the entire chip area en bloc, without horizontally scanning or deflecting an electron beam and without using a complicated deflector or scale reducing projection mechanism.例文帳に追加

転写されるチップ面積全体を一括転写が行える大面積の荷電粒子を照射できる電子銃を用いて、電子ビームの水平方向の走査や、偏向は行わない、複雑な偏向器や、縮小投影用機構を用いない高精度で微細なパターンを一括転写できる高精度で低価格な露光装置を提供する。 - 特許庁