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alignerを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2856



例文

SCANNING EXPOSURE METHOD AND SCANNING TYPE ALIGNER, AND MASK例文帳に追加

走査露光方法および走査型露光装置並びにマスク - 特許庁

ALIGNER AND PRODUCTION OF PLASMA DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

露光装置およびそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁

ALIGNER AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

露光装置、及び該露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁

ALIGNER AND METHOD OF EXPOSURE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

例文

PROJECTION ALIGNER AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 - 特許庁


例文

METHOD FOR MANUFACTURING ALIGNER AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRO-DEVICE USING THE ALIGNER MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

ALIGNER, COATER DEVELOPER, DEVICE MANUFACTURING SYSTEM, DEVICE FABRICATING METHOD, SEMICONDUCTOR PRODUCING FACTORY AND METHOD FOR MAINTAINING ALIGNER例文帳に追加

露光装置、コートデベロップ装置、デバイス製造システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

MAGNETIC SUPPORTING MECHANISM, POSITIONING APPARATUS, ALIGNER, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT AND MAINTENANCE METHOD OF ALIGNER例文帳に追加

磁気支持機構、位置決め装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

ALIGNER, METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE, FACTORY FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR AND METHOD FOR MAINTAINING ALIGNER AND POSITION DETECTOR例文帳に追加

露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場及び露光装置の保守方法並びに位置検出装置 - 特許庁

例文

ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, ALIGNER, METHOD OF EXPOSURE, METHOD OF ADJUSTING ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ALIGNER例文帳に追加

照明光学装置、露光装置、露光方法、照明光学装置の調整方法、および露光装置の製造方法 - 特許庁

例文

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD, DEVICE- MANUFACTURING METHOD, AND MAINTENANCE METHOD FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY, AND THE PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

投影露光装置、投影露光方法、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

POSITIONING DEVICE AND ITS CONTROL METHOD, ALIGNER, MANUFACTURING METHOD OF DEVICE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURE PLANT, MAINTENANCE PROCEDURE OF ALIGNER例文帳に追加

位置決め装置及びその制御方法、露光装置、デバイスの製造方法、半導体製造工場、露光装置の保守方法 - 特許庁

CREATION METHOD OF EXPOSURE MASK DATA FOR ELECTRON-RAY PROJECTION ALIGNER, EXPOSURE MASK FOR ELECTRON-RAY PROJECTION ALIGNER, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

電子線露光装置用露光マスクデータの作成方法および電子線露光装置用露光マスクならびに露光方法 - 特許庁

REFERENCE PLATE, ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING SYSTEM, DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT AND MAINTENANCE METHOD OF THE ALIGNER例文帳に追加

基準プレート、露光装置、デバイス製造システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

ACTIVE VIBRATION ISOLATION DEVICE, ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE-MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR- MANUFACTURING FACTORY, AND MAINTENANCE METHOD OF ALIGNER例文帳に追加

アクティブ除振装置、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法 - 特許庁

ELECTROMAGNETIC ACTUATOR, LINEAR MOTOR, ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY, AND MAINTENANCE METHOD OF ALIGNER例文帳に追加

電磁アクチュエータ、リニアモータ、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

ALIGNER, METHOD FOR MAINTAINING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE ALIGNER AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY例文帳に追加

露光装置、その保守方法並びに同装置を用いた半導体デバイス製造方法及び半導体製造工場 - 特許庁

MEASUREMENT METHOD OF ILLUMINANCE IRREGULARITIES OF ALIGNER, CORRECTION METHOD OF ILLUMINANCE IRREGULARITIES, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND ALIGNER例文帳に追加

露光装置の照度むらの測定方法、照度むらの補正方法、半導体デバイスの製造方法及び露光装置 - 特許庁

To provide a method of eliminating contaminants adhered on a reticle or a mask and the inside of an aligner without significantly deteriorating a throughput of the aligner, in the aligner which uses an electron-beam or light.例文帳に追加

電子線や光を用いた露光装置において、レチクルやマスク、及び、装置内に付着した汚染物を、装置のスループットを大きく低下させることなく除去する方法を提供する。 - 特許庁

FLARE-EVALUATING MASK AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR ALIGNER例文帳に追加

半導体露光装置のフレア評価用マスク及びフレア評価方法 - 特許庁

SCANNING TYPE ALIGNER, SCAN TYPE ALIGNING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

走査型露光装置、走査露光方法、及びデバイス製造方法。 - 特許庁

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ADJUSTMENT METHOD THEREOF, PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND ADJUSTMENT METHOD OF PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

投影光学系、投影光学系の調整方法、投影露光装置、投影露光方法、および投影露光装置の調整方法 - 特許庁

To provide an aligner with a high throughput and high resolution hardly realized by an optical aligner single body.例文帳に追加

光露光単体ではなしえない高解像度を実現でき、かつ高スループットをねらうことのできる露光装置を提供する。 - 特許庁

ALIGNER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR CHIP USING THE SAME例文帳に追加

露光装置及びそれを用いた半導体チップの製造方法 - 特許庁

ALIGNMENT METHOD, ALIGNER, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

位置合せ方法、露光装置、及び、半導体デバイス生産方法 - 特許庁

PROJECTION ALIGNER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ADJUSTING METHOD例文帳に追加

投影露光装置、並びにその製造方法及び調整方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM MATRIX AND ALIGNER例文帳に追加

光情報記録媒体原盤の製造方法及び露光装置 - 特許庁

STAGE DEVICE, ALIGNER AND METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ステージ装置、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER AND MICRO DEVICE例文帳に追加

照明光学系、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL DEVICE, EXPOSURE MASK AND ALIGNER例文帳に追加

液晶装置の製造方法並びに露光マスク及び露光装置 - 特許庁

MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスク及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁

CLEANING UNIT, ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CLEANING METHOD例文帳に追加

クリーニング装置、露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 - 特許庁

The scanning projection aligner comprises a projection optical system PL having an image field, capable of being simultaneously exposed at one shot of the scanning projection aligner.例文帳に追加

スキャン露光装置における1ショットを、一括して露光可能なイメージフィールドを有する投影光学系PLを備えている。 - 特許庁

SCAN PROJECTION ALIGNER AND SCAN PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

スキャン露光装置及び方法並びにデバイスの製造方法 - 特許庁

OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD, PROJECTION OPTICAL DEVICE AND ALIGNER例文帳に追加

光学系の製造方法,投影光学装置および露光装置 - 特許庁

SUBSTRATE TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE HOLDING DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND ALIGNER例文帳に追加

基板処理装置、基板保持装置、露光方法及び露光装置 - 特許庁

MEASURING METHOD, METHOD AND APPARATUS FOR HOLDING SUBSTRATE, AND ALIGNER例文帳に追加

計測方法、基板保持方法、基板保持装置及び露光装置 - 特許庁

MASK INSPECTION METHOD, MASK INSPECTION DEVICE, EXPOSURE METHOD AND ALIGNER例文帳に追加

マスク検査方法、マスク検査装置、露光方法、及び露光装置 - 特許庁

REFLECTOR FOR ULTRAVIOLET REGION AND PROJECTION ALIGNER EMPLOYING IT例文帳に追加

紫外域用反射ミラー及びそれを用いた投影露光装置 - 特許庁

ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT例文帳に追加

露光装置、露光方法、及びそれを用いたデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an aligner which efficiently regulates a temperature of a reticle delivered in the aligner from an external, and improves throughput.例文帳に追加

外部から露光装置内へ搬入されたレチクルを効率的に温調し、スループットを向上させた露光装置を提供する。 - 特許庁

SCANNING EXPOSURE METHOD, SCANNING-TYPE ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE例文帳に追加

走査露光方法、走査型露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

POSITION DETECTION METHOD, POSITION DETECTION DEVICE, ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY AND MAINTENANCE METHOD OF ALIGNER例文帳に追加

位置検出方法、位置検出装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

TRANSPORTATION METHOD AND TRANSPORTATION APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD AND ALIGNER例文帳に追加

搬送方法及び搬送装置、露光方法及び露光装置 - 特許庁

ULTRAHIGH-PRESSURE MERCURY LAMP AND SEMICONDUCTOR ALIGNER USING THE SAME例文帳に追加

超高圧水銀ランプ及びそれを用いた半導体露光装置 - 特許庁

ALIGNER, ALIGNMENT METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光装置、アライメント方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM, ALIGNER AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

波面収差測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

AIR ACTUATOR, STAGE APPARATUS, ALIGNER, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

エアアクチュエータ、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁

POLYPHASE COIL-TYPE LINEAR MOTOR, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

多相コイル型リニアモータ、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

例文

ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL ELEMENT AND ALIGNER MOUNTING THE SAME例文帳に追加

反射防止膜、光学素子およびそれを搭載した露光装置 - 特許庁




  
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