「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

Chemical filters CF1a and CF1b for removing chemical contaminants from gas and suppressing the temperature variation of gas within a specified range before and after passing through the filters are disposed at a part of a ventilation passage extending from a machine room 14 for containing at least a part of an air conditioner to a body chamber 12 for containing an aligner body 22.例文帳に追加

気体中から化学的汚染物質を除去するとともに、通過前後における気体の温度変動を所定範囲内に抑制するケミカルフィルタＣＦ１ａ，ＣＦ１ｂが、空調装置の少なくとも一部を収容する機械室１４から露光装置本体２２を収容する本体チャンバ１２に至る通気経路の一部に配置される。 - 特許庁

To provide an aligner device that can firstly reduce variation of edge formation positions of patterns formed on an exposure object substrate by suppressing swing of waveform patterns of diffraction images generated in a vicinity of an edge of a mask pattern, and secondly suppress variation of pattern line widths by making sharp of the slopes of waveform patterns of the diffraction images in the vicinity of the edge of the mask pattern.例文帳に追加

第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁

To easily and reliably allow a pair of coils formed opposingly on both the surfaces of an insulating substrate to conduct electricity without using soldering regarding a method for manufacturing the electromagnetic coil plate that uses charged particle rays, such as electron rays and ions, and is suitable for a charged particle beam device, the electromagnetic coil plate, a toroidal type coil structure, and a charged particle beam projection aligner.例文帳に追加

本発明は、電子線やイオン等の荷電粒子線を用いた荷電粒子線装置に好適な電磁コイル板の製造方法、電磁コイル板、トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置に関し、絶縁性基板の両面に対向して形成される一対のコイルの導通をはんだ付けを用いることなく容易，確実に行うことを目的とする。 - 特許庁

A value difference between the input value of an aligner used for subjecting a photoresist layer on a wafer W to light exposure and a measured value obtained through an overlay measuring unit 20 which measures the exposed and developed photoresist pattern is obtained, a correction value for correcting the input value so as to reduce the value difference is calculated, and the correction value is managed as exposure process data by the generation hour.例文帳に追加

ウェーハＷ上のフォトレジストを露光するための露光装置の入力値と、露光処理され現像されたフォトレジストパターンをオーバーレイ測定機２０を通じて得た測定値との間の誤差値を得て、誤差値を減少させるように入力値を補正するための補正値を算出し、補正値を次の補正値の算出のための露光工程データとして生成時間単位に管理する。 - 特許庁

This electron beam aligner has a wafer stage 152 on which a wafer is placed, an electron gun for generating electron beams, an electron detection unit 210 for detecting electrons, a mask member 220 which is disposed in a path of electron beam irradiation and has a passage unit 222 of electron beams, and a deflection unit 146 for deflecting electron beams and irradiating the mask member 220 or the electron detection unit 210 with electrons.例文帳に追加

電子ビーム露光装置は、ウェハを載置するウェハステージ１５２と、電子ビームを発生する電子銃と、電子を検出する電子検出部２１０と、電子ビームが照射される経路に設けられ、電子ビームを通過する通過部２２２を有するマスク部材２２０と、電子ビームを偏向し、マスク部材２２０又は電子検出部２１０に電子を照射させる偏向部１４６とを備える。 - 特許庁

The aligner 100 is provided with the measuring station 110 measuring alignment and a focus in a substrate P, an exposure station 120 scanning and exposing respective shot regions of the substrate P which are measured by the measuring station 110, and a main control part 141 controlling an exposure operation in the exposure station 120 based on a measured result in the measuring station 110.例文帳に追加

露光装置１００は、基板Ｐに対してアライメント計測およびフォーカス計測を行う計測ステーション１１０と、計測ステーション１１０で計測された基板Ｐの各ショット領域を走査露光する露光ステーション１２０と、計測ステーション１１０での計測結果に基づいて露光ステーション１２０での露光動作を制御する主制御部１４１と、を有する。 - 特許庁

An aligner EX includes: a mask stage MST that moves a mask M together with a space defining member 1 defining a space bounded by the mask face; a pressure controller controlling the pressure in the space; and an operating mechanism ML for combining the mask M with a space defining member suitable for the mask M to be used in an exposure process, wherein the space defining member selected from a plurality of space defining members 1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 - 特許庁

In an aligner arranged to obtain a desired pattern by projection mapping using a phase shift mask 10, a polarization condition selecting unit 20 for selecting the polarization direction of illumination light with respect to the phase shift mask 10 is provided in parallel with the direction of the compositional side of a pattern formed on the phase shift mask 10 at the time of projection mapping.例文帳に追加

位相シフトマスク１０を用いた投影写像によって所望パターンを得るように構成された露光装置において、その投影写像の際に、前記位相シフトマスク１０上に形成されたパターンの構成辺の方向と平行になるように、その位相シフトマスク１０に対する照明光の偏光方向を選択する偏光状態選択ユニット２０を設ける。 - 特許庁

The aligner 1 comprises projection optical systems 3 and 4 which irradiates a light of a specified wavelength from a light source 2 to an insulating substrate S, a fluid supply mechanism 7 which supplies a non-alkaline and conductive fluid F between the insulating substrate and the projection optical system, and a fluid-recovering mechanism 8 for recovering the fluid supplied on the insulating substrate.例文帳に追加

この発明の露光装置１は、光源２からの所定波長の光を絶縁性基板Ｓに照射する投影光学系３，４と、絶縁性基板と投影光学系との間に非アルカリ系で導電性を示す流体Ｆを供給する流体供給機構７と、絶縁性基板上に供給された流体を回収する流体回収機構８と、を有する。 - 特許庁

A manufacturing apparatus, such as a semiconductor manufacturing apparatus (aligner) and a working apparatus, etc., comprises a character input means that enables a user to input handwritten characters on a touch pane, a character recognition means that recognizes the inputted handwritten characters as a prestored character pattern, and a command executing means that executes commands, corresponding to the recognized character pattern.例文帳に追加

半導体製造装置（露光装置）や加工装置等の製造装置において、使用者がタッチパネル上で手書き文字を入力することを可能とする文字入力手段と、この入力した手書き文字を予め記憶される文字パターンとして認識する文字認識手段と、この認識した文字パターンに対応づけられたコマンドを実行するコマンド実行手段とを設ける。 - 特許庁

The aligner EX comprises: a mask stage MST for supporting a mask M having a plurality of pattern regions; a substrate stage PST for supporting a photosensitive substrate P; a storage device MRY prestoring the error information of the measurements of respective shapes of the plurality of patterns and a target shape; and a controller CONT for controlling the mask stage MST and substrate stage PST.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、複数のパターン領域を有するマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、複数のパターンそれぞれのの形状計測結果と目標形状との誤差情報を予め記憶した記憶装置ＭＲＹと、マスクステージＭＳＴ及び基板ステージＰＳＴを制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

To provide an exposing method, an aligner, and a device manufacturing method which can obtain good resolution in multiple exposure, especially, expand the focusing depth according to a pattern intended for the resolution and required depth, and reduce the influence of the astigmatism on the image to obtain a good resolution even in a process with a small factor k1.例文帳に追加

多重露光において良好な解像を得ることが可能となり、特に、焦点深度を、解像を目的とするパターンと必要深度に対応して拡大することができ、また、ｋ_1ファクターの小さいプロセスにおいても、収差の像性能への影響を軽減することが可能となり、良好な解像を得ることができる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

The aligner comprises an energy source 31 for outputting a pulse-like exposure beam, a detector 25 for detecting the energy of the beam output from the source 31 at each pulse, and a controller 26 for controlling the energy of the pulse output next based on the energy detected by the detector 25 for the pulse output before the pulse output immediately before.例文帳に追加

パルス状の露光ビームを出力するエネルギ源３１と、エネルギ源３１から出力された露光ビームのエネルギをパルス毎に検出する検出装置２５と、直前に出力されたパルスよりも以前に出力されたパルスについて検出装置２５により検出されたエネルギに基づき次に出力するパルスのエネルギを制御する制御装置２６とから構成する。 - 特許庁

To provide an article related to a silica glass member for optical use having all properties required for its suitability in a semiconductor aligner, especially one using ultraviolet radiation such as an excimer laser and its manufacturing process, specifically a synthetic silica glass member for optical use having a high homogeneity, a low birefringence and a high resistance to UV irradiation and its manufacturing process.例文帳に追加

特にエキシマレーザーなどの紫外線を用いた半導体露光装置に好適に用いられるために必要な特性を全て兼ね備えた光学用石英ガラス部材に係わる物品並びにその製造方法、具体的には、高均質、低複屈折及び高い紫外線照射耐性を兼ね備える光学用合成石英ガラス部材並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner that illuminates a prescribed area not containing the optical axis of, for example, a catadioptric optical projection system and can satisfactorily compensate the error of the object-side telecentricity of the optical projection system, by using optical compensation elements readily positioned by avoiding mechanical interferences with other components without increasing the size of an optical element constituting an optical illumination system in the radial direction.例文帳に追加

たとえば反射屈折型投影光学系の光軸を含まない所定領域を照明する露光装置において、照明光学系を構成する光学素子が径方向に大型化することなく、他の部品との機械的干渉を回避して容易に配置された補償光学素子を用いて投影光学系の物体側テレセントリシティの誤差を良好に補償する。 - 特許庁

The aligner which exposes the pattern of an original plate to a substrate by using the exposing light emitted from a laser light source is provided with a plurality of purging spaces which are demarcated by enclosures having exposing light-permeable boundary members in the optical path between the laser light source and substrate and a pressure adjusting means which controls the pressure in each purging space so that the pressure may become a prescribed value.例文帳に追加

レーザ光源から発光した露光光により原版のパターンを基板に露光するための露光装置において、レーザ光源と基板の間の光路中に、露光光透過性の境界部材を有する筐体で区切られた複数のパージ空間を有し、各々のパージ空間内部が所定の圧力となるように制御する圧力調節手段を有する。 - 特許庁

In this aligner provided with a sample shot selection means for selecting the sample shot from plural shot positions on a substrate to be exposed for exposure to the respective shot positions on the substrate by using the selected sample shot, the sample shot selection means uses plural different algorithms (means 1-means 3) as the algorithms for selecting the sample shot.例文帳に追加

被露光基板上の複数のショット位置のうちからサンプルショットを選択するサンプルショット選択手段を備え、選択されたサンプルショットを用いて前記被露光基板上の各ショット位置に対して露光を行なう露光装置において、前記サンプルショット選択手段は、前記サンプルショットの選択を行なうためのアルゴリズムとして、複数の異なるアルゴリズム（手段１〜手段３）を用い得るものとする。 - 特許庁

The aligner comprises a light source 1, a section 28 for holding a reticle being irradiated with light from the light source 1, a fly eye lens 22 arranged between the reticle holding section 28 and the light source 1, a first illuminance distribution correction filter 30 arranged between the fly eye lens 22 and the reticle holding section 28 in order to flatten illuminance distribution of light for irradiating the reticle.例文帳に追加

本発明に係る露光装置は、光源１と、光源１から光が照射されるレチクルを保持するレチクル保持部２８と、レチクル保持部２８と光源１の間に配置されたフライアイレンズ２２と、フライアイレンズ２２とレチクル保持部２８の間に配置され、レチクルに照射される光の照度分布を平坦化する第1の照度分布補正フィルター３０とを具備する。 - 特許庁

This aligner is equipped with a substrate move control part 21 for performing the alignment of a substrate, a mask move control part 18 for alignment of a mask, an image processing part 16 processing an image picked up by a camera 10, and a controller 19 giving a position correcting command to the control parts 18 and 21 based on the image processed by the processing part 16.例文帳に追加

露光装置は、基板３０の位置合わせを行う基板移動制御部２１と、マスクの位置合わせを行うマスク移動制御部１８と、カメラ１０にて撮像された画像を処理する画像処理部１６と、該画像処理部１６で処理された画像に基づき、マスク移動制御部１８及び基板移動制御部２１に位置補正指令を与える制御装置１９とを備える。 - 特許庁

The direct aligner 1 having a light source 2 which illuminates the objective substrate 3 comprises a measuring means 11 which measures illumination distribution of light at a position corresponding to an exposed surface of the objective substrate 3, and a controlling means 12 which controls the light source 2 on the basis of the result measured by the measuring means 11 so that target illumination distribution can be obtained.例文帳に追加

露光対象物である露光対象基板３に光を照射する光源２を有する直接露光装置１は、露光対象基板３の露光面に相当する位置における光の照度分布を計測する計測手段１１と、計測手段１１の計測結果に基づいて、目的の照度分布が得られるよう光源２を制御する制御手段１２と、を備える。 - 特許庁

The aligner for transferring a mask pattern to an wafer coated with resist comprises means for setting a light exposure based on the intensity of X-rays passed through a filter and the intensity of X-rays not passed through a filter wherein the filter is made of such a material as not causing chemical reaction in the exposure wavelength region of X-rays.例文帳に追加

本発明の露光装置は、レジストを塗布したウエハーにマスクパターンを転写する露光装置において、フィルターを透過したＸ線の強度とフィルターを介さないＸ線の強度に基づいて露光量を設定する手段を備え、該フィルターは、前記Ｘ線の露光波長領域において、化学反応を起こさない材料で構成されていることを特徴とする。 - 特許庁

In a state where a stage 8 on which the substrate 1 is placed and an array unit 10 on which plural laser modules 601 respectively having a semiconductor laser chip are mounted in rows are opposed in parallel with each other, the substrate 1 is scanned while radiating laser beams emitted by the semiconductor laser chips of plural laser modules 601 perpendicularly to a substrate surface in this aligner 100.例文帳に追加

この露光装置１００は、基板１が載置されたステージ８と、それぞれ半導体レーザチップを有する複数のレーザモジュール６０１が列をなして搭載されたアレイユニット１０とを互いに平行に対向させた状態で、上記複数のレーザモジュール６０１の半導体レーザチップが出射したレーザ光をそれぞれ基板面に対して垂直に照射しながら基板１上を走査する。 - 特許庁

The electron beam aligner comprises means 11 for making a decision whether a positional shift is generated or not between a target pattern position and an actual writing position on a writing substrate 14 between start and end of multiplex writing, and means 12 for performing a corrective operation of the writing position during remaining multiplex writing such that the positional shift is cancelled.例文帳に追加

多重描画の開始から終了までの間に発生した描画基板１４上での実際の描画位置と目標パターン位置との位置ずれ量の有無を判定する位置ずれ量判定手段１１と、位置ずれ量を打ち消すように、多重描画に含まれる残りの多重描画の間に描画位置の補正操作を行う補正操作手段１２とを設けた。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a synthetic quartz glass material and the synthetic quartz glass material for ultraviolet laser preferably one used for semiconductor aligner, especially formed by heat deformation for obtaining a large diameter, very heavy shape, while restraining contamination of Na, keeping high transparency of ultraviolet laser light, and also having optical characteristics such as high homogeneity and low double refraction.例文帳に追加

特に大口径・大重量の形状を得るために加熱変形により形成され、Ｎａの混入を抑制し、高い紫外線レーザー透過性を維持しつつ、高い均質性、低い複屈折といった光学特性を兼ね備え、特に半導体露光装置に好適に用いられる紫外線レーザー用合成石英ガラス材料の製造方法及び合成石英ガラス材料を提供する。 - 特許庁

Electric charges stored in a wafer W to be treated are led out by grounding a transport arm 4 for delivery which comes into contact with the wafer W when the wafer W is transported between the resist coater/ developer 61 and EB aligner 62, the wafer supporting pins 8 of a wafer delivery stage 2, and the leading-out pin 17 of a wafer cassette 6 for buffer through grounding conductors 16.例文帳に追加

レジスト塗布現像装置６１とＥＢ露光装置６２との間で被処理体であるウエハＷを搬送する過程でウエハＷと接触することになる受渡用搬送アーム４，ウエハ受渡しステージ２のウエハ支持ピン８及びバッファ用ウエハカセット６の取出用ピン１７を接地導線１６によって接地しておくことで、ウエハＷに蓄積された電荷を導出させる。 - 特許庁

This aligner is provided continually with a calibration plate 1 which serves for dose control, etc., and a plate 2 which serves to diffuse the light to irradiate the diffusion plate for cleaning or the projection system, on a reticle stage 11, and light is applied evenly into the projective optical system 12 by applying exposure light at need thereby desorbing the contamination within the projective optical system 12.例文帳に追加

本発明の露光装置は、レチクルステージ１１上にドーズコントロール用等の役目を持つキャリブレーションプレート１と、クリーニング用の拡散板もしくは投影光学系を照射する光を拡散させる役目を持つプレート２を常設し、必要に応じて露光光を照射して投影光学系１２内に万遍なく光を照射し、投影光学系１２内のコンタミネーションを脱離させる。 - 特許庁

The projection aligner for projecting an energy ray 3 to bake a pattern is equipped with a pin hole 5 provided at one portion on the surface of an exposure stage 4 where the energy ray 3 is projected, a phosphor for converting the energy ray 3' passing through the pin hole 5 to a fluorescent ray 8 of a long wavelength, and a detector 9 for measuring the converted fluorescent ray 8.例文帳に追加

エネルギー線３を投影してパターンを焼きつける為の投影露光装置に於て、エネルギー線３が投影される露光ステージ４の表面の一部に設けられたピンホール５と、該ピンホール５を通して通過したエネルギー線３’を長波長の蛍光光線８に変換する蛍光体６と、変換された蛍光光線８を測光する検知器９を具備する投影露光装置。 - 特許庁

In a batch system proximity gap aligner 10 for irradiating the surface to be exposed of a work W through a photomask 7 with parallel beams obtained by making light from a light source 2 incident on a collimator lens 4 through a condenser lens 6 and making it the parallel beams, the parallel beams leading to the photomask 7 from the lens 4 is made horizontal and also the photomask 7 is vertically set by a mask supporting means 11.例文帳に追加

光源２からの光を集光レンズ６を介してコリメータレンズ４に入射して平行光とし、その平行光をフォトマスク７を介してワークＷの被露光面に照射する一括式プロキシミティギャップ露光機１０において、コリメータレンズ４からフォトマスク７に至る平行光を水平にするとともに、マスク支持手段１１によりフォトマスク７を垂直にセットする。 - 特許庁

To provide an illumination device and an illumination method which can keep illuminance constant stably even if a plurality of illumination light sources are used and reduce frequency of exchange of an illumination light source and improve the operation yield by holding the life of a plurality of illumination light sources almost the same, and an aligner with the illumination device and a manufacturing method of a device by means of them.例文帳に追加

複数の照明光源を使用する場合でも、安定して照度を一定に保つことができ、複数の照明光源の寿命をほぼ同じ長さに保つことで、照明光源の交換の頻度を少なくし、稼働率を向上させることができる照明装置と照明方法、および該照明装置を備えた露光装置とこれらによるデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The projection aligner comprises an optical system for illuminating a reticle, and an optical system for projecting the pattern of the reticle onto a wafer wherein the illumination optical system comprises an optical deflection element for converting a light incident to an optical integrator into a ring-like light and the optical deflection element has a variable position in the direction perpendicular to the optical axis in the optical path.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光路内における光軸に垂直な方向の位置が可変であること。 - 特許庁

An aligner EX comprises mask stage MST for moving the mask M along with the space definition member 1 for defining the space with the mask surface as the boundary; a pressure controller for controlling pressure in the space; and an operation mechanism ML for combining the space definition member conforming to the mask M to be used for exposure treatment in a plurality of space definition members 1 with the mask M.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 - 特許庁

In the projection aligner provided with an illumination optical system for illuminating a reticle and a projection optical system for projecting the pattern of the reticle on a wafer, the illumination optical system is provided with a light deflecting element for converting light incident on an optical integrator to zonal light, and the light deflecting element is rotatable to an optical axis.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光軸に対して回転可能であることを特徴とする投影露光装置。 - 特許庁

The method of cleaning the optical device of an aligner for emitting an exposure beam to an substrate to exposure the substrate includes: providing an inert gas containing a small amount of oxygen to a space in which the optical device is disposed; emitting the exposure beam to the space to generate ozone in the space; and photochemically reacting the generated ozone with the emitted exposure beam to remove organic molecules adhered on the optical device.例文帳に追加

露光ビームを基板に照射して露光を行なう露光装置の光学素子をクリーニングする方法において、該光学素子が置かれた空間に微量の酸素を含む不活性ガスを供給して、該露光ビームを照射することで該空間内にてオゾン生成させ、該生成したオゾンと該露光ビームの照射による光化学反応によって該光学部材に付着した有機化合物を除去する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, exposure is performed to form a resist pattern differing from a pattern in a chip region in an exposure range that includes a non-effective reference chip region adjacent to an effective reference chip region and does not include any effective chip regions and effective reference chip regions in a reference exposure process using a reduction projection type aligner in a photolithography process.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。 - 特許庁

The aligner comprising an illumination optical system for illuminating the pattern of an original plate, and a projection optical system for guiding light from the pattern onto a substrate and exposing the substrate is further provided with at least one reflective member, and a noncontact pressure applying means for applying a force to at least one reflective member such that gravitational deformation thereof is reduced.例文帳に追加

原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、前記露光装置が少なくとも１つの反射部材と、前記少なくとも１つの反射部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも１つの反射部材に対して非接触に力を加える加力手段を有する。 - 特許庁

Even if extreme ultraviolet ray is irradiated in a projection aligner, the oxidizing reaction on the surface of an optical element 50 is suppressed.例文帳に追加

二酸化珪素、アルミナ、酸化クロム、二酸化三クロム、三酸化クロム、二酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、二酸化ニオブ、五酸化二ニオブ、二酸化モリブデン、二酸化ルテニウム、三酸化ルテニウム、四酸化ルテニウム、三酸化二ロジウム及び二酸化ロジウムのうち少なくともいずれか１つを含有する保護層３０を最表層に備えることで、投影露光装置内において極端紫外線が照射されても光学素子５０表面での酸化反応を抑制することができる。 - 特許庁

The aligner has a projection optical system for projecting the pattern of a reticle to a workpiece, exposes the workpiece to light via liquid supplied at least partially between the projection optical system and the workpiece, forms a prescribed flow velocity distribution in the liquid, and has a means for removing bubbles and/or foreign matters mixed into the liquid.例文帳に追加

レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と前記被処理体との間の少なくとも一部に供給される液体を介して前記被処理体を露光する露光装置であって、前記液体内に所定の流速分布を形成し、前記液体に混入した気泡及び／又は異物を除去する除去手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam aligner comprises an area density map creation means 3 that divides a fixed region irradiated with electron beams by a mesh, obtains the ratio of a pattern area to be applied to the divided region to the area of each divided region, and creates an area density map; and a proximity-effect correction means 2 for correcting the amount of exposure of electron beams, by referring to the area density map.例文帳に追加

電子ビーム露光装置は、電子ビームが照射される一定の領域をメッシュにより区分けし、各区分けされた領域の面積に対する該区分けされた領域に照射される予定のパターン面積の比率を求めて面積密度マップを作成する面積密度マップ作成手段３と、面積密度マップを参照して電子ビームの露光量を補正する近接効果補正手段２とを有する。 - 特許庁

A device for cleaning the exposing optical path of an aligner is provided with a supplier 7 which supplies an inert gas into the exposing optical path 2 of the exposure device, and an F_2 laser oscillator 1 which projects exposing light for exposing a prescribed sample to a pattern by means of the exposure device or the other light which is different from the exposing light for cleaning the exposing optical path.例文帳に追加

露光装置の露光光路内に不活性ガスを供給する供給部７と、上記供給部７により不活性ガスが供給された上記露光装置の露光光路２内に、上記露光装置により所定の試料にパターンを露光するための露光光、あるいは露光光とは異なる光を露光光路洗浄のために照射するＦ_２レーザー発振機１とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

An aligner for covering a path through which exposure light passes with a purge container 9 to purge the space in the container 9 by an inert gas includes the purge container 9 for covering the light path, a cover 29 detachably placed in the container 9, and a bulkhead 27 inside the purge container for temporarily separating spaces between the inside and the outside of the container 9 when the cover 29 is removed.例文帳に追加

露光光が通過する経路をパージ容器９で覆い、該パージ容器９内空間を不活性ガスでパージする露光装置において、前記光の光路を覆うパージ容器９と、該パージ容器９に着脱可能に設置されたカバー２９と、該カバー２９を取り外した際に一時的に前記パージ容器９の内側と外側の空間を分離する隔壁２７を前記パージ容器内部に備える。 - 特許庁

The projection aligner comprises a light source, an optical system, a reticle stage for retaining reticle, a first position adjustment mechanism for adjusting the position of the reticle, a wafer stage for placing a wafer, a plate for correcting aberration provided between the reticle and the wafer, and an angle adjustment mechanism for adjusting the tilt angle of the plate for correcting aberration.例文帳に追加

光源と、光学系と、レティクルを保持可能としたレティクルステージと、前記レティクルの位置を調節可能とした第１の位置調節機構と、ウェーハを載置可能としたウェーハステージと、前記レティクルと前記ウェーハとの間に設けられた収差補正用プレートと、前記収差補正用プレートの傾斜角度を調節可能とした角度調節機構と、を備えたことを特徴とする投影露光装置が提供される。 - 特許庁

An exposure device system is provided with a plurality of aligners 2011 and 2012 and their server 202, in such a way that the software of the aligner 2011 and 2012 can be upgraded and has parameters, the initial values of which are to be set upon upgrading the software.例文帳に追加

ネットワークを構成している複数の露光装置２０１１、２０１２およびこれらのサーバ２０２を備え、露光装置はそのソフトウェアのバージョンアップが可能であり、かつバージョンアップに伴なって初期値を設定すべきパラメータを有する露光装置システムにおいて、サーバは、ソフトウェアのバージョンアップがなされる露光装置で設定すべきパラメータの初期値を、他の露光装置における同一種類のパラメータのパラメータ値に基づいて求める手段を備える。 - 特許庁

To provide a projection aligner for forming a specified pattern on a printed wiring board by transferring the image of a mask where a specified pattern is formed to the printed wiring board, where the height of a mask's image forming surface or the height of the photosensitive surface of a printed board need not be manually adjusted even in the case of exposing several kinds of printed boards having different thicknesses.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスクの像をプリント配線基板に転写してプリント配線基板に所定のパターンを形成する投影露光装置であって、異なる厚さを有する複数種類のプリント基板に露光する場合であっても手動でマスクの像の結像面の高さまたはプリント基板の感光面の高さを調整する必要のない投影露光装置を提供することである。 - 特許庁

In an aligner constituted of an illuminating optical system 1 and a projection optical system 4, the average of transmittances of all the paths, which beam flux relating to imaging of arbitrary one point inside a limited region on a photosensitive substrate passes, is calculated each in a plurality of points of a limited region on the photosensitive substrate, and illuminance irregularities inside the limited region on the photosensitive substrate is obtained.例文帳に追加

前記照明光学系１及び投影光学系４から構成される露光装置において、感光基板上の有限領域内の任意の１点の結像にかかわる光線束が通過するすべての経路の透過率の平均を、前記感光基板上の有限領域の複数の点においてそれぞれ算出し、前記感光基板上の有限領域内における照度むらを求める。 - 特許庁

In this enclosed aligner, an exposure light from an exposure light source 1 is projected via an illuminating optical system on a mask 8 serving as the original plate, and the pattern formed on the mask 8 is then projected via a projection lens 11 on a wafer 12 for the exposure of the wafer 12 serving as the photosensitive substrate.例文帳に追加

露光光源１からの露光光により照明光学系を介して原版としてのマスク８を照明し、マスク８に形成されたパターンを投影レンズ１１を介して感光基板としてのウエハ１２上に投影露光する露光装置であって、露光光源１から投影レンズ１１に至る露光光の光路上に配置される光学系素子を内部に配置した複数の筐体３，４，５，６，７と、該複数の筐体３〜７をガス置換するガス置換手段とを有する。 - 特許庁