「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and an apparatus for adhering exposure masks for performing high-grade exposure, and a projection aligner even in a near-field exposure method for improving adhesion properties between a mask for exposure and a substrate, and preparing a finer pattern than the wavelength of exposure light.例文帳に追加

露光用マスクと基板との密着性を向上させ、露光光の波長より小さな微細パターンを作製する近接場露光方法においても、高品位な露光が行える露光マスクの密着方法及び密着装置並びに露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner in which the positions of a reticle and a wafer can be measured accurately even when there is a temperature change, a circuit pattern can be exposed and transferred precisely and the fraction defective of a chip is reduced and a device having high performance can be prepared.例文帳に追加

温度変化があってもレチクルやウエハの位置測定を正確に行うことができ、精度よく回路パターンを露光転写することができてチップの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

The aligner is selected without performing any trial calcining by calculating coma aberration and curvature of field having effects on the dimensional distribution of the circuit pattern of a semiconductor device, and predicting whether or not the circuit pattern satisfies the standard of the semiconductor device at the time of transferring the pattern.例文帳に追加

半導体装置の回路パターンの寸法分布に影響を与えるコマ収差と像面彎曲を事前に算出し、回路パターン転写時に半導体装置の規格を満たすか予測することにより、試し焼き無しでの露光装置の選定を行う。 - 特許庁

A device is manufactured through a method in which a step-and- scan type aligner is utilized, wherein the misalignment of a reticule from a reticule stage is detected (deviation measuring timing) is carried out in a step operation (U-turn timing), which is carried out for the following exposure operation after a scan exposure operation is carried out.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式の露光装置およびこれを用いたデバイス製造方法において、スキャン露光終了後、次の露光を行うためのステップ動作中（Ｕターンタイミング）にレチクルおよびレチクルステージ間の位置ずれを検出する（ずれ計測タイミング）。 - 特許庁

The aligner comprises an inert gas producing means 11 for taking an inert gas 9 from air 8, and an inert gas feed line 12 for feeding the inert gas from the inert gas producing means to the optical path of an illumination light L1 irradiating a substrate 3.例文帳に追加

露光装置において、エア８から不活性ガス９を取り出す不活性ガス生成手段１１と、基板３に照射される照明光Ｌ１の光路に不活性ガス生成手段から不活性ガスを供給する不活性ガス供給ライン１２とを設ける。 - 特許庁

To provide an aligner capable of performing exposure transfer precisely by performing the exposure transfer of a substrate and loading the substrate to a substrate stage simultaneously, reducing cycle time, and excluding influence to exposure precision by vibration generated when loading the substrate.例文帳に追加

基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning aligner and a scanning exposure method for improving element yields and throughput by maintaining accuracy in a required amount of integral exposure and a high scanning speed when performing integral exposure control by pulse interval control.例文帳に追加

パルス間隔制御を用いて積算露光制御を行なう際に、設定露光量のいかんを問わず、必要積算露光量精度と高い走査速度を維持して、素子歩留まりとスループットの向上可能な走査露光装置および走査露光方法を提供する。 - 特許庁

In the aligner having the arrayed blanking deflector for blanking a multibeam, a switching element 103 for applying a voltage for deflection to an electrode (deflection electrode) 101 constituting the blanking deflector is provided in the same substrate 102 with the deflection electrode 101.例文帳に追加

マルチビームをブランキングするアレイ化されたブランキング偏向器を有する露光装置において、ブランキング偏向器を構成する電極（偏向電極）１０１に偏向用の電圧を与えるスイッチング素子１０３を、偏向電極１０１と同一基板１０２に設ける。 - 特許庁

The aligner EX comprises a projection optical system PL, a substrate stage PST movable in the XY plane perpendicular to the optical axis AX of the projection optical system PL, and a detector 20 for detecting the position of the substrate stage PST in the direction of the X axis.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直なＸＹ平面内で移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ステージＰＳＴのＸ軸方向の位置を検出する位置検出装置２０とを備えている。 - 特許庁

To realize an aligner which carries out alignment with high accuracy, according to the deformation of a substrate by irradiating a predetermined position of the substrate surface with light, and simultaneously detecting both of the actual position of a positioning mark preliminarily formed to coincide with the irradiation position and the irradiation position.例文帳に追加

基板表面の所定位置に照射光を照射し、予め照射位置に一致するように設けた位置決めマークの実際の位置と照射位置とを同時に検出して、基板の変形に応じた精度の高いアライメントを行なう露光装置を実現する。 - 特許庁

To provide a transfer aligner, with which the adhesion of the foreign matters, such as dust, etc., to a mask can be prevented, vacuum suction of water to the mask while the mask is being stored can be prevented, the vacumizing can be performed easily when a reticle is replaced, and throughput can be improved.例文帳に追加

マスクへの塵埃等異物の付着を防止するとともに、保管時においてマスクへの水の吸着を防止することができ、さらにレチクル交換時の真空排気を容易にし、スループットの向上を図ることができる転写露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for designing an optical system by which necessary optical performance is secured, even in the case of considering a film in the optical system having a surface on which a film is formed, and to provide the optical system, and to provide a projection aligner having an image-forming optical system.例文帳に追加

表面に膜が形成された面を有する光学系において，膜を考慮した場合でも，必要な光学的性能を確保できる光学系の設計方法，光学系および該結像光学系を有する投影露光装置を提供すること。 - 特許庁

In the control of a region following a spike region initial stage (running average output control: D region), control allowing for running average output value deviation in running accumulated pulse number cast on one place is carried out supposing the use state of an aligner.例文帳に追加

スパイク領域初期に続く領域の制御（移動平均出力制御：Ｄ領域）において、露光装置の使用形態を前提にして、１か所に照射する移動積算パルス数における移動平均出力値偏差を考慮した制御を行う。 - 特許庁

To control aligners for semiconductor so as to automatically perform optimum exposure according to the distortion generated, depending on various the conditions of each of the aligner for semiconductor, and to efficiently reduce matching errors to the utmost due to distortion factors without increasing process steps.例文帳に追加

半導体露光装置の諸条件に依存して発生する各ディストーションに応じて自動的に最適な露光を行なうように半導体露光装置を管理し、工程増を招くことなく効率良くディストーション要因の合わせ誤差を可及的に低減する。 - 特許庁

To provide a position-measuring device that can accurately measure the position information of substrate and mask marks mainly, and, in addition, an aligner and an exposure method that can accurately transfer a pattern that is formed on the mask to a specific position of a substrate.例文帳に追加

主として基板マーク及びマスクマークの位置情報を高精度に計測することができる位置計測装置を提供し、更にマスクに形成されたパターンを基板の所定位置に精度良く転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical-element-holding device and a body tube capable of finely adjusting a posture of the optical element and of highly keeping an internal air tightness; and an aligner improving an exposure accuracy, and also to provide a method for manufacturing a device manufacturing a highly integrated device at high yield.例文帳に追加

光学素子の姿勢を細かく調整し、内部の気密性を高く保つことのできる光学素子保持装置及び鏡筒、露光精度の向上可能な露光装置、高集積度のデバイスを歩留まりよく生産可能なデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

X-RAY MASK BODY STRUCTURE, METHOD AND DEVICE FOR X-RAY ALIGNER USING THE X-RAY MASK BODY STRUCTURE AND PRODUCING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE X-RAY MASK BODY STRUCTURE例文帳に追加

Ｘ線マスク構造体、該Ｘ線マスク構造体を用いたＸ線露光方法、前記Ｘ線マスク構造体を用いたＸ線露光装置、前記Ｘ線マスク構造体を用いた半導体デバイスの製造方法、および該製造方法によって製造された半導体デバイス - 特許庁

To provide a stage-positioning apparatus that accurately moves a stage by controlling the posture of a second mobile unit based on a signal for controlling the posture of a first mobile unit, and to provide a method for controlling the stage-positioning apparatus, a projection aligner, and a manufacturing method for a semiconductor device.例文帳に追加

第１の移動体の姿勢を制御する信号に基づいて第２の移動体の姿勢を制御することにより、ステージを精密に移動するステージ位置決め装置及びその制御方法、露光装置、半導体デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a work chuck for attaining exposure of high precision and high throughput by preventing uneven coloring, or the like, in the exposure pattern of a color filter even if a work is enlarged at the time of multi-piece exposure of the color filter, for example, and to provide an aligner and a process for producing a flat panel.例文帳に追加

カラーフィルタの多面取り露光等ワークが大型化した状態においも、カラーフィルタの露光パターンにおける色むら等を防止して、高精度、高スループットの露光を達成するためのワークチャック、露光装置及びフラットパネル製造方法を提供する。 - 特許庁

The base 18 of an transport apparatus is constituted to be movable from a transport position to an evacuation position by arranging a mechanism to slide the main body 21 of the aligner and the base 18 of the transport apparatus provided with a transfer robot mechanism 17.例文帳に追加

本発明は、露光装置本体２１と、搬送ロボット機構１７を設置した搬送装置基台１８をスライドさせる機構を設けることにより、搬送装置基台１８を搬送位置から退避位置へと移動可能に構成したことを特徴とする。 - 特許庁

To introduce a rectangular parallel luminous flux supplied from, for example, an excimer laser light source to the entrance of the main body of an aligner by shaping the luminous flux to a parallel luminous flux having a desired cross-sectional dimension based on a relatively simple constitution that is reduced in light quantity loss and manufacturing cost.例文帳に追加

比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、たとえばエキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導く。 - 特許庁

As a result, even if the difference in the throughput occurs between a C/D side (including an inline interface part) and an aligner body 21 side, by simultaneously keeping a plurality of wafers in the buffer unit 29 temporarily, a waiting time, i.e., a loss of time can be eliminated.例文帳に追加

このため、Ｃ／Ｄ側（インライン・インタフェース部を含む）と露光装置本体２１側との間で処理能力に差が生じても、同時に多数枚のウエハをバッファユニット２９に一時保管することにより、待ち時間、すなわち時間のロスがないようにすることが可能である。 - 特許庁

To prevent the influence of a wafer process as much as possible, to quantitatively optimize a mark for position detection according to a position detection system mounted in a projection aligner to be used, and at the same time to minimize an alignment error due to the wafer process, and to provide a device for improving alignment accuracy.例文帳に追加

ウェハプロセスの影響を受け難く、使用する露光装置の搭載する位置検出方式に応じて位置検出用マークを定量的に最適化でき、且つウェハプロセスや装置起因のアライメント誤差を最小限にして高い位置合わせ精度を実現する。 - 特許庁

Next, the silicon substrate 3 is coated with a photoresist and an aligner is used to perform the patterning of the coated silicon substrate 3 through a photomask and the patterned silicon substrate is exposed and developed to be subjected to dry etching to form a minute flow channel groove 8 high in accuracy and having a cross section high in aspect ratio.例文帳に追加

次に、シリコン基板３にフォトレジストをコーティングし、アライナーを使用してフォトマスクでパターンニングをし、露光・現像して、その後、シリコン基板３をドライエッチングすることにより、微小で精度の高い、高アスペクト比の断面を有する流路溝８を作製する。 - 特許庁

An aligner includes the lighting system for lighting a mask (R) from below, a mask stage (RST) for holding the mask (R) below a projecting optical system (PL), and a substrate stage (WST) for holding the substrate (W) above the projection optical system (PL) and two-dimensionally moving the substrate (W).例文帳に追加

マスクＲを下方から照明する照明系１４と、マスクＲを投影光学系ＰＬの下方で水平に保持するマスクステージＲＳＴと、投影光学系ＰＬの上方で基板Ｗを水平に保持して２次元移動する基板ステージＷＳＴとを備える。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, AND DIE FOR MANUFACTURE OF DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT AND DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT MANUFACTURED BY THE METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPLIANCE AND ALIGNER HAVING THE DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND DEVICE例文帳に追加

回折光学素子の製造方法、回折光学素子の製造方法によって製造したことを特徴とする回折光学素子製造用金型、回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、光学機器、露光装置、デバイス製造方法、デバイス - 特許庁

To obtain a surface position detecting method and a projection aligner using the same that detects surface position information in an optical axis direction of a wafer surface to position a pattern area of the wafer in an allowable depth of focus of a projection lens and can manufacture a semiconductor device with high density.例文帳に追加

ウエハ面の光軸方向の面位置情報を検出し、ウエハのパターン領域を投影レンズの許容焦点深度内に位置させ高密度の半導体素子の製造が可能な面位置検出方法及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 - 特許庁

To provide an aligning method and an aligner that the dimension of a pattern formed on a substrate is uniformized in each projecting area at the time of transferring the image of the pattern formed on a mask through plural projection optical systems to the substrate.例文帳に追加

複数の投影光学系を介してマスクに形成されたパターンの像を基板上に転写するに際し、基板上に形成されるパターンの寸法が各投影領域において均一化できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern by which dimensional deviations due to out of focusing of an aligner can be detected and uniformity of dimensions in a chip can be easily ensured, without having to directly dip a resist after baking in a developer.例文帳に追加

ベーク後のレジストを現像液へと直接的に浸漬する必要がなく、露光装置のフォーカスぼけによる寸法はずれを検出することも可能であり、チップ内寸法の均一性を容易に確保することができる微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor aligner is provided with mask information wherein an unnecessary information part in bar code information, such as the control codes and the information peculiar to a user are described, and a means for discarding unnecessary bar code information by referring the mask information.例文帳に追加

半導体露光装置において、制御コードやユーザ固有情報といったバーコード情報内の不要な情報部分を記述したマスク情報と、そのマスク情報を参照して、不必要なバーコード情報部分を破棄する手段を備えている事を特徴とする。 - 特許庁

The aligner PE comprises: a mask stage 10, a first substrate stage 11 capable of moving between an exposure position EP and a first standby position WP1, a second substrate stage 12 capable of moving between the exposure position EP and the second standby position WP2, and an irradiator 13.例文帳に追加

露光装置ＰＥは、マスクステージ１０と、露光位置ＥＰと第１待機位置ＷＰ１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、照射装置１３と、を備える。 - 特許庁

To provide a light source system for an aligner which can irradiate a substrate with light corresponding to the kind of a process and the characteristics of photosensing agent applied on a substrate at the process, in spite of a simple constitution, and also, which can be efficiently manufactured at a low cost.例文帳に追加

簡素な構成でありながら工程の種類や該工程中に基板に塗布される感光剤の特性に対応した光を照射することができ、かつ安価で効率よく製造することができる露光装置用光源システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a projection aligner which adapts to an increase of the diameter of a lens, holds down the height of a device, maintains exposure accuracy against thermal expansion, ensures easy adjustment of magnification and easy maintenance operation, and is hardly covered with dust, and also to provide its exposure method.例文帳に追加

レンズの大口径化に対応でき、装置の高さ寸法を抑え、かつ、熱膨張に対応して露光精度を維持でき、また、倍率調整が容易で、メンテナンス操作が容易となり、塵埃が堆積しにくい投影露光装置およびその方法を提供すること。 - 特許庁

The aligner is constituted with an air conditioner chamber 3 being provided adjacently to a chamber 2 which is provided for maintaining the ambient temperature of the exposure stage 1, and the ambient temperature of each portion of the stage 1 is controlled individually, by supplying temperature-adjusted air flows individually adjusted for temperature by means of heaters 20-23 to each portion.例文帳に追加

露光台１の環境温度を維持するためのチャンバー２に隣接して空調機室３を設け、ヒータ２０〜２３によって個別に温調された温調空気を露光台１の各部位に供給し、環境温度を個別に制御する。 - 特許庁

To provide a semiconductor exposure method for enabling the correction of magnification and a rotation component suitable for wafer/shot correction, and achieving well-balanced wafer and shot correction to a plurality of accurate, speedy, and flexible processes, and to provide a semiconductor projection aligner.例文帳に追加

ウエハ補正用／ショット補正用に適応した倍率および回転成分の補正を可能とし、高精度、高速、フレキシブルで、かつ複数の工程に対し、バランスのよいウエハ補正およびショット補正を可能とする半導体露光方法および半導体露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a aligner management system for aligning and a device- manufacturing method for easily obtaining high throughput capable of accurately performing alignment and obtaining high yield, even if a position detection target is baked to a location other than a position equivalent at a target that is provided on a reference wafer.例文帳に追加

基準ウエハに設けられたターゲットに相当する位置以外の場所に位置検出ターゲットが焼き付けられていたとしても、高精度に位置合わせを行なうことができ、高スループットが容易に得られる位置合わせを可能とする露光装置管理システムおよびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligner for providing a liquid crystal alignment layer having high quality display and satisfactory characteristics of persistence of vision and characteristics of image sticking, and to provide a liquid crystal display element having excellent characteristics of persistence of vision and characteristics of image sticking and high voltage retention.例文帳に追加

高品位な表示と良好な残像特性と焼き付き特性とが両立された液晶配向膜を与える液晶配向剤ならびに残像特性および焼き付き特性に優れるとともに高い電圧保持率を有する液晶表示素子を提供すること。 - 特許庁

To achieve an inspection device and method for excluding the influence of vibration with a low frequency when inspecting a projection optical system without using any expensive anti-vibration device, an aligner for accurate exposure, and further a method for manufacturing a micro device for improving a product yield.例文帳に追加

高価な除振装置を用いることなく、投影光学系の検査時の低周波数の振動の影響を排除可能な検査装置及び検査方法、正確な露光が可能な露光装置、さらに製品の歩留まりを向上可能なマイクロデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner provided with a detection device capable of finding out a distance between a projecting optical system and a substrate at high accuracy even when space between the projecting optical system and the substrate is filled with liquid, and to provide a device manufacturing method for manufacturing a device by using the exposure device.例文帳に追加

投影光学系と基板との間が液体で満たされていても、投影光学系と基板との間の距離を高い精度で求めることができる検出装置を備える露光装置、及び当該露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner apparatus holding the edge of a wafer and centering the wafer and aligning the angles of the notches of the wafer, including an infinite rotatable mechanism which is not limited by a rotating range, formed by eliminating cable and tubes from a rotating portion for reducing the tact time and the size.例文帳に追加

ウェハのエッジを把持し、センタリングとノッチ等の角度合わせを行うアライナー装置において、回転する部分にケーブルやチューブをなくすことで回転範囲に制限されない無限回転が可能な機構を構成し、タクトタイムの短縮、装置の小型化を実現することを目的とする。 - 特許庁

To accurately perform various corrections for electronic beam to be carried out in relation to an irradiation position of electron beam such as tilt correction by a sub-deflector by conforming a scanning means side coordinate system of an irradiation position on a mask of electron beam in an electron beam proximity aligner to a mask coordinate system thereof.例文帳に追加

電子ビーム近接露光装置における電子ビームのマスク上照射位置の走査手段側座標系とマスク座標系とを一致させることにより、前記副偏向器による傾き補正等の、電子ビームの照射位置に関して行う電子ビームの各種補正を正確に行う。 - 特許庁

The aligner 100 is provided with an exposure light source emitting the exposure light, a photomask stand which is arranged in a position receiving the exposure light from the exposure light source, on which the photomask is placed and an exposed substrate stand which is arranged in a position receiving light transmitted through the photomask and on which the exposed substrate is placed.例文帳に追加

また、露光装置は、露光光を発射する露光光源と、露光光源からの露光光を受ける位置に配置され、フォトマスクを載置するフォトマスク台と、フォトマスクを透過した光を受ける位置に配置され、被露光基板を載置する被露光基板台とを備える。 - 特許庁

As a result, exposure can be performed suitably since the atmosphere of the interface 12 is controlled to have prescribed humidity or oxygen concentration when a wafer W travels on the interface 12 in processes before and after exposure by an aligner 13, so that accurate pattern formation is enabled.例文帳に追加

これにより、露光装置１３による露光前及び露光後の工程において、ウエハＷがインターフェース部１２を行き来する際、当該インターフェース部１２の雰囲気が所定の湿度又は酸素濃度に制御されているので、好適に露光を行うことができ、正確なパターン形成を行うことができる。 - 特許庁

Furthermore, a misregistration vector is calculated similarly by fine patterns at a plurality of positions of chip, one-shot and wafer, size and distribution of misregistration vector at each place are classified as feature amounts, and then its trend is analyzed in each range thus detecting abnormality of an aligner or a wafer.例文帳に追加

更にチップ、１ショット、ウエハの複数位置の微細パターンで同様に位置ずれベクトルを算出し、各場所における位置ずれベクトルの大きさ、分布状況を特徴量として分類、その傾向を各範囲内で分析することで露光装置あるいはウエハの異常検知を行う。 - 特許庁

A mask 30 for use in an electron beam proximity aligner 1 is provided while altering the line width (Wma-Wmc) of each aperture (35a-35c) depending on the distance between a mask thin film 32 and a sample 40 at the position of the aperture (35a-35c) which varies due to the deflection of the thin film 32.例文帳に追加

電子ビーム近接露光装置１に使用するマスク３０を、その薄膜部３２のたわみにより変化する、各開口（３５ａ〜３５ｃ）位置におけるマスク薄膜部３２と試料４０との距離に応じて、当該開口（３５ａ〜３５ｃ）の線幅（Ｗｍａ〜Ｗｍｃ）を変更して設ける。 - 特許庁