「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

The aligner performs processing relating to exposure using a substrate and includes a control device for selecting at least one of first processing for controlling a processing state of the device and second processing different from the first processing to be performed based on the information of the earthquake.例文帳に追加

基板を用いて露光に関する処理を行う露光装置であって、地震に関する情報に基づいて、装置の処理状態を制御する第１の処理及び前記第１の処理とは異なる第２の処理のうち少なくとも一方の処理を選択して行わせる制御装置を備えることを特徴とする。 - 特許庁

In the reticle chamber 111 of this aligner 101, the bending force caused by the deformation of a main body 103 when the atmospheric pressure is reduced can be relieved through the spherical bearings of three legs 115a provided on the bottom surface side of a reticle stool 115 and, in addition, can be adjusted by actuating an adjusting mechanism 115X.例文帳に追加

本発明に係る露光装置１０１は、レチクルチャンバ１１１内において、雰囲気減圧時のメインボディ１０３の変形に伴う曲げ力は、レチクル定盤１１５下面側３箇所の脚部１１５ａの球面軸受けで逃がすことができ、さらに調整機構１１５Ｘを作動させて調整することができる。 - 特許庁

To provide an aligner having a multilayer film reflector in the optical system, with reflectance improved for radiating light in the wavelength domain of UV or less and with resolving power consequently improved in the projection optical system, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

露光装置を構成する光学系に用いられる多層膜反射鏡を使用した露光装置において、露光光、特に、紫外波長領域以下の露光光に対する反射率の向上および、それに伴う投影光学系における解像力の向上等を可能とする露光装置、ならびに、半導体デバイスを提供する。 - 特許庁

To realize an aligner and an exposure method capable of efficiently emitting a light to a spot row having an interval, where the distance between adjacent spots which should be irradiated is shorter than that a substrate to be exposed is relatively moved during a single period of the shortest lighting controllable period of a light source.例文帳に追加

隣接する照射すべきスポット間の距離が、光源の最短の点灯制御可能周期の一周期間中に露光対象基板が相対移動する距離よりも短い間隔を有したスポット列に対しても、効率よく光を照射することができる露光装置および露光方法を実現する。 - 特許庁

The electron beam aligner comprises a mask plate 1 equipped with an electron source 10 for discharging an electron beam from a region, depending on the desired transfer pattern, and an electron lens 2 interposed between the mask plate 1 and a substrate 3 to be transferred coated with an electron beam resist layer 4 and focusing the electrons discharged from the electron source 10.例文帳に追加

電子線を放出する電子源１０を備え所望の転写パターンに応じた領域から電子線を放出させるマスクプレート１と、マスクプレート１と電子線レジスト層４が塗布された被転写基板３との間に配置され電子源１０から放出された電子を集束する電子レンズ２とを備える。 - 特許庁

The aligner exposes a pattern formed in a negative plate on a substrate, such as a wafer and a plate, while irradiating the negative plate, such as a reticle and a mask via a lighting optical system by exposing light from an exposure light source, including at least respectively one air supply port and one exhaust port in the stage space so as to control air current distribution in the space.例文帳に追加

露光光源からの露光光により照明光学系を介してレチクル、マスク等の原板を照明し、前記原板に形成されたパターンをウエハ、プレート等の基板上に露光する露光装置であって、ステージ空間に少なくとも１個づつの給気ポートと排気ポートを備え、その空間内の気流分布を制御する。 - 特許庁

In the method for purifying a gas, where impurities contained in gas being supplied to the aligner, is irradiated with UV-rays and deposited and removed, in advance, by an impurity-removing mechanism, a moisture removing mechanism and/or a polarity gas removing mechanism is provided downstream of the impurity removing mechanism.例文帳に追加

露光装置内に供給されるガスに含まれる不純物を紫外線照射により事前に析出させ除去する不純物除去機構を備える気体の浄化方法において、前記不純物除去機構の下流に、水分除去機構または／及び極性ガス除去機構が備えられる構成をとる。 - 特許庁

A reflective mirror device used for the reflecting optical system in the aligner for exposure processing by guiding an exposure beam by reflection has a mirror 30 having a reflection plane for reflecting an exposure beam 2d, and radiation plates 25a to 25e for radiation cooling arranged apart from an external surface of the mirror 30.例文帳に追加

露光光を反射によって導いて露光処理を行なう露光装置の反射光学系に用いられる反射ミラー装置は、露光光２ｄを反射する反射面を有するミラー３０と、ミラー３０の外表面より離間して配置された輻射冷却用の輻射板２５ａ〜２５ｅとを有する。 - 特許庁

The aligner comprises a measuring instrument for measuring the surface position of a measuring point defined in the plurality of continuous shot regions while the substrate is scanned; and a controller for controlling the surface position of the substrate based on the measurement result of the measuring instrument, so that the exposed region of the substrate aligns with the image surface of the projection optical system.例文帳に追加

露光装置は、基板が走査駆動された状態で、連続する複数のショット領域内に定義された計測点の面位置を計測する計測器と、計測器による計測結果に基づいて、基板の被露光領域が投影光学系の像面に一致するように基板の面位置を制御する制御部とを備える。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display element ultimately having characteristics of a wide-view angle and fast response speed as one of the characteristics, to provide a liquid crystal aligner that fulfills the characteristics required when it is applied to an OCB liquid crystal display element and VA display element, and a polyimide copolymer that bears functions of the liquid crystal agent.例文帳に追加

最終的には広視野角で高速な応答速度特性を有する液晶表示素子を提供することであり、その一つとしてＯＣＢ型液晶表示素子やＶＡ型表示素子などに適用した場合に要求される特性を充足できる液晶配向剤、該液晶配向剤の機能を担うポリイミド系共重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a beam radiation device and electron beam aligner wherein a beam is radiated to an object at high precision by measuring, at high precision, a relative positional relationship between the position of condense beam for work or detection and the position of laser beam emitted from a laser length-measuring device for eliminated Abbe error.例文帳に追加

加工用または検出用の集光ビームの位置とレーザ測長器から出射されるレーザ光の位置との相対的な位置関係を高精度に計測できるようにしてアッベ誤差を無くしてビームを被対象物に対して高精度に照射できるようにしたビーム照射装置および電子線露光装置を提供することにある。 - 特許庁

To disuse high accuracy in position control and workability of a luminous energy distribution adjusting filter, prevent an image of different density caused by the luminous energy distribution adjusting filter comprising a photosensitive phosphor screen forming layer with a pattern having a transmittivity distribution in an aligner for forming a phosphor screen of a color cathode ray tube.例文帳に追加

カラー陰極線管の蛍光面形成用露光装置において、感光性蛍光面形成層に透過率分布もつパターンの形成された光量分布調整フィルターに起因する濃度差像が転写されにくく、かつその光量分布調整フィルターに高い位置出し精度や加工性が要求されない構成にすることを目的とする。 - 特許庁

The projection aligner has a plurality of light sources 1a and 1b as main light sources of exposure, and is provided with means for lighting up the light sources while changing the distribution of illuminance between the light sources in such a way that the life of the plurality of light sources 1a and 1b become approximately the same.例文帳に追加

露光の主光源として複数の光源１ａ，１ｂを有し、該複数の光源１ａ，１ｂの寿命がほぼ同じになるように、個々の光源の照度配分を変えて点灯する手段を備えており、露光用の複数の光源１ａ，１ｂの寿命がほぼ同じになるように、個々の光源の照度配分を変えて点灯するようにする。 - 特許庁

To provide a floating point remainder computing element, an information processing device, and a computer program, capable of executing floating point remainder computation with addition of small quantity of circuits only by effectively using a floating point adder and an aligner (shifter) which are normally provided on an information processing device such as a processor in a computer.例文帳に追加

本発明は、浮動小数点剰余演算器、情報処理装置及びコンピュータプログラムに関し、計算機のプロセッサ等の情報処理装置に標準で具備されている浮動小数点加算器やアライナ（シフタ）を効果的に流用し、少量の回路を付加するだけで浮動小数点剰余演算を実現可能とすることを目的とする。 - 特許庁

In the pattern projection aligner or a method therefor, a first exposure mechanism for creating a pattern with thin width, and a second exposure mechanism for creating a pattern with a line width thicker than that of the first exposure mechanism are provided, the relative positional relation between the first and second exposure mechanisms is detected, and pattern exposure is made, based on the detected positional relation.例文帳に追加

パターン露光装置または方法において、線幅の細いパターンの作製が可能な第１の露光機構と、該第１の露光機構よりも線幅の太いパターンの作製を行う第２の露光機構とを備え、該第１の露光機構と該第２の露光機構との相対位置関係を検出し、該検出した位置関係に基づいてパターン露光するように構成する。 - 特許庁

The EUV aligner comprises a first measuring means for measuring the position and/or inclination of a movable section having an optical element without touching the movable section, and a drive means for driving the movable section in six axial directions relatively to a fixed section without touching thereto based on the measurements of the first measuring means.例文帳に追加

ＥＵＶ露光装置であって、光学要素を有する可動部の位置及び／又は傾きを、前記可動部に非接触のままで測定する第１の測定手段と、前記第１の測定手段の測定結果に基づいて、固定部に対して非接触のままで前記可動部を相対的に６軸方向に駆動可能な駆動手段とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The aligner comprises a wafer stage 102, a projection light system 101, a gas feed section 112 for feeding an inert gas in the light path space 116 where exposure light passes between the wafer stage 102 and the projection light system 101, the wafer stage 102 is charged into under the light path space 116 from the downstream, with respect to the flow of peripheral atmosphere.例文帳に追加

この露光装置は、ウエハステージ１０２と、投影光学系１０１と、ウエハステージ１０２と投影光学系１０１との間の露光光が通過する光路空間１１６に不活性ガスを供給する給気部１１２と備え、周辺雰囲気の流れに対して下流からウエハステージ１０２を光路空間１１６下に突入させる。 - 特許庁

To provide an aligner capable of avoiding the temperature rise of a frame body caused by exposing light even when the output of the exposing light is made high, preventing a mask from being deformed, keeping a gap between the mask and a work in specified size so as to expose an exact pattern and also making working efficiency excellent by shortening exposing time.例文帳に追加

露光光の出力を高くしても露光光による枠体の温度上昇がなく、マスクが変形するのを防止でき、マスクとワークとの間隙を所定の寸法に維持して正確なパターンを露光することができると共に露光時間を短縮されて稼働効率を良くすることができる露光装置を提供することである。 - 特許庁

A reflector 1 for an aligner is a layered body 50 wherein a periodic structure 100 is layered on a substrate 5 and, in the periodic structure 100, high-refraction layers 10 and low-refraction layers 11 are periodically and alternately arranged in layers, composed of mediums each presenting different refraction to different exposing lights.例文帳に追加

露光装置用反射鏡１は、周期構造体１００が基体５上に積層された積層体５０を有してなり、該周期構造体１００は、各々露光光に対して屈折率の違う媒質よりなる高屈折率層１０と低屈折率層１１とが交互に周期的に配列されるとともに積層されたものとされる。 - 特許庁

The projection aligner is provided with a height detection means capable of detecting the height of the exposed surface of the printed wiring board with respect to the mask and an image forming position changing means for changing a mask's image forming position to the position of the exposed surface of the printed wiring board based on the result of detection by the height detection means.例文帳に追加

投影露光装置が、マスクに対するプリント配線基板の露光面の高さを検出可能な高さ検出手段と、高さ検出手段の検出結果をもとに、マスクの像の結像位置をプリント配線基板の露光面の位置に変更する結像位置変更手段と、を有する構成とすることにより、上記問題を解決した。 - 特許庁

To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加

個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁

The aligner comprises a refrigerant supply device 70 which supplies a refrigerant to cool a light source 21, an exhaust system 80 which exhausts gas in a light source housing 10, and a control unit 9 which instructs either the refrigerant supply device 70 or the exhaust system 80 to operate after the light source 21 stops operating.例文帳に追加

露光装置１は、光源２１を冷却するための冷媒を供給する冷媒供給装置７０と、光源ハウジング１０内のガスを排気する排気系８０と、光源２１の駆動停止後に冷媒供給装置７０及び排気系８０の少なくとも一方に対して動作するように指示する制御部９とを備えている。 - 特許庁

This projection aligner EX has a substrate stage PST that moves the substrate P in the optical-axis direction of the projection optical system PL during exposure, and a controlling device CONT that sets at least one of a position in a Z direction on the substrate P and the travel amount for moving the position during exposure for each exposure of the plurality of patterns PA.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光中に投影光学系ＰＬの光軸方向に基板Ｐを移動させる基板ステージＰＳＴと、複数のパターンＰＡのそれぞれの露光毎に、基板ＰのＺ方向の位置と、この位置を露光中に移動させる移動量との少なくとも一方を設定する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

In an aligner 1, the position of a reticle 4 is measured on a reticle chuck 9 holding the reticle 4 and based on a reference plane 9a provided at a position corresponding to the inside of the range of the reticle 4 held by a reticle chuck 9, and exposure is conducted by adjusting the position of the reticle 4 by moving the chuck 9 in response to the result of the measurement.例文帳に追加

この露光装置１は、レチクル４の位置を、レチクル４を保持するレチクルチャック９上であって、レチクルチャック９に保持されたレチクル４の範囲内に相当する位置に設けられた基準面９ａに基づいて測定し、測定結果に応じてレチクルチャック９を移動させることによりレチクル４の位置を調整して露光を行う。 - 特許庁

A selector 108 receives access data from a data aligner 104 and an instruction code from an instruction holding circuit 105 as inputs and outputs only the access data based on a select signal from an access data switching control circuit 109 or multiplexes a part of the instruction code to the access data and outputs it when access width is smaller than maximum data width.例文帳に追加

セレクタ１０８は、データアライナ１０４からのアクセスデータと命令保持回路１０５からの命令コードとを入力として受け、アクセスデータ切換制御回路１０９からのセレクト信号に基づき、上記のアクセスデータのみ又はアクセス幅が最大データ幅よりも小さい場合は、アクセスデータに上記命令コードの一部をマルチプレクスして出力する。 - 特許庁

In addition, the information on the transportation of the substrate is exchanged between a controller 34 on the aligner 10 side and another controller 62 on the substrate treating device 50 side and, in the system 10 and device 50, the next substrate transporting motion which contributes to improve the throughput is decided based on the information from the opposite side prior to the motion.例文帳に追加

また、露光装置１０側の制御装置３４と基板処理装置５０側の制御装置６２との間で、基板の搬送に関する情報がやり取りされ、両装置では、相手方装置からの情報に基づいて処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を、該動作の開始に先立って決定する。 - 特許庁

This inhibits an oxidizing reaction or carbon film formation at the surface of the optical element 50 even if it is radiated with UV-rays in the projection aligner.例文帳に追加

ニオブ、ルテニウム、ロジウム、白金、金、銀、パラジウム、オスミウム及びイリジウムのうち少なくともいずれか１つとニッケル、パラジウム、白金、銀、ロジウム及びルテニウムのうち少なくともいずれか１つを含有する保護層３０を最表層に備えることで、投影露光装置内において極端紫外線が照射されても光学素子５０表面での酸化反応・カーボン膜生成を抑制することができる。 - 特許庁

To provide an optical system having a diffraction optical device which can be applied to the optical system for which extremely high image-forming performance is required such as the projection optical system of a projection aligner for manufacturing a semiconductor especially by minimizing influence exerted on image-forming by generated unnecessary diffracted light in the optical system using a diffraction optical device.例文帳に追加

回折光学素子が使われている光学系において、発生する不要回折光が結像に与える影響を最小限にすることができ、従って特に半導体製造用投影露光装置の投影光学系など極めて高い結像性能を要求される光学系に適用することができる回折光学素子を有する光学系を提供する。 - 特許庁

The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.例文帳に追加

アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

In the process for fabricating an optical element for use in a projection aligner, an oxidation-resistant film (107) is deposited thicker than that under actual use state on the surface of the optical element, and then a part thereof is removed thus depositing an oxidation-resistant film (107) of uniform thickness.例文帳に追加

投影露光装置に使用される光学素子の製造方法であって、光学素子の表面に耐酸化性膜（１０７）を実使用状態より厚く成膜し、その後に成膜した前記耐酸化性膜の一部を残して除去することにより一様な厚みの耐酸化性膜（１０７）を成膜することを特徴とする光学素子の製造方法である。 - 特許庁

An aligner is provided with a gas-supplying system, which supplies a prescribed low-absorptivity gas, such as the nitrogen, rare gas, etc., to a protective space PS, surrounded by the patterned surface of a reticle R carrying a pellicle 75 fitted to the patterned surface via a frame 76 and the pellicle 75 while the reticle R is held by a reticle holder 14.例文帳に追加

そのパターン面にフレーム７６を介してペリクル７５が装着されたレチクルＲがレチクルホルダ１４により保持された状態で、そのレチクルＲのパターン面とフレーム７６とペリクル７５とで囲まれた保護空間ＰＳ内に所定のガス、例えば窒素又は希ガス等の低吸収性ガスを給気管６６を介して供給するガス供給系を備えている。 - 特許庁

The transferred data unit is input to the aligner for the data processing circuit in parallel with the data transfer, and the address of the data in the input data unit is aligned, and the aligned data unit is input to the data processing circuit by the input data width unit of the data processing circuit, and the aligned data unit input to the data processing circuit is processed.例文帳に追加

データ転送に並行して、データ処理回路用のアライナに、転送されるデータユニットが入力され、入力されたデータユニットにおけるデータのアドレスがアラインされ、アライン後のデータユニットがデータ処理回路の入力データ幅単位でデータ処理回路に入力され、データ処理回路に入力されたアライン後のデータユニットが処理される。 - 特許庁

In an electron beam projection aligner for irradiating a substrate 6 retained on a stage 9 in the sample chamber 10 with electron beams 3 discharged from an electron gun 2 via lenses 4, 5, a conductive shielding film 12, having a through hole through which the electron beams 3 pass, is removably provided on the inner surface of the sample chamber 10 opposite to the substrate 6.例文帳に追加

電子銃２から放出された電子ビーム３をレンズ４，５を介して、試料室１０内のステージ９上に保持された基板６に照射する電子線露光装置であって、基板６と対向する試料室１０の内壁面に、電子ビーム３が通過する貫通穴を有する導電性遮蔽膜１２を着脱可能に設けた。 - 特許庁

The aligner has a work pallet 6 on which a positioning hole 4 is formed, a housing 7 installed in an installing hole 1 of a base plate 3, a moving member 8 to move forward and backward by screw engagement against the housing 7 and a converting mechanism 11 to convert forward and backward movement of the moving member 8 to movement in the diametrical extending and contracting directions of a sleeve member 10.例文帳に追加

位置決め孔(４)が形成されたワークパレット(６)と、ベースプレート(３)の装着穴(１)に装着されるハウジング(７)と、ハウジング(７)に対してネジ係合によって進退移動する移動部材(８)と、その移動部材(８)の進退移動をスリーブ部材(１０)の拡径および縮径方向の移動に変換する変換機構(１１)とを有している。 - 特許庁

To provide a safe and accurate projection aligner apparatus, which can realize high resolution by preventing an illuminating efficiency and an alignment accuracy from being reduced due to fogging of an essential optical element in the apparatus, immediately discover a cause in the case of a gas state fault, and shorten a down time of the apparatus, and to provide a method for monitoring gaseous state.例文帳に追加

装置内の主要な光学素子の曇りによる照明効率及びアライメント精度の低下を防止し、高解像力を実現すると共に、ガス状態異常の場合は即座に原因究明を可能とし、装置ダウンタイムの短縮が図れ、安全かつ高精度な投影露光装置およびガス状態監視方法を提供する。 - 特許庁

To keep the accuracy of mark position detection by detecting a mark position by picking up the image of an alignment mark at or near a focus position in all alignment detection systems, even in the case of picking up the image of the alignment mark simultaneously in a plurality of the alignment detection systems regarding a mark position detection method in an aligner for semiconductor manufacture.例文帳に追加

本発明は、半導体製造用露光装置におけるマーク位置検出方法に関し、複数のアライメント検出系で同時にアライメントマークを撮像する場合においても、全てのアライメント検出系においてアライメントマークを合焦位置またはその近傍で撮像してマーク位置検出を行うことにより、マーク位置検出の精度を保つ事を目的とする。 - 特許庁

To solve the problem that the illuminance unevenness or the like of exposure light is caused and further poor circuit baking or the like is caused by the adherence of a contaminant contained in a liquid medium on the liquid contact surface of an optical component when drying is performed while the drop of the liquid medium like deionized water is left on a lens surface, in a projection aligner using an immersion method.例文帳に追加

液浸法を用いた投影露光装置において、レンズ表面に純水など液体媒体の液滴が残留したまま乾燥すると、液体媒体に含まれる汚染物質が光学部品接液面に固着することによって、露光光の照度ムラなどを引き起こし、ひいては回路焼付不良等を引き起こすこともある。 - 特許庁

An aligner which lights up a mask 32 as an original mounted on a 1st table, i.e. a top plate 30 by using a lighting device using light from a light source has a light shield, made of a material-absorbing EUV light, and the 1st table is equipped with masking blades 28 and 31 for cutting off unwanted lights which do not contribute to exposure.例文帳に追加

第１のテーブル即ち天板３０に搭載された原版としてのマスク３２を、光源からの光で照明する照明装置を用いて照明する露光装置において、ＥＵＶ光を吸収する材質により構成された遮光部を具備し、露光に寄与しない不要な光を遮光するマスキングブレード２８，３１を、前記第１のテーブルに具備する。 - 特許庁

This aligner possesses a movable stage 4, a chuck device 14 arranged on the stage to hold a substrate 15, a gas feeder for feeding gas to the position to be exposed of the substrate and a planar member, arranged on a plane at the same height or substantially the same height as that of the surface of the substrate adjoining the outer periphery part of the substrate and integrated with the chucking device.例文帳に追加

移動可能なステージ４と、ステージ上に配置され基板１５を保持するチャック装置１４と、基板の露光される位置に気体を供給するための気体供給装置と、基板の外周部に隣接して、基板の表面と同一又は略同一の高さの平面上に配置され、チャック装置と一体化された平面状部材とを具備する。 - 特許庁

The treatment apparatus having a processing liquid tank in which predetermined processing is applied to photographic paper exposed by an aligner is provided with a frame body 30 constituting a transportation opening into which the photographic paper is carried in, a pair of elastic rollers 35 provided at the transportation opening to transport the photographic paper, and rollers 36 interposed in a gap between the elastic roller 35 and the frame body 30, respectively.例文帳に追加

露光装置によって露光された印画紙に対して、所定の処理を行う処理液槽を有する処理装置であって、印画紙が搬入される搬送口を構成する枠体３０と、搬送口に設けられ、印画紙を搬送する一対の弾性ローラ３５と、弾性ローラ３５と枠体３０との隙間にそれぞれ介在するローラ３６と、を備える。 - 特許庁

An A room 1 has an aligner for exposing a wafer W1 inside and is filled with a pressure-reduced atmosphere of expensive helium and when a gate valve 1a is opened in order to carry the wafer W1 in the A room 1, helium is introduced into a load lock room 3 from a helium source 7a after the load lock room 3 is evacuated through a 1st discharge line 4.例文帳に追加

Ａ室１は、ウエハＷ_1 を露光するための露光装置を内蔵し、高価なヘリウムの減圧雰囲気によって満たされており、ウエハＷ_1 をＡ室１に搬入するためにゲートバルブ１ａを開くときは、第１の排気ライン４によってロードロック室３を真空排気したうえで、ヘリウム源７ａからロードロック室３にヘリウムを導入する。 - 特許庁

This aligner is provided with a lump exposure mechanism 4 forming a circuit by collectively exposing the entire surface by a mask M masking the part of the high density and high thin line pattern Wa, and a partial exposure mechanism 7 (17) forming a circuit by partially exposing the part of the high density and high thin line pattern by an optical system more excellent in resolution.例文帳に追加

高密度・高細線パターンＷａの部分をマスキングしたマスクＭにより全面一括露光し、回路を形成する一括露光機構４と、前記高密度・高細線パターンの部分を、より解像力の優れた光学系により部分露光し、回路を形成する部分露光機構７（１７）と、を兼備する露光装置として構成した。 - 特許庁

The aligner 1, in which a desired spot on the substrate to be exposed relatively moving to the light sources is irradiated with a light, by using a plurality of light sources aligned along the direction of the relative movement for forming a desired exposure pattern, has a control means 10 for controlling lighting with a specified timing only a specified light source from among the plurality of light sources.例文帳に追加

相対移動の方向に沿って並ぶ複数の光源を用いて、該光源に対して相対移動する露光対象基板上の所望のスポットを照射し、所望の露光パターンを形成する露光装置１は、複数の光源のうち特定の光源のみを特定のタイミングで点灯制御する制御手段１０を備える。 - 特許庁

An aligner comprises a mask stage MST for moving the mask M with a deflection control unit (the space definition member) 1 for defining space S with the surface of the mask M as a boundary; a pressure sensor 11 for detecting the pressure in the space S; and a pressure controller PRC for controlling the pressure in the space S, based on the output of the pressure sensor 11.例文帳に追加

露光装置は、マスクＭの面を境界とする空間Ｓを定義する撓み制御ユニット（空間定義部材）１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、空間Ｓの圧力を検知する圧力センサ１１と、圧力センサ１１の出力に基づいて空間Ｓの圧力を制御する圧力制御器ＰＲＣとを備える。 - 特許庁

The cable aligner 1 for aligning connectors 2 of at least two cables 3 is provided with a connector aligning part 11 for aligning and fixing connectors 2 so that the connectors become possible to connect with receiving side connectors, and a collective connector detaching part 12 capable of simultaneously pushing down at least two connector detaching claws of the connectors 2 mounted on the connector aligning part 11.例文帳に追加

少なくとも２つのケーブル３のコネクタ２を整列させるためのケーブルアライナ１は、受け側コネクタに対して接続可能となるようにコネクタ２を固定設置するためのコネクタ整列部１１と、このコネクタ整列部１１に装着される少なくとも２つのコネクタ２の各コネクタ外し用爪を、同時に押下可能な一括コネクタ外し部１２と、を備える。 - 特許庁