「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

When a patterned part 10 is formed on a substrate having an insulation layer 21 coated with a resist layer 23, an EB reduction projection aligner performs exposure such that an exposed patterned part 10' has a width W' wider than a target width W of the patterned part 10.例文帳に追加

絶縁層２１上にレジスト層２３が塗布された基板にパターン部１０を形成する際、露光後のパターン部１０´の幅Ｗ´が、目標とするパターン部１０の幅Ｗより広くなるようにＥＢ縮小投影露光機で露光する。 - 特許庁

To provide a stage device in which a body of the stage device is easily taken out from the stage device while avoiding collision between the body and other members during maintenance, and to provide a method for maintaining an aligner with such the stage device and the stage device.例文帳に追加

メンテナンス時に、ステージ本体が他の部材と衝突するのを回避しつつ、当該ステージ本体を容易に取り出すことができるステージ装置、このようなステージ装置を備えた露光装置及びステージ装置のメンテナンス方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a scanning aligner where the exposure amount on a photosensitive substrate can properly be adjusted in accordance with a comparatively simple structure, even though EUV light is used as the exposure light and a reflecting mask is used.例文帳に追加

たとえば露光光としてＥＵＶ光を用い且つ反射型のマスクを用いているにもかかわらず、比較的簡素な構成にしたがって感光性基板上における露光量の調整を良好に行うことのできる走査型の露光装置。 - 特許庁

To provide an original plate for a heat-sensitive lithographic printing plate to be scan exposed within a short time, mounted directly on a printer and printing without the development, provided with superior resistance to printing, free from printing stains and generating just a little contamination to an aligner and a light source.例文帳に追加

短時間での走査露光が可能で、現像処理を行うことなく直接に印刷機に装着して印刷でき、耐刷性に優れ、印刷汚れがなく、更に露光装置や光源の汚染が少ない感熱性平版印刷版用原板を得る。 - 特許庁

The electron beam control device for controlled use of an electron beam, such as an electron microscope or an electron beam aligner, comprises a magnetic sensor for measuring an externally influenced magnetic variation that influences a track of an electron beam.例文帳に追加

電子顕微鏡および電子ビーム露光装置等の、電子ビームを制御して利用する電子ビーム制御装置であって、電子ビームの飛跡に影響を及ぼす、外界からの影響による磁気変動量を測定するための磁気センサーを備えている。 - 特許庁

To provide optical characteristics measuring equipment and method in which precision of measurement can be enhanced, and to provide an aligner capable of producing a substrate having an extremely fine pattern precisely, and a process for fabricating a device.例文帳に追加

光学特性の測定精度を向上を図ることのできる光学特性測定装置及び光学特性測定方法、極めて微細なパターンを有する基板を精度よく、歩留まりよく製造可能な露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

An aligner comprises: a processing unit 21 for deriving a central wavelength of exposure light based on the spectrum measured by a measuring instrument 6; and a main control system (evaluation unit) 21 for evaluating the definition of exposure light based on the central wavelength of the exposure light.例文帳に追加

露光装置は、計測器６によって計測されたスペクトルに基づいて露光光の中心波長を導出する処理部２１と、露光光の中心波長に基づいて露光光の品位を評価する主制御系（評価部）２１とを備える。 - 特許庁

To provide a controllability evaluation method for a control system, an aligner, and planarity measuring method, which can discriminate influence on controllability from the surface shape of an object and accurately comprehend the controllability of the control system.例文帳に追加

対象物の表面形状による制御性への影響を判別することができ、制御系の制御性をより正確に把握することができる制御系の制御系評価方法及び露光装置、並びにフラットネス計測方法を提供する。 - 特許庁

A hand 31 of the robot 3 is fitted with a front edge sensor 35, which detects the position of the front edge of the substrate W, and each aligner 5 is fitted with two side edge sensors 52, 52 which detect two positions of the side edges of the substrate W.例文帳に追加

ロボット３のハンド３１には基板Ｗの前面端縁の位置を検出する前面端検出センサ３５を装着し、アライナー５には基板Ｗの側面端縁の二位置を検出する２個の側面端検出センサ５２、５２を装着している。 - 特許庁

The aligner has: the chuck member for chucking a wafer; the conveyance arm for conveying the wafer into and out of the chuck member; and a detection means for detecting whether the wafer is obliquely retained by the conveyance arm.例文帳に追加

ウエハを吸着するチャック部材と、前記チャック部材への前記ウエハの搬出入を行う搬送アームと、前記搬送アームに前記ウエハが傾斜して保持されているか否かを検出する検出手段とを有していることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an optical system capable of highly precisely adjusting inclinations and positions in the axial direction of a plurality of optical elements that constitute an optical system, and to provide an adjustment method for the optical system, an aligner, and a device manufacturing method.例文帳に追加

光学系を構成する複数の光学素子の傾斜及び光軸方向の位置を装置上で高精度に調整することができる光学系、当該光学系の調整方法、露光装置、並びにデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

An aligner E synchronously moves a mask M and a substrate P from an accelerating section H 1 to a decelerating section H 4 through a setting section H 2 and a normal section H 3, and during the movement, transfers the image of a pattern formed on the mask M to the substrate P.例文帳に追加

露光装置Ｅは、マスクＭ及び基板Ｐを、加速区間Ｈ１、整定区間Ｈ２、定常区間Ｈ３、減速区間Ｈ４の順に同期移動させ、この移動中にマスクＭに形成されたパターンの像を基板Ｐ上に転写する。 - 特許庁

To provide a projection aligner, a substrate history-retaining apparatus, and a storage medium for storing a substrate history retention program for reducing load of a host computer and preventing a substrate treatment history from being lost, even if the host computer or a network fails.例文帳に追加

ホストコンピュータの負担が軽減され、かつホストコンピュータやネットワークが故障した場合であっても、基板処理履歴が消滅してしまうことがない露光装置、基板履歴保持装置および基板履歴保持プログラムを記憶した記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner wherein exposure can be made with high resolution but without exchanging a mask pattern having a fine width (e.g. smaller than 0.15 μm), with the pattern being a mixture pattern ranging from various patterns, isolated and complicated patterns including L and S patterns.例文帳に追加

微細な（例えば、０．１５μｍ以下の）線幅を持ち、各種パターンや、Ｌ＆Ｓパターンから孤立及び複雑なパターンまでが混在するマスクパターンを、マスクを交換せずに、解像度良く露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cooling device and method which brings about a desired imaging performance by reducing the deformation of an optical member due to thermal expansion, which would cause the degradation of the imaging performance without transmitting vibration, and also to provide an aligner including the cooling device.例文帳に追加

結像性能の劣化となる光学部材の熱膨張による変形を、振動を伝えることなく低減させることで、所望の結像性能をもたらす冷却装置及び方法、当該冷却装置を有する露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner, capable of securing high exposing precision by suppressing relative displacement between plural mirror cylinders and the relative displacement of the position measuring instrument of a substrate, with respect to the optical axis of a projecting optical system with the variation of an ambient temperature condition.例文帳に追加

周囲の温度条件の変動に伴う複数の鏡筒間の相対変位及び投影光学系の光軸に対する基板の位置計測器の相対変位を抑制し、高い露光精度を確保可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The aligner has a stator SM including a measurement area MA and an exposure area EA, the two movers (stages) ST1, ST2 which can move on the stator SM, and a stage device SD having a chuck in which the movable devices retain substrates, respectively.例文帳に追加

露光装置は、計測領域ＭＡ及び露光領域ＥＡを含む固定子ＳＭと固定子上で移動可能な２つの可動子（ステージ）ＳＴ１、ＳＴ２とを有し各可動子が基板を保持するチャックを有するステージ装置ＳＤを備える。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner for exposing all patterns so that the patterns can accurately be in a desired shape when each of a plurality of patterns having a different depth shape is exposed to a substrate by a projection optical system.例文帳に追加

深さ形状の異なる複数のパターンのそれぞれを投影光学系により基板に露光する際、全てのパターンが精度良く所望の形状を得られるように露光できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for evaluating the quality of shape of a wafer from a view point different from that of conventional SFQR, or the like, a wafer reducing trouble in an aligner, or the like, and to provide a method for selecting a wafer having such an excellent quality.例文帳に追加

ウェーハの形状品質を従来のＳＦＱＲ等とは違う観点から評価するウェーハの形状評価方法及び露光装置などでトラブルの少ないウェーハ並びにそのような良好な品質を有するウェーハの選別方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sensor control device which satisfactorily sensitivity characteristic of a sensor, irrespective of the reverse voltage to a sensor and illumination shapes of an incident light and can detect exposure on a prescribed surface with superior precision, and an aligner using the sensor control device.例文帳に追加

センサへの逆電圧及び入射光の照明形状によらず、センサの感度特性を良好に維持し、所定面上の露光量を精度良く検出することのできるセンサ制御装置及びそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁

A holding member 11 and an optical element M1 are formed using the material having the difference in linear expansion coefficient of 0.1 ppm/K or smaller in a projection aligner wherein the optical element M1, supported by a supporting member 11, is arranged on the optical path of a beam EL.例文帳に追加

ビームＥＬの光路に保持部材１１で保持された光学素子Ｍ１が配置された投影露光装置において、保持部材１１と光学素子Ｍ１とを、線膨張係数の差が０．１ｐｐｍ／Ｋ以下になる素材でそれぞれ形成する。 - 特許庁

The main controller controls a motor 16 (optical device 10) in accordance with a flow chart (Fig. 3, not shown), for example, and prevents destruction of environment in a chamber where an aligner 30 is stored by heat generated from the optical device 10.例文帳に追加

主制御装置３６では、例えば図３に示すフローチャートにしたがってモータ１６（光学装置１０）を制御し、光学装置１０から発生する熱によって露光装置３０が収容されているチャンバ内の環境を壊さないようにしている。 - 特許庁

In the cabinet 82H, a gap S is arranged between a portion which is formed by an outside upper cabinet 226 and an inside upper lens-barrel 228 of an aligner side, and a portion which is formed by an inside lower lens-barrel 274 and an upper plate 272 of a fixed reticle blind 28K side.例文帳に追加

その筐体８２Ｈにおいて、露光装置側の外側上部筐体２２６及び内側上部鏡筒２２８と、固定レチクルブラインド２８Ｋ側の内側下部鏡筒２７４及び上部プレート２７２との間に隙間Ｓを設ける。 - 特許庁

A memory for monitoring multi spots 1 for delaying one frame is used in common as a memory for inserting/removing delay which fix-delays at most one frame by a selecting part 6 at the time of establishing synchronization to eliminate the memory for inserting/removing the delay of a frame aligner circuit 3.例文帳に追加

１フレーム遅延させる多点監視用メモリ１を、同期確立時は選択部６により１フレーム以下の固定遅延させる遅延挿脱用のメモリとして共用化を計り、フレームアライナ回路３の遅延挿脱用のメモリを削減する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, by which a fine pattern is more stably formed by using a mask aligner and a master information carrier corresponding to a magnetic recording medium in different sizes is manufactured without changing the size of a substrate.例文帳に追加

マスクアライナーを用いて微細なパターンをより安定に形成するとともに、異なった大きさの磁気記録媒体に対応したマスター情報担体に対して基体の大きさを変更せずに製造できるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To realize a master disk aligner which can suppress vibration during rotation by eliminating the off-centering of a master resist disk, can prevent the axial deflection of a turntable and makes high-accuracy inter-track pitch obtainable with a relatively simple apparatus and by a simple process.例文帳に追加

レジスト原盤の偏芯を除去して回転時の振動を抑えると共に、ターンテーブルの軸ぶれを防止し、高精度なトラックピッチ間隔を得ることができる原盤露光装置を、比較的簡単な装置と単純な工程により実現する。 - 特許庁

To provide a position detecting method and a position detector, capable of stably detecting the position of each of substrates varying in shape, while preventing dust or the like from being produced, and to provide an aligner equipped with the position detector.例文帳に追加

異なる形状を有する基板に対して、ゴミなどの発生を防止しつつ安定した位置検出を行うことができる位置検出方法及び位置検出装置、この位置検出装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To structure a deflection electrode to form an electrostatic deflector of a charged particle beam aligner with a material having an optimum specific resistance to control an eddy current and also having excellent strength for cleaning to be conducted in the oxygen plasma.例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光装置の静電偏向器を構成する偏向電極を、渦電流を抑制できる最適な比抵抗を有し、かつ酸素プラズマ中で行われるクリーニングに対して優れた耐性を有する材料により構成する。 - 特許庁

To provide a plane position detector and an aligner equipped with the plane position detector which secure an excellent focusing performance over a wide plane to be detected and have a high detecting precision with a simple optical system.例文帳に追加

簡略な光学系を実現しつつ、広範囲の検出領域全面に対して良好な結像性能を確保し、高い検出精度を有する面位置検出装置及びこの面位置検出装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an alignment layer which can impart a preferable molecular alignment state to a liquid crystal layer on the alignment layer, to provide a liquid crystal aligner to form the layer, and to provide a liquid crystal display element having preferable black display characteristics and having the alignment layer.例文帳に追加

配向膜上の液晶層に良好な分子配向状態を付与することのできる配向膜、それを与える液晶配向剤、および該配向膜を有する黒表示特性の良好な液晶表示素子を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

When the respective sub-layouts are exposed in sequence on a photoresist on a wafer by using the aligner, an overlapping position is corrected by using each parameter before each exposure step, and final alignment for exposure is conducted (510, 520).例文帳に追加

露光装置を利用してウェーハ上のフォトレジストにそれぞれのサブレイアウトを順番に露光する際、各露光段階前にそれぞれのサブレイアウト別パラメータにより重ね合わせ位置を補正して露光のための最終アラインメントを実施する（５１０、５２０）。 - 特許庁

Accordingly, the distortion matching between the original process and the current process by the selected projection aligner is enabled by imparting the image-distortion correction value by selecting one adaptive device without depending upon the discriminating information of the lot by the host.例文帳に追加

これにより、ホストが、ロットの識別情報によらず、適合装置の１台を選択して像歪み補正値を与えることで、その選択された投影露光装置により元工程と現工程とのディストーションマッチングを行うことが可能になる。 - 特許庁

The exposure mask 20 for an aligner has the light-transmissive substrate 21, a light shielding film 16a provided on one face of the substrate and having a prescribed pattern, and a recess 24 provided leaving an area provided with the light shielding film, on the one face of the substrate.例文帳に追加

光透過性を有する基板２１と、この基板の一面に設けられて所定のパターン形状を有する遮光膜１６ａと、基板の一面に、遮光膜が設けられている領域を残して設けられた凹部２４と、を有するアライナ用露光マスク２０である。 - 特許庁

To provide a patterning method and an aligner for patterning in which patterning can be performed on the surface of a basic body coated with photoresist material by exposure with no interference with foreign matters by removing foreign matters, e.g. dust, floating above the basic body, e.g. a substrate.例文帳に追加

基板等の基体の上方に浮遊するゴミ、チリ等の異物を排除して、該異物によって邪魔されることなく基体のフォトレジスト材料塗布面に露光によるパターニング処理を行えるパターン形成方法及びパターン形成のための露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which easily confirms a movement error of a shutting component used to shut the unnecessary exposure light when transferring a pattern formed on a mask on a substrate, synchronously moving the mask and the substrate, and which can adjust the movement.例文帳に追加

マスクと基板とを同期移動させつつマスクに形成されたパターンを基板上に転写する際に、不要な露光光を遮光するために用いられる遮光部材の移動誤差の有無を容易に確認し、調整することができる露光装置等を提供する。 - 特許庁

In the aligner exposing an original plate to a substrate, a retaining member retaining at least the original plate or the substrate and/or a movable table mounting the retaining member has a fiber reinforcing material in which strength is enhanced in a plane perpendicular to the optical axis of exposing light.例文帳に追加

原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、少なくとも原版または基板を保持する保持部材および／または該保持部材を搭載した可動テーブルは、露光光の光軸に直交する面内に強度を向上させた繊維強化材を有する。 - 特許庁

To enable formation of a dummy pattern into a suitable shape so that it is contained in the edge of a wafer, to maintain uniform etching amount on the wafer side, and to prevent a resist peel off from the edge of a wafer, by obtaining an aligner which can transform exposure field into various shapes.例文帳に追加

本発明は、露光フィールドを種々の形に変形することができる露光装置を提供し、ウェハ端部に収まる適当な形状のダミーパターンの形成を可能とし、ウェハ面のエッチング量を均一に保ち、また、ウェハ端部のレジスト剥がれを防止する。 - 特許庁

In the charged particle beam aligner, manipulators 21, 27 for transferring a sensitive substrate and/or a pattern original comprises a first arm 53, a second arm 59, and a holding member 63 or the like, and freely moves the sensitive substrate and/or pattern original in XYZ direction.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置において、前記感応基板及び／又はパターン原版を搬送するマニュピレータ２１、２７は、第１アーム５３、第２アーム５９、保持部材６３等から構成され、感応基板やパターン原版をＸＹＺ方向に自由に移動させる。 - 特許庁

A laser beam L, which is a recording light, is made to follow up the top of the first rugged patterns 39 formed on a photoresist 150 of a first layer by using the aligner having a tracking mechanism and latent images 55 of the second rugged patterns are formed on a photoresist 12 of the second layer.例文帳に追加

トラッキング機構を備えた露光装置を用いて、第１層目のフォトレジスト５０に形成された第１の凹凸パターン３９上に記録光であるレーザビームＬを追従させ、第２層目のフォトレジスト１２に第２の凹凸パターンの潜像５５を形成する。 - 特許庁

The aligner includes a coarse adjustment stage 2, the fine adjustment stage 1, first members 7a and 7b provided with a first reflection surface 66 for reflecting measurement light, second members 8a and 8b provided with a second reflection surface for reflecting reference light, and interferometers 9a and 9b.例文帳に追加

露光装置は、粗動ステージ２と、微動ステージ１と、計測光を反射する第１反射面６６を有する第１部材７ａ，７ｂと、参照光を反射する第２反射面を有する第２部材８ａ，８ｂと、干渉計９ａ，９ｂと、を備える。 - 特許庁

This illuminance-measuring device measures the illuminance of illumination light on an image-forming surface of the projection optical system of an aligner for allowing the image of a pattern from a lighted mask to project on a substrate that is retained on a substrate stage by the projection optical system.例文帳に追加

照明されたマスクからのパターンの像を、基板ステージ上に保持される基板上に投影光学系により投射するようにした露光装置の該投影光学系の結像面における照明光の照度を計測する照度計測装置である。 - 特許庁

To make an integrated circuit high integration density and low in power consumption by eliminating a memory and an erroneous synchronization avoiding circuit in a circuit of a frame synchronization system by multi-spot monitoring and whose frame aligner uses a delay inserting/removing system.例文帳に追加

多点監視によるフレーム同期方式であり、かつフレームアライナが遅延挿脱方式を採用している回路において、メモリの削減をするとともに誤同期回避回路の削減を実施し、集積回路の集積度、低消費電力化を実現することにある。 - 特許庁

An aligner device 10 includes bellows 9, which are fixed having an upper end in contact with a peripheral edge of a through-hole 31 in a bottom surface of the frame 3 and is also fixed, having a lower end, in contact with a peripheral edge of a hole part 42 on an upper surface of a support base 4.例文帳に追加

アライナ装置１０は、フレーム３の底面における貫通孔３１の周縁部に上端を密着して固定するとともに支持台４の上面における孔部４２の周縁部に下端を密着して固定したベローズ９を備えている。 - 特許庁

To set a minimal moving distance in the axial direction of a ball screw, to a level which is not higher than that prescribed by the machining limit of a screw pitch, in an actuator in which a ball-screw apparatus is installed for performing the positional control of a stage with a substrate mounted thereon in an aligner.例文帳に追加

露光装置で基板を載置するステージの位置制御を担うアクチュエーターにおいては、ボールスクリュウ装置が採用されているが、該ボールスクリュウの軸方向の最小の移動距離を、ねじピッチの加工限界で規定される値以下にする技術を提供すること。 - 特許庁