「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

The aligner irradiates the certain member with either the exposure light exiting the exit surface and/or the irradiating light in a state that the surface of the certain member comes into contact with the liquid in the liquid immersion space having the concentration of gas which is raised as compared with a concentration when the substrate is irradiated with the exposure light.例文帳に追加

露光装置は、基板に対する露光光の照射時よりも気体濃度が高められた液浸空間の液体と所定部材の表面とが接触された状態で、射出面から射出される露光光及び照射光の少なくとも一方を所定部材に照射する。 - 特許庁

In the aligner which detects a mask alignment mark and a workpiece alignment mark through the through-hole formed in the workpiece stage, a translucent window member disposed in the through-hole of the workpiece stage is supported by an elastomer and the window member abuts against the workpiece elastically.例文帳に追加

ワークステージに形成した貫通孔を介してマスク・アライメントマークとワーク・アライメントマークを検出する露光装置において、ワークステージの貫通孔内に配置した光透過性窓部材を弾性体によって支持して、ワークに対して窓部材が弾性的に当接することを特徴とする。 - 特許庁

To compose a supply means of capable of supplying chips thrown into a chip bath to a chip conveyance rail reliably and speedily without damaging the chips and without generating a fitted state in a bamboo shoot shape in a chip aligner for setting the chips to a chip rack automatically.例文帳に追加

チップを自動的にチップラックにセットするチップ整列装置において、チップ槽に投入されたチップを、傷つけることなく、かつ、たけのこ状に嵌り合った状態を生ぜしめずに、確実にかつスピーディーにチップ搬送レールに供給し得る供給手段を構成する。 - 特許庁

To provide a magnetic field lens used for an electron gun of an electron beam device, particularly a probe-forming system (spot beam type electron beam aligner, electron microscope, etc.) which is suitable to an ultrahigh vacuum atmosphere, and can perform wabbling operation.例文帳に追加

電子ビーム装置、特に大電流で小直径なビームが必要とされるプローブフォーミングシステム（スポットビーム型電子線露光装置、分析用電子顕微鏡など）の電子銃に使用する磁場レンズに関し、超高真空雰囲気に適合し、かつワブリング動作が可能な磁場レンズを提供する。 - 特許庁

In the aligner having a movable stage in holding the mask substrate to expose a pattern formed on the mask substrate on a photosensitive substrate by a projection optical system, the stage holds the mask substrate through an elastic member being elastically deformable according to deformation of the mask substrate.例文帳に追加

マスク基板を保持して移動可能なステージを備え、前記マスク基板に形成されたパターンを投影光学系によって感応基板上に露光する露光装置において、そのステージは、マスク基板をそのマスク基板の変形に応じて弾性変形可能な弾性部材を介して保持するようにした。 - 特許庁

An X-ray aligner 100 is provided with a light source chamber 10 having an X-ray generating mechanism, the X-ray transmission unit 11 to which a plurality of X-ray transmission films having different X-ray transmission characteristics are fixed, and a driving device 14 which drives the unit 11.例文帳に追加

Ｘ線露光装置１００は、Ｘ線を発生させる機構を有する光源チャンバ１０と、互いに異なるＸ線透過特性を有する複数のＸ線透過膜が固定されたＸ線透過ユニット１１と、Ｘ線透過ユニット１１を駆動する駆動装置１４と、を備える。 - 特許庁

To provide an aligner capable of carrying out exposure at high accuracy, by carrying out a relative alignment between a projection position of an exposure pattern of a projection optical system and a detection position of a position detection optical system, without having to move the position detection optical system on a rear surface side.例文帳に追加

、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The aligner has an optical system constituted in such a way that a fly eye lens and a concave mirror are disposed between a light source and the lens sheet as the objective body of exposure and the light exiting from the light source transmits through the fly eye lens and is reflected by the concave mirror to be converted into approximately parallel beams with which the lens sheet is irradiated.例文帳に追加

光源と被露光体であるレンズシートとの間に、フライアイレンズと凹面鏡が設置されており、光源から出射した光が、フライアイレンズを透過して凹面鏡によって反射され、略平行光束とされて、レンズシートを照射する光学系を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a connection optical system by which an optical axis in the connection optical system between a light source device and an alignment can be adjusted easily, accurately and in a short time without manpower and an illuminating light can be supplied uniformly on a pattern in the main body of the aligner.例文帳に追加

光源装置と露光装置本体との間の接続光学系における光軸の調整を、人手によることなく短時間に容易かつ正確に行うことができ、露光装置本体内のパターン上に均一な照明光を供給可能な接続光学系を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure mask for an aligner capable of approaching to a photoresist film with a light shielding pattern formed on a surface of a substrate to be processed when exposed, closely thereto or under a condition near to a close contact, even when protruded contamination exists on the surface of the substrate to be treated, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

被処理基板の表面に突起状の異物が存在しても、露光の際に遮光膜パターンを被処理基板の表面に形成されたフォトレジスト膜に密着、或いは密着に近い状態で接近させることが可能なアライナ用露光マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for oscillating excimer laser which can reduce the load on the lens material and its surface, can simplify the mirror or laser scanning control system, and is satisfactorily used in mass production since the service life of an excimer laser can be sufficiently prolonged, to provide an method for oscillating the excimer laser, and to provide an aligner.例文帳に追加

レンズ材料やその表面への負荷が少なく、かつ、ミラーもしくはレンズスキャンの制御系を簡略にすることができ、かつエキシマレーザ の寿命が十分長くなって量産の使用に耐えるエキシマレーザ 発振装置及び発振方法並びに露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The aligner is provided with a base board 174 for erecting the exposing surface of a held exposed material 148, an exposing head 166 which is moved relatively to the base board 174 to expose the exposing surface in accordance with image data and a scanning means for moving the exposing head 166 on the upright surface.例文帳に追加

保持される露光材料１４８の露光面を直立させる基台１７４と、基台１７４と相対移動し、画像データに応じて露光面を露光する露光ヘッド１６６と、露光ヘッド１６６を直立面上で移動させる走査手段１７８と、を備えた露光装置とする。 - 特許庁

The aligner comprises a light source 20 for applying ultraviolet rays; an exposure mask 15 arranged at the lower portion of the light source 20; and a stage 10 that is provided at the lower portion of the exposure mask 15 and can travel in the horizontal direction from one operation position 10A to another operation position 10B.例文帳に追加

本発明の露光装置は、紫外線を照射する光源２０と、光源２０の下方に配置された露光マスク１５と、露光マスク１５の下方に設けられ、一の作動位置１０Ａから他の作動位置１０Ｂまで水平方向に移動可能なステージ１０とを備えている。 - 特許庁

To provide an aligner in which recognition codes are exposed on a substrate coated with photosensitive material, the treatment can be completed within a specified time even when the recognition codes to be exposed are increased and an adjusting operation such as lamp exchanging operation can be simply performed because there is no necessity for increasing light sources.例文帳に追加

感光材が塗布された基板上に認識コードを露光する装置において、露光すべき認識コードが増えても一定の時間内に処理を終えることが出来ると共に、光源を増やす必要がないため、ランプ交換作業などの調整作業が簡単にできる露光装置を提供する。 - 特許庁

The aligner 100 has optical systems (an illumination optical system 130, a projection optical system 150 and an alignment system 170) projecting a light beam emitted from a light source 110 to a wafer 320 held on a stage device 160 through a reticle 310 and exposing the wafer 320.例文帳に追加

露光装置１００は、光源１１０から出射された光ビームをレチクル３１０を介してステージ装置１６０に保持されたウエハ３２０に投影して露光するための光学系（照明光学系１３０、投影光学系１５０及びアライメント系１７０）を有する。 - 特許庁

The aligner 100 is equipped with a reticle FM plate RFM whereupon a plurality of kinds of marks for various kinds of self-measurement are formed, a mobile stage RST on which the reticle FM plate RMF is placed, and a space image measuring instrument 59 including a slit plate 90 on which a slit 22 is formed.例文帳に追加

露光装置１００は、各種自己計測に用いられる複数種類の計測用マークが形成されたレチクルＦＭ板ＲＦＭと、レチクルＦＭ板ＲＦＭが載置された移動ステージＲＳＴと、スリット２２が形成されたスリット板９０を含む空間像計測器５９とを備えている。 - 特許庁

An aligner employing a discharge lamp 1 as an exposing light source comprises means 19, 20, 22, 70, 71 for detecting the lighting state of the discharge lamp, and means 71 for controlling and correcting the lighting state of the discharge lamp based on the detection results.例文帳に追加

放電灯１を露光光源として用いる露光装置において、放電灯の点灯状態を検出する点灯状態検出手段１９、２０、２２、７０、７１と、この検出結果に基づいて放電灯の点灯状態を制御しまたは補正する点灯状態制御手段７１を設ける。 - 特許庁

An aligner includes a solution reservoir 40 for supplying a liquid immersion solution 21A on a resist film formed on a substrate 20, and an illumination optical system 30 for irradiates an exposure light to the resist film through a mask 23 in the state that the liquid immersion solution 21A is arranged on the resist film.例文帳に追加

露光装置は、基板２０上に形成されたレジスト膜の上に液浸溶液２１Ａを供給する溶液貯留部４０と、レジスト膜の上に液浸溶液２１Ａを配した状態で、該レジスト膜にマスク２３を介した露光光を照射する照明光学系３０とを備えている。 - 特許庁

A wafer P, carried in by an arm 102, is received by a carrying arm 46 setting a rotation angle of the arm 46 at the side of an aligner 10 at a rotation angle, according to a direction of a square wafer P during carrying-in by the carrying-in arm 102 at the side of a wafer treatment device 100.例文帳に追加

基板処理装置１００側の搬入アーム１０２による搬入の際の角型基板Ｐの方向に応じた旋回角度に露光装置１０側の搬送アーム４６の旋回角度を設定した状態で、そのアーム４６によりアーム１０２によって搬入された基板Ｐを受け取る。 - 特許庁

The aligner is previously provided with a plurality of dividing slits as a slit library 23 so that the leveling detection can be accurately made in accordance with the variation of the image forming plane on a wafer to be exposed, and a carrier arm 25 selects an optimum slit whenever necessary from the slit library 23 and replaces it.例文帳に追加

露光対象の基板の結像面の変化に対応して精度のよいレベリング検出ができるように、露光装置にあらかじめ複数の分割用スリットをスリットライブラリ２３として備え、搬送アーム２５によりスリットライブラリ２３から随時最適なスリットを選択してこれに交換する。 - 特許庁

The working apparatus comprises a lathe with a hollow spindle including a chuck 5 at its tip, a work feeder 1 for carrying a rear end of the work and feeding the work to a working region of the lathe, and a work rotator 3 and a phase aligner 2 provided between the feeder and the lathe.例文帳に追加

先端にチャック５を備えた中空主軸の旋盤と、ワークの後端を把持して当該ワークを旋盤の加工領域に送り込むワーク送入装置１と、このワーク送入装置と旋盤との間に配置されたワーク回転装置３及び位相合せ装置２とを備えている。 - 特許庁

The aligner 2 comprises a detector main body 23 that is arranged on a pedestal 21 movable to the cassette 1, wherein a position sensor 25 that detects the position of the side edge of the substrate and a detecting sensor 26, which detects whether or not a substrate is present are provided to the detector main body 23.例文帳に追加

アライナー２には機台２１上にカセット１に対して移動可能な検出部本体２３が配設されるとともに検出部本体２３に基板Ｗの側縁端の位置を検出する１個の位置センサ２５と基板Ｗの有無を検出する有無センサ２６が配設されている。 - 特許庁

An aligner 100 is provided with an optical source 101 irradiating a mask 102 with light, a projection optical system 103 projecting the image of the mask 102 on a wafer 110 and a liquid supply device 105 filling a part between the projection optical system 103 and the wafer 110 with medium liquid 109.例文帳に追加

露光装置１００は、マスク１０２に光を照射する光源１０１と、マスク１０２の像をウェーハ１１０上に投影する投影光学系１０３と、投影光学系１０３とウェーハ１１０との間に媒質液１０９を充填する液体供給装置１０５と、を備える。 - 特許庁

To provide a mask, which is capable of making the optimal exposures of patterns coincide with each other, a line width change in the patterns uniform to exposure, and a range of exposure common to the patterns wide, an exposure method by the use of the same, an aligner, and a method of manufacturing device.例文帳に追加

パターン間の最適露光量を一致させ、かつパターン間の露光量に対する線幅変化を揃えることができ、パターンに共通な露光量範囲を広く取ることが可能となる多重露光を行うためのマスク、該マスクによる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

When a group of parameters of a series of reproduction sources for controlling exposure treatment in a first projection aligner, it is judged whether parameters are compatible between first and second projection aligners, and only a compatible parameter is acquired from a group of parameters of the reproduction sources.例文帳に追加

第１露光装置における露光処理を制御するための一連の複製元のパラメータ群を第２露光装置用に複製する場合に、第１および第２露光装置間で各パラメータに互換性があるか否かを判断し、互換性あるパラメータのみを複製元のパラメータ群から取得する。 - 特許庁

In addition, an aligner provided with the means for inputting an alignment mark is provided with a means for inputting plurally the alignment mark image, and a buffer 12 which adds the plurally inputted alignment mark image and prepares an added alignment mark image.例文帳に追加

また、位置合わせ用マーク入力手段を備える露光装置は、前記位置合わせ用マーク像を複数回入力する手段と、該複数回入力された位置合わせ用マーク像を加算して、加算された位置合わせ用マーク像を作成する手段であるバッファ１２とを有する。 - 特許庁

A prescribed pattern is transferred onto a semiconductor wafer by performing exposure by using a photomask 2 on which the most proximate light transmitting areas PA1 and PA2 in a pattern for forming a mask pattern are laid out in a direction in which the areas PA1 and PA2 are hardly affected by the aberration of the optical system of an aligner.例文帳に追加

マスクパターンを形成するパターンであって最近接する光透過領域ＰＡ１，ＰＡ２を、露光装置の光学系の収差の影響を受け難い方向にレイアウトしたフォトマスク２を用いて露光処理を行い、半導体ウエハ上に所定のパターンを転写した。 - 特許庁

To provide an illuminating optical device which can provide illumination conditions which are highly diverse regarding proper illumination conditions such as a secondary light source shape, light intensity and polarization state required for transferring a mask pattern with various characteristics truly when mounted on an aligner.例文帳に追加

露光装置に搭載された場合に、様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の形状や光強度や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学装置。 - 特許庁

A substrate edge aligner 1 wherein exposure is accomplished by casting light from a flash xenon lamp 541 on an edge part of a substrate W is provided with a power supply unit 600, which increases the light output of a specified wavelength suitable for exposure of a film F formed on the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗの端縁部にフラッシュキセノンランプ５４１からの光を照射して露光を行う基板端縁部露光装置において、フラッシュキセノンランプ５４１からの光のうち、基板Ｗに被着された被膜Ｆの露光に適した特定波長の光出力を高める電源ユニット６００を備えた。 - 特許庁

To provide a power supply monitor device and its control method that enable a supply destination of a power source to efficiently perform operations of the supply destination by reporting adequate information regarding the operations at the supply destination, and to provide an aligner which can efficiently perform the operations by using the power supply monitor device.例文帳に追加

電源の給電先での動作に係る適切な情報を通知して、給電先の動作を効率的に実行させることができる電源監視装置及びその制御方法、該電源監視装置を利用することで、動作を効率的に実行することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus comprising means for avoiding collision of tables even for unexpected situation such as control software error or power supply failure, on the occasion of exchanging tables in different work areas in the lithography projection aligner including a plurality of tables for placing mask or substrate.例文帳に追加

マスクまたは基板を載せるテーブルを複数有するリソグラフィ投影装置に於いて、異なる作業区域間でこれらのテーブルを交換する際に、制御ソフトウェアエラー、電源故障等の不測の事態でも、テーブル間の衝突を避けるための手段を備える装置を提供すること。 - 特許庁

To expose at a resolution required for respective layers and at a high throughput by using an inexpensive aligner when a substrate where critical layers and middle layers coexist is manufactured in a photolithography step.例文帳に追加

クリティカルレイヤーとミドルレイヤーとが混在するような基板をフォトリソグラフィー工程で製造する際に、各層にそれぞれ必要な解像度で露光を行えると共に、廉価な露光装置を用いて高いスループットで露光を行うことができる露光方法、露光システムおよびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a projection aligner for controlling the image formation characteristic variation of a projection optical system due to exposure heat within an allowable value, and for easily obtaining a pattern with high resolution without extremely deteriorating productivity, and to provide a method for manufacturing a device by using this.例文帳に追加

本発明は、露光熱による投影光学系の結像特性変動が許容値を越えないように制御し、生産性を著しく低下させることなく高解像度のパターンが容易に得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a carbon film from depositing on a reflection mask, a lighting optical system for irradiating a soft X ray to the reflection mask, or a reduction projection optical system for forming the image of the pattern of the reflection mask in a soft X-ray reduction projection aligner using the soft X ray as the light source.例文帳に追加

軟Ｘ線を露光光源として用いる軟Ｘ線縮小投影露光装置において、反射型マスク、軟Ｘ線を反射型マスクに照射させる照明光学系、又は反射型マスクのパターンを結像させる縮小投影光学系にカーボン膜が堆積しないようにする。 - 特許庁

To provide a method and a device for aligner which can expose a photosensitive substrate to patterns while easily and precisely correcting shape errors among the patterns when the photosensitive substrate is exposed to the patterns in a connection state by positioning them at patterns formed on the photosensitive substrate.例文帳に追加

感光基板に形成されているパターンに位置合わせして複数のパターンを継ぎ合わせて露光する際、各パターン間の形状誤差を容易且つ精度良く補正しつつ感光基板にパターンを露光することができる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The inspection device 48 transmits the inspected result to a controller 49 as a detection signal, and the controller 49 which receives the detection signal controls the exposure conditions of an aligner 4 based on the presence or absence of the defect, or controls inspection frequency by adjusting a frequency adjusting mechanism 50.例文帳に追加

検査装置４８は検査結果を検出信号として制御装置４９に送信し，検出信号を受信した制御装置４９は欠陥の有無に基づいて露光装置４の露光条件を制御したり，頻度調整機構５０を調整して検査頻度を制御する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer in which a device pattern can be formed with a high yield even if the shape of a wafer chuck in an aligner varies in a photolithography process, and which can be polished with a uniform polishing margin at the time of performing CMP in a device manufacturing process.例文帳に追加

デバイス製造工程において、フォトリソグラフィー工程における露光装置のウエーハチャックの形状にバラツキがあっても高い歩留りでウエーハにデバイスパターンを形成することができるとともに、ＣＭＰを行う際にウエーハを均一な研磨代で研磨することができる半導体ウエーハを提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner which can improve the positioning precision of a substrate surface by precisely detecting the tilting of a substrate without making an optical system complex, even when a step is formed on the substrate surface and then precisely projects a fine pattern for exposure.例文帳に追加

光学系を複雑化することなく基板表面に段差が形成されていても基板の傾きを精度良く検出して基板表面の位置決め精度の向上を図り、その結果、微細なパターンの投影露光を精度良く行うことのできる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

Further, when the stage is moved from the exposure position to the exchanging position for exchanging the reticle, the moving distance in the scanning direction is shortened, regardless of the number of the reticles which can be placed on the stage in the scanning direction, so that enlargement of the aligner is also prevented from this respect.例文帳に追加

また、レチクル交換のために、ステージを露光位置から交換位置に移動させる際には、ステージ上に走査方向に沿って載置可能なレチクルの枚数にかかわらず、その走査方向の移動距離を短くすることができるので、この点からも装置の大型化は抑制される。 - 特許庁

A substrate aligner comprises a light source 20 for applying irradiation light; an exposure mask 15 arranged at the lower portion of the light source 20; and a pair of stages 10 that is provided in parallel at the lower portion of the exposure mask 15, and can travel in the horizontal direction to the exposure mask 15.例文帳に追加

本発明の基板露光装置は、照射光を照射する光源２０と、光源２０の下方に配置された露光マスク１５と、露光マスク１５の下方に並列に設けられ、露光マスク１５に対して水平方向に移動可能な一対のステージ１０とを備えている。 - 特許庁

To provide an absolute wavelength stabilizing method of a laser beam which corrects drift of wavelength generated during periodical calibration of wavelength on the basis of another wavelength reference like an iron lamp and can always supply a laser beam of stabilized wavelength, a stabilizer and an aligner having the stabilizer.例文帳に追加

定期的に鉄ランプなどの別の波長基準をもとに波長較正する間に起こる波長ドリフトを補正し、常に、安定した波長のレーザ光を供給することができるレーザ光の絶対波長安定化方法、安定化装置およびその安定化装置を持つ露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of exposing a side surface of a sample to be exposed with high productivity, applicable to mass production at low cost, and capable of forming a pattern on the side surface of the sample to be exposed with high angular accuracy.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面を高い生産性にて露光でき、安価に量産に適用でき、かつ、被露光試料の側表面に高い角度精度でパターンを形成できる投影露光装置を提供できるようにすることである。 - 特許庁

The aligner has the projection optical system which projects a pattern formed on a mask on a workpiece and has a ≥0.7 numerical aperture on the side of the workpiece and a shading plate which shades an area outside an area where the pattern is projected on the workpiece during the projection.例文帳に追加

マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する該被処理体側の開口数が０．７以上である投影光学系と、前期投影時に前記被処理体上の前記パターンが投影される領域の外部の領域を遮蔽する遮蔽板とを有する露光装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture an aligner, having a projection system regulated to a high focusing performance through satisfactorily correcting the deterioration of optical characteristics of the system by attaching an optical correction plate, even by attaching the plate for correcting the remnant aberration of the system into a projection optical path.例文帳に追加

投影系の残存収差を補正する光学補正板を投影光路中に付設しても、この光学補正板の付設による投影系の光学特性の悪化を良好に補正して、極めて高い結像性能に調整された投影系を備えた露光装置を製造する。 - 特許庁

To provide an aligner for ensuring accurate focusing operation of a multi-point AF system, and for operation highly accurate exposure, even when a position at which the strictest focusing is required in the exposure visual field of a projection optical system is separated from the measuring point of the multi-point AF system.例文帳に追加

投影光学系の露光視野内において最も厳密な合焦を必要とする位置と多点ＡＦ系の計測点とが離間している場合にも、精確な多点ＡＦ系の合焦動作を確保でき、高精度の露光が可能な露光装置及びその焦点検出方法を提供する。 - 特許庁