「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an aligner being used in a lithography process for a compound semiconductor wafer in which the compound semiconductor wafer is not cracked easily even upon contact with a mask.例文帳に追加

化合物半導体ウェーハに対するリソグラフィ工程において使用される露光装置であって、化合物半導体ウェーハとマスクとが接触してもウェーハの割れが生じにくい露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which is capable of carrying out an exposure process with high accuracy at all times when a substrate as an object of exposure or a photomask varies in size each time exposure is performed.例文帳に追加

被露光基板の大きさ或いはフォトマスクの大きさが露光のたびに変化するような場合も容易に補正し、常に高精度な露光を行なうことが可能な露光装置を提供すること。 - 特許庁

The aligner EX is provided with the illuminator S, which projects an exposure light EL to a reticle R, and the illuminator S is provided with a filter F for correcting the illuminance on the reticle R.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、レチクルＲに露光光ＥＬを照明する照明装置Ｓを備えており、照明装置ＳはレチクルＲにおける照度を補正するためのフィルタＦを備えている。 - 特許庁

To provide an aligner for forming a microstructural pattern with high precision by controlling dispersion in pattern density-dependent line widths in a chip, and to provide a method for manufacturing semiconductor devices.例文帳に追加

１チップ内でのパターンの疎密依存性に起因する線幅のばらつきを抑制し、微細なパターンを高精度に形成することが可能な露光装置および半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

The alignment mark being used for optical alignment in a charged particle beam aligner is formed of a level-difference pattern divided into a plurality of level-difference patterns.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。 - 特許庁

To provide an aligner capable of enhancing productivity such as the yield in manufacture of device or the reliability of a device by protecting a mirror constituting an illumination system and a projection system against contamination.例文帳に追加

照明系・投影系を構成するミラーをコンタミネーションによる汚染から保護し、デバイス製造の歩留まり・デバイスの信頼性といった生産性の向上を図ることができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

In a scanning aligner, the moving zone of the stage during the scanning exposure of each exposure region on a wafer is composed of an acceleration zone (A, B, C), a constant speed zone (D), and a deceleration zone (E, F, G).例文帳に追加

走査露光装置において、ウエハ上の各露光領域の走査露光におけるステージの移動区間は、加速区間（Ａ，Ｂ，Ｃ）、等速区間（Ｄ）及び減速区間（Ｅ，Ｆ，Ｇ）で構成される。 - 特許庁

To provide an X-ray mask enabling transfer of a high speed and fine pattern, and to provide an X-ray aligner, an X-ray exposure method and a semiconductor device manufactured by the X-ray exposure method.例文帳に追加

高速かつ微細なパタ−ンの転写を可能とするＸ線マスク、Ｘ線露光装置、Ｘ線露光方法、およびこのＸ線露光方法で製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern transferring apparatus which reducing transfer of poor quality by preventing air from staying between a mold and a resin in their adhesion process, and also to provide an aligner and a pattern transfer method.例文帳に追加

モールドと樹脂との密着工程で両者間に空気が残留するのを防止して不良転写を低減することができるパターン転写装置、露光装置及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

The aligner is equipped with mask holder 5, which mounts the mask M, and the mask M has a pellicle frame 3 which mounts a pellicle 2 on the mask M, and the pellicle frame 3 is equipped with a support part 4 supporting the mask M.例文帳に追加

露光装置は、マスクＭを載置するマスクホルダ５を備えており、マスクＭはペリクル２をマスクＭに装着するペリクル枠３を有し、ペリクル枠３には、マスクＭを支持する支持部４を備えている。 - 特許庁

To provide a transfer-type substrate stage of an aligner which is capable of transferring a tape substrate as an object of exposure and of arranging tape substrates of several sizes at an accurate position before an exposure operation is carried out.例文帳に追加

露光作業の対象物であるテープ基板を移送し、さまざまな大きさのテープ基板を露光作業前に正確な位置に配置させるようにする露光装置の移送式基板ステージを提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner, an exposure method, and a device- manufacturing method for correcting a projection optical system and maintaining exposure performance, even if the projection optical system fluctuates.例文帳に追加

投影光学系に変動が生じた場合にも、それを補正して、露光性能を維持することのできる露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To improve performance such as an exposure accuracy, throughput, etc. by correcting a deviation of at least one of the position and the shape of a mirror in an aligner for transferring a pattern to a substrate by a mirror optical system.例文帳に追加

ミラー光学系により基板にパターンを転写する露光装置において、ミラーの位置及び形状の少なくとも一方のずれを補正し、これにより露光精度及びスループット等の性能を改善する。 - 特許庁

To provide an illuminator suitable for manufacturing a semiconductor device which can illuminate the surface being irradiated uniformly while utilizing an illumination luminous flux effectively and an projection aligner using the same.例文帳に追加

被照射面を照明光束の有効利用を図りつつ、均一に照明することができ、半導体デバイスの製造に好適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 - 特許庁

The aligner comprises an optical system for projecting a pattern onto a substrate P, and detectors 11, 12 for detecting the positional information of the substrate P with respect to the focus position of the projection optical system from detection light.例文帳に追加

パターンを基板Ｐに投影する投影光学系と、投影光学系の結像位置に対する基板Ｐの位置情報を検出光により検出する位置検出装置１１、１２とを備える。 - 特許庁

A first exposure is made with an optical aligner using an L/S pattern, and a second exposure is made using the same L/S pattern but 90° tilted to expose a square lattice pattern 9 on a photoresist film.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

To provide an aligner for enhancing an excellent optical performance by preventing a chemical substance scattered from a motor from adhering to the surface of an optical element placed in an optical path of an optical system.例文帳に追加

光学系の光路内に配置された光学素子の表面にモーターから飛散した化学物質が付着することを防止して優れた光学性能を発揮する露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner, where even a complicated lithographic pattern in which a dense pattern and a coarse pattern are mixedly present in the same shot can be controlled accurately in dimensions.例文帳に追加

密パターンと疎パターンが同一ショット内に存在するような複雑なリソグラフィパターンに対しても高精度な寸法制御を得ることができる露光方法および露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner that carries out high-precision exposure by confirming in advance whether exposure is performed at an intended exposure position with an intended exposure amount and so on without actually performing exposure and development.例文帳に追加

実際に露光、現像を行わなくても、露光位置、露光量などが意図したとおりに行われるか否かを事前確認することができ、高精度な露光が可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

A light source control section 15a of the proximity scan aligner 1 includes a correction function 15b for correcting illuminance signals from each illuminometer 50 according to reference illuminance detected by a reference illuminometer 60.例文帳に追加

近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する補正機能１５ｂを有する。 - 特許庁

The liquid crystal aligner contains one kind of polymer, selected from a group of a polyamic acid and a polyimide, and having at least two diamine compounds with respectively predetermined structures as a diamine component.例文帳に追加

液晶配向剤は、ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択され、ジアミン成分として少なくとも２種の特定構造ジアミン化合物をともに有する１種の重合体を含有する。 - 特許庁

To transfer a circuit pattern having a size finer than a half of a wavelength of an exposure beam on a semiconductor wafer plane with excellent accuracy by means of a mask whereupon an integrated circuit pattern is formed and a reduction projection aligner.例文帳に追加

集積回路パターンを形成したマスクと縮小投影露光装置により、露光光の波長の半分より微細な寸法の回路パターンを精度よく半導体ウエハ面に転写する。 - 特許庁

To provide an electron beam deflector and an electron beam aligner in which crosstalk can be reduced among a plurality of deflectors for deflecting a plurality of electron beams respectively and a wafer can be exposed with a pattern accurately.例文帳に追加

複数の電子ビームをそれぞれ偏向する複数の偏向器間のクロストークを低減し、ウェハにパターンを精度よく露光することができる電子ビーム偏向装置及び電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

Thus, it becomes unnecessary to remove the inkjet head unit from the gantry, it becomes unnecessary for using an exclusive positioning device (aligner) and the positions of the respective nozzles of the inkjet head are adjusted.例文帳に追加

これによって、インクジェットヘッドユニットをガンドリから取り外さなくても、また、専用の位置決め装置（アライナ）を用いなくてもよくなり、インクジェットヘッドの各ノズルの位置調整を行うことができるようになる。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner and an electron beam deflector in which a wafer can be irradiated with a plurality of electron beams accurately by shielding electric fields generated among a plurality of deflectors.例文帳に追加

複数の偏向器の間に生成される電界を遮蔽することにより、複数の電子ビームを精度よくウェハに照射することができる電子ビーム露光装置及び電子ビーム偏向装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner, together with a manufacturing method of a semiconductor element using it, which manufactures a highly integrated semiconductor element where relative alignment between a mask and a wafer is performed precisely.例文帳に追加

マスクとウエハとの相対的位置決めを高精度に行うことのできる高集積の半導体素子を製造することができる露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

To obtain a scanning aligner in which unevenness of illuminance is measured with high accuracy by lessening sensitivity variation incident to temperature variation of a photoelectric sensor for measurement (uneven illuminance sensor) mounted on a wafer stage.例文帳に追加

走査型露光装置において、ウエハステージ上に設置された計測用光電センサ（照度むらセンサ）の温度変化に伴う感度変化を軽減化させて、高精度での照度むら計測を行う。 - 特許庁

To provide a reticle, an aligner and an exposure method using the same which suppresses the distortion by employing a substrate having a low linear expansion coefficient, even using a multilayer film having internal stresses.例文帳に追加

線膨張係数の小さい基板を用いることにより内部応力を有する多層膜を用いても歪みを抑制できるレチクル、それを用いた露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The projection aligner includes an illumination lighting system ILS for illuminating the illumination light from an exposure light source 1 to a reticule R, and a projection light system PL for projecting the image of the pattern of the reticule R onto a wafer W.例文帳に追加

露光光源１からの照明光をレチクルＲに照射する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲのパターンの像をウエハＷ上に投影する投影光学系ＰＬとを有する。 - 特許庁

In the aligner, the center of parallel plates used for seal glasses is displaced from the center of the other optical element i.e. the center of a lighting area, as a feature of the invention.例文帳に追加

本発明に係る露光装置では、シールガラスに用いられる平行平板の中心を他の光学素子の中心、つまり、照明範囲の中心から偏心させていることを特徴としている。 - 特許庁

In an aligner using this sensor control device, integrated exposure is controlled, and the backward voltage is controlled dynamically, so that a pattern image having high resolution can be obtained over a wide area.例文帳に追加

また、本センサ制御装置を用いた露光装置は、積算露光量を制御すると共に、前記逆電圧をダイナミックに制御することにより、高解像度のパターン像が広い面積にわたり得られる。 - 特許庁

To provide an aligner capable of correctly exposing a pattern, which is formed on a mask on a substrate, even when the attitude of an optical projection system is changed when the optical projection system is moved.例文帳に追加

投影光学系１を移動する際に投影光学系１の姿勢が変化してもマスク９に形成されたパターンを正しく基板８上に露光することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a holding apparatus, an aligner, and a device manufacturing method with which desired optical performance is obtained by reducing aberration due to deformation and dislocation of an optical member which cause degradation of imaging performance.例文帳に追加

結像性能の劣化となる光学部材の変形及び位置ずれによる収差を低減することで所望の光学性能をもたらす保持装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion aligner capable of reducing the precision deterioration when detecting a reference mark of a movable stage due to residues of impurities incorporated in immersion liquid itself, thereby reducing the deterioration of aligning precision.例文帳に追加

液浸液自体に含まれる不純物の残留物による可動ステージの基準マークを検出する際の精度劣化を低減し、位置合わせ精度の劣化を低減する液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner and the like, in which improvement is made, so as to prevent precision deterioration of meters attached on a bulkhead by restraining deformation of the chamber bulkhead, when the pressure in a chamber is reduced and the atmospheric pressure is changed.例文帳に追加

チャンバー内減圧時や大気圧変動時におけるチャンバー隔壁の変形を抑制し、該隔壁に取り付けた計器の精度低下を防止できるよう改良を加えた露光装置等を提供する。 - 特許庁

This aligner is provided with a light intensity uniformizing part 14 to uniformize irradiation light so as to obtain the light of nearly uniform intensity on an entire exposure surface, and the light intensity uniformizing part 14 is freely adjustable in irradiation range.例文帳に追加

照射する光を、露光面全面に、ほぼ一様な強度の光にする光強度一様化部を有する露光機であって、光強度一様化部１４は、その照射範囲を調整自在である。 - 特許庁

To provide a photomask blank in which peeling in a rim portion of a light-shielding film is prevented and generation of particles caused by peeling of a light-shielding film can be suppressed during handled for conveyance or installation in an aligner.例文帳に追加

搬送やアライナへの設置等の取扱いにおいて、遮光膜周縁部分の剥離が防止され、遮光膜の剥離に起因するパーティクルの発生を抑止することができるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

The aligner EX is provided with an optical device LS1 that is directed upwardly and has a concave surface 2 from which the exposure light EL is irradiated, and a substrate support member 4 that supports the substrate P above the concave surface 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、上方を向き、露光光ＥＬが射出される凹面２を有する光学素子ＬＳ１と、凹面２の上方で基板Ｐを保持する基板保持部材４とを備えている。 - 特許庁

To enable to downsize a load-lock chamber for carrying boards in and out from a projection aligner using ultraviolet radiation such as fluorine excimer laser as a light source and to enable to serialize operations.例文帳に追加

フッ素エキシマレーザなどの紫外光を光源とする投影露光装置において、装置内へ基板を搬入・搬出するためのロードロックチャンバを小型化できるとともに、連続化を可能とする。 - 特許庁

The apparatus for wafer backside inspection comprises: a wafer loading cassette where a plurality of wafers are loaded; a wafer transfer arm located near the wafer loading cassette for transferring the wafer; a wafer flip/aligner provided near the wafer transfer arm for flipping the wafer; and a wafer inspecting unit disposed adjacently to the wafer flip/aligner and near the wafer transfer arm for inspecting the backside of the wafer.例文帳に追加

本発明は、複数のウェーハが積載されたウェーハ積載カセットと、ウェーハ積載カセットに隣接して設けられ、ウェーハを移送するウェーハ移送アームと、ウェーハ移送アームに隣接して設けられ、ウェーハを反転するウェーハ反転／整列部と、ウェーハ反転／整列部に隣り合って設けられるものの、ウェーハ移送アームに隣接して設けられ、ウェーハの裏面を検査するウェーハ検査部と、を含むウェーハ裏面検査装置を提供する。 - 特許庁

In the aligner with the variable-pattern forming devices 10a to 10e forming transfer patterns and projection optical systems PL1 to PL5 projecting the images of the transfer patterns formed by the forming devices on a photosensitive substrate, the aligner has a reference-mark display means for displaying reference marks in the forming devices and a measuring means for measuring the positions of the reference marks.例文帳に追加

転写パターンを生成する可変パターン生成装置１０ａ〜１０ｅと、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５とを備える露光装置において、前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備える。 - 特許庁

To provide a vacuum evaporation system which can stabilize film-forming speed and thin film characteristic, and to provide an optical element film-formed by using the vacuum evaporation system, an optical-system, a projection aligner, and a method for producing a device.例文帳に追加

成膜速度や薄膜特性を安定させることが可能となる真空蒸着装置、および該真空蒸着装置を用いて成膜した光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide illumination optical equipment which can ensure illumination uniformity while restraining the loss of a light value superiorly, an aligner which is provided with the illumination optical equipment, and an exposure method using the illumination optical equipment.例文帳に追加

光量損失を良好に抑えつつ照明均一性を確保可能な照明光学装置，該照明光学装置を備えた露光装置および該照明光学装置を用いた露光方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern exposing method and an aligner device capable of exposing a fine pattern using a mask original plate on which a relatively large pattern is formed in a reduced projection exposing method utilizing holography.例文帳に追加

ホログラフィを利用した縮小投影露光方法において、比較的大きなパターンが形成されたマスク原盤を用いて微細パターンを露光することのできるパターン露光方法および露光装置を提供する。 - 特許庁

This aligner is constituted in such a manner that plural exposure units for exposing identification codes are respectively movably disposed on the substrate which is coated with photosensitive material and the light source of the exposure unit can be shared.例文帳に追加

感光材が塗布された基板上に識別コードを露光するための複数の露光ユニットを夫々移動可能に配設せしめると共に、前記露光ユニットの光源を共有できる構成にせしめたことを特徴とする。 - 特許庁