「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an aligner in which unevenness of illuminance is measured with high accuracy by lessening sensitivity variation incident to the temperature variation of a photoelectric sensor (uneven illuminance sensor) mounted on a wafer stage.例文帳に追加

露光装置において、ウエハステージ上に設置された計測用光電センサ（照度むらセンサ）の温度変化に伴う感度変化を軽減化させて、高精度での照度むら計測を行う。 - 特許庁

A projection aligner 10 is provided with an atomic force microscope(AFM) for measuring a latent image formed on a wafer W with a surface-reaction type resist subjected to silylation as a photosensitive layer.例文帳に追加

露光装置１０に、表面反応型のシリル化レジストを感光層としたウエハＷに形成される潜像を計測するため、原子間力顕微鏡ＡＦＭを備える構成とした。 - 特許庁

The aligner is provided with a gas introducing system circulating gas in space sealed by the pellicle film, the photomask substrate and the frame from the opening of the frame.例文帳に追加

さらに、フォトマスク台は、フレームの開口から、ペリクル膜と、フォトマスク基板と、フレームとによって封じられる空間に、気体を流通させる、気体導入システムを備えることを特徴とする露光装置。 - 特許庁

Accuracy of patterning using an electron beam aligner is enhanced by replacing the unevenness in exposure intensity uncontrollable for a pattern to be obtained by controllable double exposure.例文帳に追加

得るべきパターン形状に対して制御不可能な露光強度むらを、制御可能な２重露光に置き換えることで、電子線露光装置を用いたパターン作製精度が向上する。 - 特許庁

To provide an aligner which prevents a volatile substance, volatilizing from a photosensitive resin layer, from depositing on a concave mirror and prevents decrease in the reflectance of the concave mirror.例文帳に追加

感光性樹脂層から揮発する揮発物質が、凹面鏡に付着することを防止して、凹面鏡の反射率の低下を防止できる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

An aligner device equipped with a substantially cylindrical housing 12 having a base and an outer ring 16 assists in positioning one or more lenses for one or more photoelectronic devices.例文帳に追加

１つ以上のレンズを１つ以上の光電子装置に位置合わせすることが、ベースと外側リング１６とを有するほぼ円筒形の筐体１２を備えたアライナー装置によって支援される。 - 特許庁

To provide an aligner which suppresses misalignment of an exposure position from a desired exposure pattern and which can form an exposure region with high accuracy according to a desired exposure pattern.例文帳に追加

所望の露光パターンに対して露光位置がずれてしまうことを抑制し、所望の露光パターンに従って高精度で露光領域を形成することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To independently adjust the positional deviation and angular deviation of a luminous flux reaching the entrance of the main body of an aligner from, for example, an excimer laser light source without using any parallel flat plate as a halving.例文帳に追加

ハービングとしての平行平面板を用いることなく、たとえばエキシマレーザ光源から露光装置本体の入口に達する光束の位置ずれと角度ずれとを独立的に調整する。 - 特許庁

To provide the method of adjusting an aligner for appropriately correcting the deterioration in the image formation performance of a projection optical system caused by the change in the physical properties of an optical member due to the application of pulse laser beams.例文帳に追加

パルスレーザー光の照射による光学部材の物性変化に起因して生じる投影光学系の結像性能の悪化を良好に補正する露光装置の調整方法。 - 特許庁

To obtain a mask fixing tool for aligner that a member to be exposed and a mask can be closely brought into contact with each other by a pressing force being uniform as a whole without partially concentrating stress.例文帳に追加

被露光部材とマスクとを全体的に均一な押し付け力で、かつ、部分的な応力集中を伴うことなく密着可能な露光装置のマスク固定具を提案すること。 - 特許庁

METHOD FOR WASHING OPTICAL ELEMENT MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL ELEMENT WITH THE OPTICAL ELEMENT MATERIAL, OPTICAL ELEMENT, OPTICAL SYSTEM HAVING THE OPTICAL ELEMENT, OPTICAL INSTRUMENT, ALIGNER, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE例文帳に追加

光学素子材料の洗浄方法、及び該光学素子材料による光学素子の製造方法、光学素子、該光学素子を有する光学系、光学機器、露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁

To provide an aligner, an exposure control method, and a semiconductor device, which set an appropriate exposure condition for a high dimension accuracy at exposure, while a high production efficiency is maintained.例文帳に追加

生産効率を高く維持し、かつ露光時に高い寸法精度が得られるよう適切な露光条件を設定できる露光装置及び露光制御方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

In this projection aligner which includes optical systems 1 and 2 for illuminating a mask 3, having a prescribed pattern and an optical system 8 which has a prescribed numerical aperture for projecting the image of the pattern on a substrate 9, the aligner has units PC and AS for causing the numerical aperture to vary with the pattern image projected on the substrate.例文帳に追加

所定のパターンを有するマスク３を照明するための照明光学系１、２と、所定の開口数を有し該マスク上のパターンの像を基板９上に投影する投影光学系８とを有する投影露光装置において、前記パターン像を前記基板に露光している状態において前記開口数を変化させる開口数可変部ＰＣ，ＡＳを有する。 - 特許庁

Also, in the aligner provided with the substrate to be exposed storing means which temporarily stores the substrate to be exposed, and also provided with the substrate feeding means 13, 14, 15 and 20, which feed the substrate to be exposed carried into the aligner, the temporarily stored substrate to be exposed, having the longer storage time, is fed to the substrate stage sequentially.例文帳に追加

また、被露光基板を一時保管する基板保管手段１２、１６と、装置内に搬入された被露光基板を基板保管手段に一時保管させ、そして基板ステージ６上に供給する基板供給手段１３、１４、１５、２０とを備えた露光装置において、一時保管させている被露光基板のうち保管時間が長いものから順に基板ステージ上に供給する。 - 特許庁

To provide a stage device capable of preventing bad affection affected mutually in a constitution equipped with a plurality of stages, an aligner and a method capable of transferring the pattern of a mask onto a substrate disposed on the stage device without inviting the deterioration of the accuracy of exposure, and to provide a device manufacturing method for manufacturing a device by employing the aligner and its method.例文帳に追加

複数のステージを備える構成において互いに及ぼしあう悪影響を防止することができるステージ装置、当該ステージ装置上に載置された基板上にマスクのパターンを露光精度の悪化を招かずに転写することができる露光装置及び方法、並びに当該露光装置及び方法を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

In one word alignment process, a source language input sentence 350 and an example 360 under consideration are input to a first alignment component which operates as a bilingual dictionary aligner 362.例文帳に追加

単語対応付けの一プロセスにおいて、元の言語入力文３５０と検討中の例３６０とが、二言語辞書対応付け器３６２として動作する第１の対応付けコンポーネントへの入力である。 - 特許庁

To provide a stage device and an aligner for holding a mask without the occurrence of damage generated by impact when a clamp for holding the mask with pressure holds the mask with pressure and when the clamp comes into contact with the mask.例文帳に追加

マスクを押圧保持するクランプがマスクを押圧保持した際や、クランプがマスクに当接した際の衝撃によるキズを生じさせることなくマスクを保持可能なステージ装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure method for preventing productivity from decreasing by removing bubbles existing in liquid used as an immersion liquid and achieving improved image forming performance, and to provide a method for manufacturing a device.例文帳に追加

液浸液として用いる液体中に存在する気泡を除去し、優れた結像性能を実現して、生産性の低下を防止する露光装置及び方法、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner and a method for EUV exposure both of which can be put to practical use adequately even when a low-output EUV light source is used by improving the effective sensitivity of a resist applied to a wafer.例文帳に追加

ウェハに塗布されているレジストの実効的な感度を向上させることにより、低い出力のＥＵＶ光源を使用しても十分に実用化できるＥＵＶ露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and structure for protecting a semiconductor element which is formed on a substrate from static electricity, relating to an aligner for exposing an insulating substrate with a pattern, and to provide its method and substrate processing equipment.例文帳に追加

絶縁基板にパターンを露光する露光装置およびその方法ならびに基板処理装置において、基板に形成される半導体素子を静電気から保護する方向および構造を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner which prevents blurs from occurring on a lens, by organic gas components being produced by applying light to an organic film which is used for formation of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパタンの形成に使われる有機膜に光を照射することによって生じる有機気体成分により、投影レンズに曇りが生じることを防止した投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁

The aligner measures the surface position of a street line SL with respect to the alignment marks AM formed on the line SL by irradiating the surface of the line SL which is different from the marks AM with light ILX.例文帳に追加

ストリートラインＳＬ上に形成されたアライメントマークＡＭに対し、アライメントマークＡＭとは異なるストリートラインＳＬ上に照明光ＩＬ__Xを照射してストリートラインＳＬの表面位置を計測する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner having a function of detecting at one time the relative rotational amount of a side to be transferred and a transferring side only by detecting a mark installed in the vicinity of the axis of an optical system.例文帳に追加

光学系の軸上近くに設けられたマークを検出するだけで、一度に被転写側と転写側の相対回転量を検出する機能を有する荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stage device accelerating an aligner and improving transfer accuracy by constructing a surface plate to increase surface accuracy of a hydrostatic bearing means scanning surface plate guide surface and to further reduce eddy current.例文帳に追加

静圧軸受手段が走査する定盤案内面の面精度を高め、渦電流をさらに低減する定盤の構成により、露光装置を高速化し、転写精度を向上するステージ装置を提供する。 - 特許庁

The aligner carrying out an exposure process by projecting a prescribed pattern of light onto a wafer is equipped with a stage 2 on which the wafer is placed and a light irradiating unit 6.例文帳に追加

ウェーハに所定のパターンで光を照射して露光を行なう露光装置は、ウェーハを載置するためのステージ２と、ステージ２上に載置されたウェーハに対して光を照射する光照射部６とを有する。 - 特許庁

To provide an exposure method which performs exposure transfer with high position precision, by reducing influence of relative vibration of a wafer stage and a tube, in an aligner having a light source which generates light in pulses.例文帳に追加

パルス状に発光する光源を有する露光装置において、ウエハステージと鏡筒との相対振動の影響を小さくし、位置精度良く露光転写を行う露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which high integration can be realized without sacrifice of electrical characteristics, a fabrication method of semiconductor device, a resist pattern forming method and an aligner being employed therein.例文帳に追加

電気的特性を劣化させることなく、高集積化を図ることが可能な半導体装置、半導体装置の製造方法およびそれに用いるレジストパターン形成方法と露光装置を提供する。 - 特許庁

To improve on the throughput of an aligner without reducing accuracy in positioning, in compliance with correcting parameters, the original plate pattern relative to each of a plurality of shot regions on a substrate.例文帳に追加

露光装置において、基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して、補正パラメータに基づいて原版のパターンを位置合わせする位置合わせの精度を落とすことなく、スループットを向上させる。 - 特許庁

The aligner is provided with an illumination optical system (1-7) for illuminating the reticle (R), in which a pattern to be transferred is formed, and a projection optical system (PL) for forming an image of the pattern of the reticle on a substrate (W).例文帳に追加

転写すべきパターンの形成されたレチクル（Ｒ）を照明する照明光学系（１〜７）と、レチクルのパターンの像を基板（Ｗ）上に形成する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

Preferably, the aligner has a configuration that the lens sheet as the objective body for exposure is mounted (by sucking or the like) on a transport section so as to be irradiated with light while continuously or intermittently moved.例文帳に追加

本露光装置では、被露光体であるレンズシートは、連続的もしくは間欠的に移動して照射されるように、搬送部に（吸着するなどして）搭載される構成であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a reflection optical element which can make the light whose wavelengths is shorter than 157 nm having uniform intensity distribution with excellent efficiency, a lighting optical device using the element, and projection aligner.例文帳に追加

１５７ｎｍ未満の光を効率良く均一な強度分布の光とすることができる反射型光学素子、及び該素子を用いる照明光学装置、投影露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for stably transporting each mask (substrate) of various sizes, and to provide an exposure method and an aligner employing such method and apparatus.例文帳に追加

様々な大きさを有するそれぞれのマスク（基板）を安定して搬送することができる搬送方法及び搬送装置、並びにこれを備えた露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a projection aligner for improving contrast or overlaying precision by reducing the difference in a measurement error amount of a dimensional measurement device and improving synchronization precision between a light-shielding plate, an original stage and a substrate stage.例文帳に追加

測長器の計測誤差量の差を低減し、遮光プレートと原版ステージと基板ステージの同期精度を改善させることで、コントラストやオーバーレイ精度を向上させる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming patterns to plastic substrates capable of forming free patterns with good accuracy even on the plastic substrates having an easy tendency to a dimensional change by temperature and water absorption and an aligner.例文帳に追加

温度や吸水によって寸法が変化し易いプラスチック基板に対しても精度良く自由なパターンを形成できる、プラスチック基板へのパターン形成方法、および露光装置を提供する。 - 特許庁

To realize a cable aligner easy to construct, capable of preventing mutual entanglement of cables, capable of discriminating a connector after disconnection, and capable of collectively and easily connecting and disconnecting a plurality of connectors.例文帳に追加

ケーブル同士の絡まりを防ぐことができ、接続がはずされた後のコネクタを識別可能にし、かつ、複数のコネクタの着脱を一括して容易に行うことができる、構造容易なケーブルアライナを実現する。 - 特許庁

This aligner projects and exposes the patterns formed on a first substrate onto a second substrate, by relatively moving the first substrate (8) and the second substrate (9), with respect to a projection optical system (2).例文帳に追加

投影光学系（２）に対して第１の基板（８）および第２の基板（９）を相対的に移動させて第１の基板上に形成されたパターンを第２の基板上に投影露光する露光装置。 - 特許庁

To suppress problems that in an aligner, temperature of a reticle increases by continuous irradiation with exposure light and this induces changes in the focal position and magnification and changes in imaging performance and aligning accuracy.例文帳に追加

露光装置において、露光光の連続照射によりレチクルの温度が上昇し、焦点位置、倍率などが変化して、結像性能、および重ね合わせ精度が変化する問題を抑制する。 - 特許庁

The projection aligner has a means for compensating for change in temperature due to adiabatic expansion when a reticle and a wafer are conveyed from the atmosphere in atmospheric pressure state to a vacuum region by heating the reticle and wafer.例文帳に追加

レチクル及びウエハが、大気圧状態の雰囲気から真空領域に搬送される時の断熱膨張による温度変化をレチクル及びウエハに熱を加えることにより補償する手段を具備した。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER CONTAINING ALIGNMENT MARK FOR ALIGNING WAFER ON ALIGNER, ALIGNING SYSTEM FOR GENERATING ALIGNMENT SIGNAL FROM ALIGNMENT MARK, AND METHOD OF DETERMINING WAFER ALIGNMENT例文帳に追加

露光装置にウェ—ハを整列するための整列マ—クを含む半導体ウェ—ハ、この整列マ—クから整列信号を発生する整列システム及び整列マ—クからウェ—ハの整列状態を決定する方法 - 特許庁

A known height data (first surface data) of the inspection device 10 and a second surface data obtained through exposing by coating a resist on the inspection device 10 are compared, whereby, the state of the aligner can be determined.例文帳に追加

検査デバイス１０の既知の高さデータ（第１表面データ）と検査デバイス１０にレジストを塗布して露光により得られる第２表面データを比較することにより露光装置の状態が判定できる。 - 特許庁

An aligner EX fills an optical path space of the exposing device EX with a liquid LQ, and exposes a substrate P by irradiating the substrate P with the exposure light EL through the projection optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

In this aligner, luminous flux from a light source 1 is applied to a mask 13, and the image of the pattern of the mask is successively projected and exposed in an adjacent region on the surface of a substrate 15, while mutual one part is overlapped at a joint.例文帳に追加

光源１からの光束をマスク１３に照射して基板１５の表面の隣接する領域にマスクのパターンの像を継ぎ部にて互いの一部が重複するように順次投影露光する。 - 特許庁

To propose an exposing method for a printed wiring board and an aligner therefor to obtain a printed wiring board excellent in connectability and reliability and having no positional deviation in the case of forming a conductor circuit through a via hole between layers.例文帳に追加

層間でバイアホールを介する導体回路の形成に位置ずれのない、接続性、信頼性に優れるプリント配線板を得るためのプリント配線板の露光方法とその装置を提案する。 - 特許庁

To provide an aligner capable of obtaining light beams having various imaging spot diameters with a simpler structure comparing to the conventional technology and capable of copying with both applications of a normal exposure and a high-definition exposure.例文帳に追加

従来技術に比較して簡易な構成で結像スポット径が異なる光ビームを得ることができ、通常露光及び高精細露光の両方の用途に対応できる露光装置を提供する。 - 特許庁