「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a deciding method for a reticule pattern capable of turning a pattern at the end of a chip exactly to a design value even in a charged particle ray aligner using a high accelerating voltage.例文帳に追加

高加速電圧を使用する荷電粒子線露光装置においても、チップの端のパターンを設計値どおりにすることができるレチクルパターンの決定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical system and an aligner bringing about a desired optical performance by reducing deformation of an optical member due to thermal expansion which causes degradation in image formation performance.例文帳に追加

結像性能の劣化となる光学部材の熱膨張による変形を低減することにより所望の光学性能をもたらす光学系、露光装置を提供する。 - 特許庁

A substrate holder PH is used in the aligner for exposing a substrate P, by irradiating the exposure light on the substrate P via a projection optical system PL and fluid LQ.例文帳に追加

基板ホルダＰＨは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光を照射して基板Ｐを露光する露光装置で使用される。 - 特許庁

An aligner is provided with a reflection mask 20, a first reflection mirror 30a, a second reflection mirror 30b, a third reflection mirror 30c, and a fourth reflection mirror 30d.例文帳に追加

露光装置は、反射型マスク２０と、第１の反射ミラー３０ａ、第２の反射ミラー３０ｂ、第３の反射ミラー３０ｃ及び第４の反射ミラー３０ｄとを備えている。 - 特許庁

In a lithography system, having a plurality of aligners disposed in a clean room, an information collecting means 120, which is connected to a communication means 50 to which the plurality of aligners are connected so as to collect operation information on each aligner from each aligner via the communication means 50 and stores the information, is disposed outside the clean room.例文帳に追加

クリーンルーム内に配置された複数の露光装置を有するリソグラフィシステムにおいて、その複数の露光装置が接続された通信手段５０に接続され、その通信手段５０を介してその各露光装置のそれぞれからその各露光装置の稼動情報を収集して記憶する情報収集手段１２０をクリーンルーム外に配置した。 - 特許庁

To provide a reflecting member can effectively use light and can be aligned and adjusted accurately, even when a light having a wavelength other than the wavelength of optimized reflectance is used mainly by reducing a reflection loss, a method for adjusting the member, an aligner having the reflecting member, and to provide a method for manufacturing the aligner.例文帳に追加

主として、反射損失を低減させることによって光を有効に使用することができるとともに、反射率が最適化された波長以外の波長の光を用いても高い精度で位置合わせ及び調整を行うことができる反射部材及びその調整方法、当該反射部材を備えた露光装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The first aligner carries out shift processing so as to continuously store data in the transfer source storage area on and after a starting position of the first storage area, and the second aligner carries out shift processing so as to store data in the first storage area on and after a starting position of the transfer destination storage area designated by the data transfer request.例文帳に追加

上記第１アライナは、上記一次記憶領域の先頭位置以降に転送元記憶領域のデータを連続して格納するようにシフト処理を行い、上記第２アライナは、上記データ転送要求で指定された転送先記憶領域の先頭位置以降に上記一次記憶領域のデータを格納するようにシフト処理を行う。 - 特許庁

The aligner EX includes the light source A, an aligner body B for exposing a photosensitive substrate P with illuminating light from the source A, a controller CONT for controlling the exposure operation of the body B, and a communication apparatus 50 for communicating with the controller CONT for information relating to the operating state of the source A.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源装置Ａと、光源装置Ａからの照明光により感光基板Ｐを露光処理する露光装置本体Ｂと、露光装置本体Ｂの露光動作を制御する制御装置ＣＯＮＴと、光源装置Ａの動作状況に関する情報を制御装置ＣＯＮＴに通信する通信装置５０とを備えている。 - 特許庁

The measuring method for the valid optical path comprises: (a) a process of using the mask and projecting the light passed through a projection lens on a photosensitive element in a defocus state in the aligner; and (b) a process of detecting at least one of the pupil shape of the aligner and a diffracted light distribution on a pupil surface from an image projected on the photosensitive element.例文帳に追加

有効光路の測定方法は、（ａ）露光装置において、上述のマスクを用い、投影レンズを通った後の光をデフォーカスの状態で感光素子上に投影する工程と、（ｂ）前記感光素子上に投影された像から露光装置の瞳形状、瞳面上の回折光分布の少なくとも一方を検出する工程と、を含む。 - 特許庁

To fully provide a face position detector for detecting the positional information of a substrate in the optical axial direction of a projecting optical system, regardless of the surface conditions of the substrate, and provide an aligner having the face position detector and its manufacturing method, and a manufacturing method of a microdevice using the aligner.例文帳に追加

基板の表面状態に拘わらず、投影光学系の光軸方向における基板の位置情報を良好に検出することができる面位置検出装置及びその製造方法を提供し、当該面位置検出装置を備える露光装置及びその製造方法を提供し、更に当該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vertically aligning-type liquid crystal aligner having excellent vertical alignability, giving short erasing time of an afterimage of a liquid crystal display element, and preferably used for a liquid crystal display element of EVA system or of photo-aligning system photo-aligning by polarized UV-ray irradiation, and a liquid crystal display element using the aligner.例文帳に追加

垂直配向性に優れ、液晶表示素子の残像消去時間が短い、ＥＶＡ方式の液晶表示素子や、偏光紫外線照射により光配向させた光配向方式の液晶表示素子に好適に用いられる垂直配向型液晶配向剤およびそれを用いた液晶表示素子を提供すること。 - 特許庁

A substrate W, subjected to exposure in the aligner 14, is carried by the carrying mechanism IFR for interface to the drying section 95.例文帳に追加

露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５の乾燥処理ユニットに搬送される。 - 特許庁

To provide a projection aligner of a structure wherein, when the result of the evalution of a leading wafer is fed back to perform a calibration of the main conditions of exposure, the convertion of input data using an operator is unnecessary.例文帳に追加

先行ウェハの評価結果をフィードバックして本露光条件の較正を行う際に、オペレータによる入力データの変換が不要な投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner capable of suppressing the deterioration of a pattern image which may be caused by bubbles in liquid in the case of performing exposure treatment by filling the liquid between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を満たして露光処理する際、液体中の気泡に起因するパターン像の劣化を抑えることができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner where luminous flux emitted from an optical fiber array can be focused so that a diameter becomes a spot of several μm to sub-μm order on a photosensitive material.例文帳に追加

光ファイバアレイから出射された光束を、感光性材料上に径が数μｍ〜サブμｍオーダーのスポットとなるように集光することが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner and a maintenance method for preventing defect of a pattern and lowering of throughput by realizing an improvement of maintenance properties and easiness of exchange of a pattern generation device.例文帳に追加

パターン生成装置のメンテナンス性の向上及び交換の容易性を実現し、パターンの欠陥及びスループットの低下を防止することができる露光装置及びメンテナンス方法を提供する。 - 特許庁

In the aligner employing a plasma emission light source, a shutter 101 is provided between the plasma emission light source 705 and an optical element (illumination system first mirror 706) in the first stage of an illumination system.例文帳に追加

プラズマ発光光源を用いた露光装置において、プラズマ発光光源７０５と照明系の初段の光学素子（照明系第１ミラー７０６）との間にシャッター１０１を設ける。 - 特許庁

To provide an optical device which can maintain the optimum relative positions of two or more optical elements in a lens barrel, and a projection aligner with the device.例文帳に追加

鏡筒内に保持した複数の光学素子の相対的位置関係を最適な光学性能に維持することができる光学装置及びそれを有する投影露光装置を得ること。 - 特許庁

An aligner is provided, where a transfer pattern of a mask (R) is exposed duplicatively on a photosensitized board (P) so that a pattern larger than a transfer pattern on the mask is exposed on the photosensitized board.例文帳に追加

感光性基板（Ｐ）上にマスク（Ｒ）の転写用パターンを重複露光することにより、マスク上の転写用パターンよりも大きなパターンを感光性基板に露光する露光装置。 - 特許庁

To efficiently remove fine particles adhered to the sidewall of the aperture of a reticle used on an aligner which uses a charged particle wire.例文帳に追加

荷電粒子線を用いた露光装置に使用されるレチクルの開口中の側壁に付着した微粒子を効果的に除去することができる微小粒子除去装置を提供する。 - 特許庁

The movable members such as the arm 53, the arm 59, and the member 63 or the like are made of nonmagnetic material to suppress occurrence of variations in magnetic field even for the movement of the movable member of the manipulator at the operation of the aligner.例文帳に追加

第１アーム、第２アーム５９、保持部材６３等の可動部材は非磁性材料からなり、露光操作時にマニュピレータの可動部材が動いても磁場変動が生じにくくなる。 - 特許庁

To provide a charged particle ray aligner which can reduce the displacement of a charged particle ray flux (beam) or deviation in focus, etc., due to temperature change of a thermal medium and perform more stable exposure.例文帳に追加

熱媒体の温度変動による荷電粒子線束（ビーム）の位置ずれやフォーカスずれ等を低減でき、より安定した露光を行うことができる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray projection aligner which can compensate for the magnification of projection and enables a desired fine pattern to be laid, with high accuracy on the circuit pattern on a wafer, prior to exposure.例文帳に追加

投影倍率の補正ができ、所望の微細パターンをウエハ上の回路パターンに高精度に重ねて露光することができるＸ線投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an aligner capable of highly accurately evaluating the displacement of the center axis of the reflected light of an uneven pattern on a transfer substrate without lowering the processing efficiency of the entire microfabrication processing.例文帳に追加

微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、転写基板の凹凸パターンの反射光の中心軸のずれ量を高精度に評価可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner, in which different exposure regions having a high density can be formed and which has a proper constitutiuon for reducing the size of the whole device.例文帳に追加

本発明は高密度で異なる露光領域を形成することができ、かつ装置全体のサイズを小さくするために好適な構成を有する露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a projection aligner, etc., which can illuminate the desired region on a reticle plate accurately even if a visual field stopping projective optical system has an aberration or an error in manufacture.例文帳に追加

視野絞り投影光学系が収差、製造誤差を有していても、レチクル原板上の所望の領域を正確に照明することができる投影露光装置等を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask for use in an electron beam aligner correcting a variation in the line width of a pattern due to the deflection of the mask when exposure is performed using an electron beam which cannot be made parallel completely.例文帳に追加

完全に平行にはできない電子ビームにより露光を行う際に、マスクたわみによるパターン線幅のばらつきを修正する電子ビーム露光装置に使用するマスクを提供する。 - 特許庁

Also, by using a low-acceleration voltage of 10 kV or less as an acceleration voltage, a high throughput, low-damage, and simple device configuration can be realized, thus providing a low-cost ion beam projection aligner.例文帳に追加

また加速電圧として１０ｋＶ以下の低加速電圧を用いることで、高スループット、低損傷でかつ簡単な装置構成を実現し、低コストなイオンビーム露光装置を提供できる。 - 特許庁

To provide a drive mechanism having high rigidity capable of inching regulation of a mirror or a member supporting the mirror in six axial directions in an EUV aligner, or the like.例文帳に追加

ＥＵＶ露光装置等において、ミラーを、或いはミラーを支持する支持部材を６軸方向に微動調整が可能で、高い剛性を有する駆動機構を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an (projection) aligner, an exposing method, a device manufacturing method, and a device which can obtain desired resolution when the NA of a projection optical system is made higher about 0.7.例文帳に追加

投影光学系のＮＡを約０．７以上と高くした場合に所望の解像度を得ることができる（投影）露光装置、露光方法、デバイス製造方法、並びに、デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a catadioptic projection aligner, wherein an image is hard to be rotated, even if an optical path deflection member generates tilting and thereby a resolution of quarter-micron unit can be obtained stably.例文帳に追加

光路偏向部材がチルトを生じても、像の回転が生じ難く、したがってクォーターミクロン単位の解像度を安定して得ることができる反射屈折投影露光装置を提供する。 - 特許庁

A first pre-aligner 20 is provided with a wafer supporting section 22 which rotatably supports the wafer W and a sensor 23 which detects the position of a notch formed on the outer periphery of the wafer W.例文帳に追加

第１プリアライナ２０には、ウェハＷを回転可能に支持するウェハ支持部２２と、ウェハＷの外周に形成されたノッチの位置を検出するセンサ２３が備えられている。 - 特許庁

To provide a scanning aligner and exposure method, where thermal deformation state of a mask is monitored at always, and based on the monitoring result, the imaging characteristics of a projection optical system is accurately corrected.例文帳に追加

マスクの熱変形状態を常時監視し、その監視結果に基づいて投影光学系の結像特性を正確に補正可能な走査型露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

A light source device 13 and the main body of an aligner 12 are connected with each other by means of a BMU 15 (beam matching unit) composed of an underfloor BMU 16, a light feed pipe 17 and an on-floor BMU 18.例文帳に追加

光源装置１３と露光装置本体１２とを、床下ＢＭＵ１６と送光パイプ１７と床上ＢＭＵ１８とからなるＢＭＵ１５を介して光学的に接続する。 - 特許庁

During the operation of an aligner, the position of a wafer stage WST is measured by encoder heads 64-68 and Z heads 74, 76, and the wafer stage WST is driven and controlled according to the result.例文帳に追加

露光装置の稼働中、エンコーダヘッド６４〜６８及びＺヘッド７４，７６を用いてウエハステージＷＳＴの位置を計測し、その結果に従ってウエハステージＷＳＴを駆動制御する。 - 特許庁

To give no influence of contamination of a master disk stage system to a mirror in a contraction projection optical system in an aligner using an EUV or the like as a light source in a vacuum environment.例文帳に追加

光源にＥＵＶ等を用いた真空環境下での露光装置において、原盤ステージ系の汚染の影響が、縮小投影光学系内のミラーに影響を及ぼさないようにする。 - 特許庁

The front side arm 401 of the balance arm 4 is provided with the wire aligner 41, and the rear side arm 402 of the balance arm 4 is installed with a counterbalance 42.例文帳に追加

天秤アーム４における前方側アーム部４０１には、ワイヤ整列部４１が取り付けてあり、天秤アーム４における後方側アーム部４０２には、釣合用錘４２が取り付けてある。 - 特許庁

To provide an output current-control device, where a linear amplifier and a PWM amplifier are efficiently combined, and a stage device and a projection aligner using the output current-control device.例文帳に追加

リニア増幅器とＰＷＭ増幅器を効率よく組み合わせた出力電流制御装置、この出力電流制御装置を使用したステージ装置および露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a projection optical system, capable of accurately projecting a pattern by suppressing the influence of a wavefront aberrations or particularly coma aberrations, and to provide an aligner and the exposure method.例文帳に追加

波面収差、特にコマ収差の影響を抑え、パターンを精度良く投影することができる投影光学系、露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Each washing unit for a mask carrying hand, a mask chuck, a mask and a wafer-carrying hand wafer chuck is installed in the aligner, and the removal of the foreign substances is carried out in a regular sequence regarding these washing units.例文帳に追加

露光装置内にマスク搬送ハンド、マスクチャック、マスク、ウェハ搬送ハンドウェハチャックの各洗浄ユニットを装備し、これらの洗浄ユニットについて順序立てて異物除去を実施する。 - 特許庁

A first chamber 12 for storing a substrate transfer system is put between a substrate treatment unit 200 and a second chamber 14 for storing an aligner main body including a substrate stage system.例文帳に追加

基板搬送系が収納された第１チャンバ１２が基板ステージ系を含む露光装置本体が収納された第２チャンバ１４と基板処理装置２００との間に配置されている。 - 特許庁

To provide a reticle for exposure to an electron beam and a reticle blank for exposure to an electron beam, in which the warping of the reticle is reduced together with the reduction of the distortion of the reticle in mounting of an aligner.例文帳に追加

レチクルの反りを小さくすることができ、露光装置搭載時のレチクルの歪みを低減する電子線露光用レチクル、電子線露光用レチクルブランク等を提供する。 - 特許庁

This aligner is provided with a projection optical system (PL) for forming a pattern image of a mask (M) on a photosensitive substrate (W) and a substrate stage for holding and moving the photosensitive substrate.例文帳に追加

マスク（Ｍ）のパターン像を感光性基板（Ｗ）上に形成するための投影光学系（ＰＬ）と、感光性基板を保持して移動するための基板ステージ（ＷＳＴ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

To provide an aligner which appropriately performs desired exposing processing while maintaining optical characteristic by preventing gas exerting an influence on the optical characteristic from being produced from an adhesive with which an optical element is stuck.例文帳に追加

光学素子を接着する接着剤からの光学特性に影響するガスの発生を防ぎ、光学特性を維持し所望の露光処理を適切に行う露光装置を提供する。 - 特許庁

In the exposure mask having a mask pattern to be transferred onto a substrate by means of the projection optical system of the aligner, the mask pattern includes a pattern group consisting of a main pattern and an assist pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁