「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, OPTICAL PROJECTION SYSTEM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, PROJECTION ALIGNER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, MICRO DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

波面収差測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、投影露光装置の製造方法、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、及びマイクロデバイス - 特許庁

To provide a method for stably producing a single crystal excellent in optical characteristics in a short wavelength region, and an optical component and an aligner.例文帳に追加

短波長域における光学特性の優れた単結晶を安定的に製造することが可能な単結晶製造方法及び光学部品、露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner for manufacturing a semiconductor device comprising a fine pattern with a line width 100 nm or less by using an F2 excimer laser beam as an exposure light source.例文帳に追加

Ｆ_2 エキシマレーザ光を露光光源として用いて線幅が１００ｎｍ以下の微細パターンを有する半導体装置を製造するための露光装置の提供。 - 特許庁

To provide an aligner capable of ensuring almost a proper exposure for a plurality of patterns with different pitches formed on a photosensitizer in the state of S polarization.例文帳に追加

感光剤上においてＳ偏光状態で結像するピッチの異なる複数のパターンに対してほぼ適切な露光量を確保することのできる露光装置。 - 特許庁

To stably purge the inside of an exposure light passage in a space between the projection optical system of an aligner and a wafer, and to reduce any length measurement error to be generated in a laser interferometer.例文帳に追加

露光装置の投影光学系とウエハの間の空間の露光光路内を安定してパージし、且つレーザ干渉計発生する測長誤差を低減する。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner for exposing a pattern onto a wafer with high accuracy by calculating the Abbe error of a wafer stage accurately and correcting the irradiating position of an electron beam.例文帳に追加

ウェハステージのアッベ誤差量を正確に算出し、電子ビームの照射位置を補正することにより、ウェハにパターンを精度良く露光する電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner and a charged particle beam exposure method for forming a pattern precisely when an electrification prevention film is formed on a resist.例文帳に追加

レジスト上に帯電防止膜が形成されている場合に、精度良くパターンを形成できる荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法を提供すること。 - 特許庁

Since the inside of the aligner main body 101 is filled with helium gas, the length wise measurement error in sensing the position of a wafer stage 118 by a HeNe laser 140 can be reduced.例文帳に追加

露光機本体１０１内はヘリウムガスで満たされているため、ウエハーステージ１１８の位置を検出するＨｅＮｅレーザ１４０による測長誤差を小さくできる。 - 特許庁

In the immersion aligner, thermal variation in a lens due to heat of evaporation is reduced by filling the space under the lens with high humidity gas, when a liquid membrane under the lens is removed.例文帳に追加

液浸露光装置において、レンズ下の液膜が除去されたとき、レンズ下空間を高湿度の気体で満たすことにより、レンズの気化熱による熱変動を低減する。 - 特許庁

When the wavelength of exposure light of an aligner that irradiates the photomask is represented by λ and the incident side numerical aperture of an imaging lens by NA_i, the pitch (P) is set at P<λ/NA_i.例文帳に追加

そして、このフォトマスクを照射する露光装置の露光光の波長をλ、結像系レンズの入射側開口数をＮＡ_ｉとすると、Ｐ＜λ／ＮＡ_ｉに設定する。 - 特許庁

To provide an aligner which can suppress the minimum line width of a pattern of a photosensitive material after developing to the minimum limit and which can keep the edge profile of the pattern in a preferable state.例文帳に追加

感材の現像後のパターンの最小線幅を最小限に抑えるとともにそのパターンのエッジ形状を良好に保つことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, OPTICAL ELEMENT MANUFACTURED BY THE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ALIGNER AND ABERRATION MEASURING INSTRUMENT USING THE OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

光学素子の製造方法、この製造方法により製造された光学素子、この光学素子を用いた露光装置の製造方法及び収差測定装置の製造方法 - 特許庁

To suppress the capital investment of a photolithography step by simultaneously using a reduction projection aligner and a nano imprint device to reduce the cost price of a semiconductor device.例文帳に追加

縮小投影露光装置とナノインプリント装置の混合使用によりホトリソグラフィ工程の設備投資を抑制し、半導体装置の原価の低減を図ることが課題である。 - 特許庁

When a pattern image is projected on the wafer W anew by the aligner 21, the pattern image is projected, while the distortions are corrected with correction values corresponding to the respective shots.例文帳に追加

新たに露光装置２１によりウエハＷ上にパターン像を投影露光する際は、各ショット毎に対応する補正値によりディストーションを補正しつつ露光する。 - 特許庁

The aligner comprises a light source 11, a supporting part 13 for holding an object 30 to be exposed at a specified position, and a spacer 20 for spacing apart the object 30 and the supporting part 13.例文帳に追加

光源１１と、露光対象３０を所定の位置に保持するための支持部１３と、露光対象３０及び支持部１３を離間するためのスペーサ２０とを設ける。 - 特許庁

To provide an aligner system capable of immediately exposing a substrate with a stable quantity of light at any time while reducing user's burdens, besides, with suppressed power consumption.例文帳に追加

ユーザの負担を軽減し、いつでもすぐに安定した光量の光を用いて基板の露光をすることができ、さらには消費電力を抑えた露光システムを提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner that applies highly accurate alignment to an image pickup device, for its assembling, adopting a 3-CCD system employing a small-sized solid-state image pickup element.例文帳に追加

小型の固体撮像素子を用いた三板方式（３−ＣＣＤ方式）の組立てにおいて、高精度な位置合わせをすることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stage system and an aligner in which exposure time is shortened, and exposure processing is carried out with a desired exposure accuracy, while suppressing occurrence of troubles, e.g. vibration.例文帳に追加

露光時間を短縮できるとともに、振動等の不具合の発生を抑えつつ所望の露光精度で露光処理できるステージ装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner, an exposing method, and a method of manufacturing a semiconductor device by which a man power or a mistake associated with the changing work of parameter can be reduced.例文帳に追加

パラメータの変更作業に伴う労力や間違いを軽減することができる露光装置および露光方法、ならびに半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ready-to-use aligner capable of exposing a substrate with stable quantity of light while reducing user's burden and suppressing power consumption.例文帳に追加

ユーザの負担を軽減し、消費電力を抑え、いつでもすぐに安定した光量の光を用いて基板の露光をすることができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a scanning aligner and method that can analyze a cause where exposure line width fluctuates as quickly as possible, a controlling method and device, and a device-manufacturing method.例文帳に追加

露光線幅がばらつく原因の解析をいち早く行えるようにした走査露光装置及び方法、管理装置及び方法、ならびにデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

User of a semiconductor production unit (e.g. an aligner) stores secrete information 4 for a vender in a memory 40 while encrypting using a public key 5.例文帳に追加

半導体製造装置（例えば、露光装置）のユーザは、ベンダに対して秘密にしたい機密情報４を、公開鍵５を用いて暗号化してメモリ４０に格納する。 - 特許庁

The maintenance areas of the aligner main body 12 and the laser device 14 are so arranged in a floor surface F as to overlap partially with each other to be partially used in common.例文帳に追加

また、露光装置本体１２のメンテナンスエリアとレーザ装置１４のメンテナンスエリアとの少なくとも一部同士が共通となるように両者を床面Ｆに配置した。 - 特許庁

To provide a reflective optical element for ultraviolet light satisfying an image performance in a reflective-refractive optical system, to provide an optical system provided with the reflective optical element for ultraviolet light, and to provide an optical device and an aligner having the optical system.例文帳に追加

反射屈折光学系での結像性能を満足する紫外光用反射光学素子，光学系，光学装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a charged particle beam projection aligner by which foreign particles such as fine particles can hardly be adhered or deposited onto reticles, when they are used for projection exposure, transferred or stored.例文帳に追加

投影露光に使用される際、及び運搬、保管の際に、レチクルに微粒子等の異物が付着・堆積しにくい荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin-film pattern having a fine pattern width with high accuracy without depending on the resolution limit of an aligner.例文帳に追加

露光装置の解像限界に依存せずに、微小なパターン幅を有する薄膜パターンを高精度に形成することが可能な薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of exposure and an aligner in which arbitrary high-resolution patterns are produced by double exposure which is obtained with a periodic pattern exposure and an ordinary exposure.例文帳に追加

周期パターンの露光と通常のパターン露光の２重露光によって任意形状の高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。 - 特許庁

To provide illumination optical equipment capable of avoiding collision of shape regulating members which is to be caused by relative movement of a first main body and a second main body, and an aligner.例文帳に追加

第１本体部と第２本体部との相対移動に伴う形状規定部材の衝突を回避可能な照明光学装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

The aligner 1 is provided with an optical source 2 emitting light and the optical fiber array 6 on which light emitted from the optical source 2 is made incident and which emits light to resist.例文帳に追加

露光装置１は、光を出射する光源２と、光源２から出射された光を入射し、レジストに向けて出射する光ファイバアレイ６とを備えている。 - 特許庁

To provide an aligner in which acceleration/deceleration uncontributive to exposure processing is shortened, while sustaining a desired exposure accuracy when a mask and a substrate are exposed while being scanned.例文帳に追加

マスクと基板とを走査しつつ露光する際、所望の露光精度を維持したまま露光処理に寄与しない加速・減速を短くできる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which always keeps the lens surface clean, thereby preventing the quality and yield of semiconductor devices from lowering by an abnormal pattern or the like.例文帳に追加

レンズ表面を常に清浄に保ち、パターン異常などによる半導体装置の品質及び歩留まり低下を防止することが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

Two image data inputted respectively into an aligner 19 before and after a photosensitive drum 20 turns once are defined as first image data and second image data, respectively.例文帳に追加

感光体ドラム２０が１回転する前後でそれぞれ露光装置１９に入力される２つの画像データをそれぞれ第１の画像データおよび第２の画像データとする。 - 特許庁

To provide a projection aligner for suppressing the risk of defocusing a pattern image by trimming while excluding the influence of the surface state of a substrate.例文帳に追加

基板の表面状態の影響を排除しつつ合わせ込み動作を行うことができ、パターンの像のデフォーカスのおそれを抑制可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic system which is able to lighten the load of a user in the exposure processing, an aligner, a method of controlling them, and a method of manufacturing device.例文帳に追加

露光処理時のユーザの負荷を軽減することができるリソグラフィシステム、露光装置及びそれらの制御方法並びにデバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Thereby, when such a lens 10 is incorporated into the projection aligner as the optical component, deterioration of transmissivity hardly occurs and, therefore, high accurate projection exposure is realized.例文帳に追加

よって、このようなレンズ１０を投影露光装置中に光学部品として組み込んだ場合、透過率の劣化が生じにくいので、高精度の投影露光が可能になる。 - 特許庁

The method of adjusting the aligner has a projection optical system (PL) for forming the pattern image of a reticle (R) illuminated by pulse emission laser beams on a photosensitive substrate (W).例文帳に追加

パルス発光のレーザー光により照明されたレチクル（Ｒ）のパターン像を感光性基板（Ｗ）に形成する投影光学系（ＰＬ）を備えた露光装置の調整方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor photo detector and a semiconductor aligner preventing monitoring precision to laser beams from being decreased as the number of uses is increased.例文帳に追加

レーザ光に対するモニタ精度が使用回数の増加に伴って低下するのを抑制できる半導体光検出器と半導体露光装置とを提供すること。 - 特許庁

In this aligner, a reticle R is lighted with exposure light IL and the a wafer W is exposed with the exposure light IL via the reticle R and a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光ＩＬでレチクルＲを照明し、その露光光ＩＬでレチクルＲ及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光装置である。 - 特許庁

X-ray aligners XST1 to XSTn are provided radially toward a synchrotron radiant light beam source SR used as a light source for an aligner.例文帳に追加

露光装置の光源として用いられるシンクロトロン放射光線源ＳＲに対して、放射状にＸ線露光装置ＸＳＴ１〜ＸＳＴｎが設けられている。 - 特許庁

The bilingual dictionary aligner 362 establishes high-confidence single word anchor points which are direct word translations from the source language input sentence 350 to the example sentence 360.例文帳に追加

二言語辞書対応付け器３６２は、元の言語入力部３５０から例文３６０への直接単語翻訳である高密度の一単語のアンカーポイントを確立する。 - 特許庁

The system includes an aligner configured to expose substrates, a track apparatus that is operatively coupled to the exposure apparatus and a plurality of processing modules and apparatus.例文帳に追加

このシステムは、基板を露光するように構成された露光装置と、この露光装置並びに複数の処理モジュール及び装置に動作可能に結合されたトラック装置とを含む。 - 特許庁

To provide control electrodes for charged particles and a charged particle beam apparatus that can constitute an optics system with high accuracy, even if it is equipped with neither mechanical positioning means nor an aligner.例文帳に追加

機械的な位置決め手段やアライナを設けなくても高精度な光学系を構成できる荷電粒子制御電極および荷電粒子ビーム装置を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of forming a desired micropattern on a substrate to be processed, and to provide a mask being used in that patterning method and an aligner.例文帳に追加

被加工基板に所望の微細パターンを形成することのできるパターン形成方法並びにこのパターン形成方法に使用されるマスクおよび露光装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a projection aligner in which focusing is performed more easily in a short time when a spatially modulated two-dimensional pattern is projected onto a photosensitive material.例文帳に追加

投影露光装置において、空間変調された２次元パターンを感光材料上に投影する際のピント合わせをより容易に、かつより短時間で行なう。 - 特許庁

To provide a stage apparatus which has improved drive reaction force for a stage and is capable of accurately moving and positioning the stage, and to provide an aligner equipped with such a stage apparatus.例文帳に追加

ステージの駆動反力処理を改良し、ステージを高精度で移動・位置決めできるステージ装置及びそのようなステージ装置を備えた露光装置を提供する。 - 特許庁