「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

Since content of chemical substances in gas flowing into the body chamber is suppressed below a specified level, lowering in transmittance of exposing light and deterioration in illuminance on the image plane can be suppressed in the aligner body within the body chamber.例文帳に追加

これにより、本体チャンバ内へ流入する気体中の化学物質の含有率が所定値以下に抑制され、本体チャンバ内の露光装置本体における露光光透過率低下、像面照度劣化等が抑制される。 - 特許庁

To follow-up the wavelength reduction of exposure beams by quickly transferring energy data between an aligner main body and a laser beam outputting device.例文帳に追加

露光装置本体とレーザビーム出力装置との間でのエネルギーデータ等の転送を高速で行い、露光ビームの短波長化に追随することのできる露光量制御方法および露光装置ならびにレーザビーム出力装置に関するものである。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a manufacturing method of semiconductor elements using it, which can realize relative positioning of a reticle and a wafer with high precision by moving a stage with high accuracy, in manufacturing semiconductor elements.例文帳に追加

半導体素子製造においてステージを高精度に移動させてレチクルとウエハーとの相対的な位置合わせを高精度に行うことができる投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide an optical system in a microlithography projection aligner which can reduce an undesirable effect in the intrinsic birefringence or the inductive birefringence for a linearly polarized light state of transmitted projection light by a simple method.例文帳に追加

透過される投影光の直線偏光状態に対する真性複屈折又は誘導性複屈折の好ましくない効果を単純な方法で低減することのできるマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システムを提供する。 - 特許庁

A main body 26 of an aligner is installed inside an environment chamber 7 on a floor F1 and most parts of an illumination optical system from a cover 1 housing an outside F2 laser light source 3 to the inside of the environment chamber 7 are covered with a sub-chamber 6.例文帳に追加

床Ｆ１上の環境チャンバ７内に露光本体部２６が設置され、外部のＦ_2 レーザ光源３を収納するカバー１から環境チャンバ７の内側までの照明光学系の大部分がサブチャンバ６で覆われている。 - 特許庁

A measurement condition decision section 120 decides measurement conditions when measurement for correcting the projection aligner is carried out on the correction items concerned based on the information on exposure that is stored into the apparatus information storage section 110.例文帳に追加

計測条件決定部１２０は、装置情報記憶部１１０に記憶された露光に関する情報に基づいて当該補正項目について露光装置を補正するための計測を行う際の計測条件を決定する。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposing method capable of decreasing a time for the entire exposure processes, reducing the power consumption, and locally correcting distortion, a step difference of a wafer and / or the aberration or distortion of a lens.例文帳に追加

本発明は、露光工程全体の時間の短縮、消費電力の低減、ウェハの歪み・段差及び／またはレンズの収差や歪曲を局所的に補正することができる露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An aligner using polarized light illumination is disclosed, in which a polarized light controlling element that partially changes the polarization direction of illumination light by 90 degrees is disposed as freely advancing and retreating in the exposure optical path by the polarized light illumination.例文帳に追加

また、本発明は、偏光照明を用いる露光装置において、記偏光照明による露光光路中に照明光の一部の偏光方向を９０度変化させる偏光制御素子が進退自在に設けられたものである。 - 特許庁

To provide a mobile device which has a stage positioning function such as a static pressure fluid bearing device for an aligner, capable of high speed and high accurate positioning as the movement is composed of a high rigid and lightweight material.例文帳に追加

露光機用静圧流体軸受け装置のような位置決め機能を有する移動体装置において、高剛性で軽量の構成材料によりその可動部分を構成することにより高速・高精度の位置決めを達成すること。 - 特許庁

An aligner is equipped with a reading means, which reads in data as to manufacturing errors recorded on an exposure lamp and an optical axis adjusting means, which adjusts the optical axis of an exposure lamp resting on the data read in through the reading means.例文帳に追加

露光装置においては、露光用ランプに記録されている製造誤差に関する情報を読み取る読取り手段と、読み取った情報に基づいて前記露光用ランプの光軸調整を行なう光軸調整手段とを設ける。 - 特許庁

Wafers fed to an aligner 10 are successively exposed to light by means of an exposure unit 100, directly fed to a baking unit 200 by means of an unloader and a substrate transporting unit 190, and placed on the cooling plate of the baking unit 200.例文帳に追加

露光装置１０に投入されたウエハは、露光ユニット１００で順に露光され、アンローダ、基板搬送ユニット１９０により直接ベーキングユニット２００に投入され、ベーキングユニット２００のクーリングプレート上に載置される。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

The aligner 100 has: a substrate holding section 22 holding the substrate 3; a shutter 4 controlling the incidence of light to the original 2 to determine the exposure time of the substrate 3; and a control section 13 controlling the open/close of the shutter 4.例文帳に追加

露光装置１００は、基板３を保持する基板保持部２２と、原版２への光の入射を制御することによって基板３の露光時間を決定するシャッタ４と、シャッタ４の開閉を制御する制御部１３とを備える。 - 特許庁

A base plate 11, the structure body 12, an intermediate plate 12b, mirror barrels 14, 15, and metal fixtures 17 for mirrors of the aligner apparatus are made of invar having a small thermal expansion coefficient, and their surfaces are coated with an antioxidant coat.例文帳に追加

露光装置のベースプレート１１や、構造体１２・中間プレート１２ｂ、鏡筒１４・１５、反射鏡の保持金具１７は、熱膨張係数の小さいインバーで製作されており、その表面に酸化防止コーティングが施されている。 - 特許庁

A transfer state (transfer position or the like) is corrected by using the ideal lattice as a reference and on the basis of the difference information, and a pattern is successively transferred to a plurality of section areas on a substrate W to be exposed by using the aligner 20A.例文帳に追加

そして、理想格子を基準として前記誤差情報に基づいて転写状態（転写位置など）を補正して、露光装置２０Ａを用いて露光対象の基板Ｗ上の複数の区画領域にパターンを順次転写する。 - 特許庁

To provide a pattern projection aligner that can accurately prepare patterns with high throughput, even if a fine pattern, a pattern having thick line width, a pattern having painted large area, and the like are combined, and to provide a pattern preparation method.例文帳に追加

微細なパターンと線幅の太いパターンあるいは大面積の塗りつぶしパターン等が混在している場合においても、高精度、高スループットによってパターン作製が可能なパターン露光装置及びパターン作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a means of grasping the state of the deposit on a projective optical system accurately and grasping the situation in the middle of cleaning accurately, too, and also to provide an aligner which cleans the projection optical system efficiently in a short time.例文帳に追加

投影光学系の付着物の状態を正確に把握し、クリーニングの途中における状況も正確に把握する手段を提供するとともに、短時間で効率良く投影光学系をクリーニングする露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a rare earth added optical fiber which has higher output by suppressing nonlinear optical effect, an optical amplifying device and a light source unit which use it, and an optical treatment device and an aligner which use the light source unit.例文帳に追加

非線形光学効果を抑制して高出力化を図った希土類添加光ファイバ、それを用いた光増幅装置および光源装置、並びに、光源装置を用いた光治療装置および露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system which can maintain its performance even when the stroke of an actuator for regulating the focusing state of the projection optical system is reduced and the stroke of the actuator is reduced, and to provide an aligner using the same.例文帳に追加

投影光学系自体のもつ結像状態調整用のアクチュエータのストロークを小さくするとともに、アクチュエータのストロークを小さくした場合にも性能を維持できる投影光学系やこれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

The electronic component mounter is arranged such that the position of a component fed from a component feeder is measured by a measuring means, e.g. image recognition by means of a camera (step S6), cross scan by means of a height sensor (step S10), or laser recognition by means of a laser aligner (step S14).例文帳に追加

部品供給装置から供給される部品位置が、カメラによる画像認識（ステップＳ６）、高さセンサによるクロススキャン（ステップＳ１０）、レーザーアライン装置によるレーザー認識（ステップＳ１４）などの計測手段で計測される。 - 特許庁

To provide an aligner which is capable of forming the image of each surface light source at a prescribed position on the entrance pupil of a projection optical system, even when an aperture stop is replaced with a simple structure so as to change the surface light source in shape or size.例文帳に追加

簡素な構成により、開口絞りを交換して面光源の形状または大きさを変更しても、投影光学系の入射瞳上の所定位置に各面光源像を形成することのできる露光装置。 - 特許庁

To avoid impartation of warpage to a substrate without formation of air bubbles by lowering pressurizing force and taking a large margin of the pressurizing force in aligning cover sheets 22 which are light transparent layers of, for example 0.1 mm by a roll nip type panel aligner.例文帳に追加

ロールニップ式貼り合わせ機で例えば０．１ｍｍの光透過層であるカバーシート２２を貼り合わせる際に、加圧力を低くして加圧力のマージンを大きくとり、気泡が生じることなく且つ基板に反りを与えないようにする。 - 特許庁

Three or more position detecting systems 14a, 14b, and 14c are provided to an exposure light TTR microscope mounted on the scanning aligner, and the position detecting systems 14a, 14b, and 14c are each provided with a drive mechanism for making the TTR microscope observe an optional position.例文帳に追加

走査型露光装置に搭載されている露光光ＴＴＲ顕微鏡に３つ以上の位置検出系１４ａ，１４ｂ，１４ｃを設け、各位置検出系は個々に任意の位置を観察するための駆動機構を備える。 - 特許庁

An aligner 10, mounted on a body 14, is provided with a strain gage 80 that detects deformation of the body and a control system that controls relative position between a mask and a substrate, in transferring a pattern depending on the output of the strain gage 80.例文帳に追加

露光装置１０は、ボディ１４に取り付けられ、該ボディの変形を検出する歪み計８０と、該歪み計の出力に応じてパターン転写の際のマスクと基板との相対位置を制御する制御系とを備える。 - 特許庁

To provide fluorite in which the transmittance property is hardly deteriorated even when it is repeatedly irradiated with light of high output having a short wavelength for a long period; an optical component made of the same; and an aligner for photolithography using the optical component.例文帳に追加

短波長で高出力の光を長期間繰り返し照射した場合であっても、透過率特性が劣化し難い蛍石、それよりなる光学部品及び該光学部品を用いたフォトリソグラフィー用の露光装置を提供する。 - 特許庁

A wafer stage 8, which holds a wafer 7 and is moved to an exposure position, is arranged in an aligner separated from an SR light source side using an X-ray window foil 4 as the boundary between the SR light source side and the wafer 7 and an X-ray mask 6 is held over the wafer 7.例文帳に追加

Ｘ線窓箔４を境界にＳＲ光源側と隔絶された露光装置内には、ウエハ７を保持し露光位置に移動させるウエハステージ８が配置され、ウエハ７の上方にはＸ線マスク６が保持されている。 - 特許庁

The aligner is provided with a first space requiring replacement with inert gas, one or a plurality of closed spaces being defined therein, and a means for replacing the first space and the closed spaces with inert gas.例文帳に追加

半導体露光装置に、不活性ガスへの置換を必要とする第一の空間と、その中に構成される１つあるいは複数の閉鎖空間と、第一の空間と閉鎖空間を不活性ガスに置換する手段とを設ける。 - 特許庁

Further, an angle of emergence from the multibeam formation part changing following the beam alignment can be detected without being shielded in the downstream projection optical system, by adjusting the aligner such that a scanned image substantially comes to the center of a field.例文帳に追加

また、ビームアライメントに伴い変化するマルチビーム形成部からの射出角度は、走査像が視野略中心にくるようにアライナを調整することで、下流の投影光学系内で遮蔽されることなく検出できる。 - 特許庁

To provide a semiconductor projection aligner wherein an FOUP unit is retrofitted for connection, and a wafer taken out from the FOUP unit is carried therein and thereout without removing a built-in elevator therein.例文帳に追加

半導体露光装置に後付けでＦＯＵＰユニットを接続し、半導体露光装置の内蔵エレベータを外すことなくＦＯＵＰユニットより取り出したウエハを半導体露光装置に搬出入可能な装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a stage system in which deformation of a stage caused by gas acting through gas bearings can be suppressed, and an aligner in which highly accurate alignment can be effected using that stage system.例文帳に追加

気体軸受によって作用される気体に起因するステージの変形を抑えることができるステージ装置、及びこのステージ装置を備えて精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an aligner, an exposing method and a device manufacturing method by which time required to measure positional information on a mask and a substrate is shortened, so that production efficiency is improved.例文帳に追加

マスク及び基板の位置情報の計測に要する時間を短縮することができ、その結果として生産効率の向上を図ることができる露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In an aligner, an object 12 having either one or both high thermal conductivity and thermal duffusivity to remove, diffuse or uniformize heat generated by light exposure or to provide a prescribed distribution is provided.例文帳に追加

露光装置において、露光光に起因して発生する熱を排除、拡散もしくは均一化しまたは所定の分布とするための高い熱伝導率または熱拡散率のいずれかまたは双方を有する物体１２を設ける。 - 特許庁

The central processing unit 4 decides an offset used for an alignment processing based on the correction parameter, measurement positions and the inspection/ measurement positions, which are collected for a plurality of photosensitive substrates, and it is informed to the aligner 1 (data transfer 20).例文帳に追加

中央処理装置４は、複数枚の感光基板に関して収集した補正パラメータ、計測位置及び検査計測位置に基づいてアライメント処理に用いるオフセットを決定し、露光装置１に通知する（データ転送２０）。 - 特許庁

The aligner EX is provided with a lighting optical system IL for illuminating a mask M forming a pattern by exposure light EL from the light source 10, and a projection optical system PL for transferring a pattern image on a photosensitive substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１０からの露光光ＥＬで、パターンが形成されたマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、パターンの像を感光基板Ｐ上に転写する投影光学系ＰＬとを備えている。 - 特許庁

To provide a high performance stage device that is highly reliable in measurement error without causing increase in the size of the stage device or the like and can drastically accelerate high speed and high accuracy in positioning, a projection aligner using the stage device, and a device manufacturing method.例文帳に追加

ステージ装置の大型化等を招くことなく計測エラー時の信頼性が高く、位置決めの高速化や高精度化を大幅に促進できる高性能なステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical diaphragm device by which nearly a round aperture shape is obtained by a less number of light shielding plates in the wide variable range of an optical diaphragm, and an aligner provided with the optical diaphragm and used for manufacturing a semiconductor or the like.例文帳に追加

広い光学絞り可変範囲にて、より少ない遮光板枚数で、より真円に近い開口形状を得ることのできる光学絞り装置および前記光学絞りを備えた半導体の製造等に用いられる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure mask of a constitution, wherein the exposure mask is provided with a plurality of split masks and even though a defect is caused in the split masks, a required pattern can be exposed by an electron beam exposure, an exposure method using this mask and an aligner.例文帳に追加

複数の分割マスクを配設した露光用マスクにおいて、分割マスクに欠陥が生じていても所要のパターンを電子線露光により露光することが可能な電子線露光用マスクと露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

In an aligner performing exposure according to a given job using a discharge lamp 1 as an exposing light source, control method of the discharge lamp is included in the setting content of job and the discharge lamp is controlled according to that control method.例文帳に追加

放電灯１を露光光源として用い、与えられるジョブに従って露光を行なう露光装置において、ジョブの設定内容に放電灯の制御方法が含まれており、その制御方法に従って放電灯の制御を行なう。 - 特許庁

An aligner 1 includes a stage for mounting a wafer 31, coated with a resist sensitive for a charged particle beam and a light beam, and a charged particle beam optical system 3 and a light beam optical system 5 for forming a pattern on the wafer 31.例文帳に追加

本発明の露光装置１は、荷電粒子ビーム及び光の両方に感度を有するレジストを塗布したウエハ３１を載置するステージ３５と、同ウエハ上にパターンを形成するための荷電粒子ビーム光学系３及び光光学系５を具備する。 - 特許庁

To provide an aligner and a method for a band-like metal thin plate, capable of suppressing power consumption, extending service life of a light source, and preventing thermal effects exposed surface and a pattern plate, without reducing production efficiency.例文帳に追加

、生産効率を低下させることなく、光源の消費電力を抑えて、光源の寿命を延ばしつつ、かつ、被露光面やパターン板に対する熱影響を防止することが可能な帯状金属薄板の露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

The aligner EX comprises the drive source unit 1 connected to the EX via the connecting cable C and having a plurality of dive source units 1a, 1b and 1c respectively housed in split containers 2a, 2b and 2c.例文帳に追加

露光装置ＥＸに接続ケーブルＣを介して接続された駆動源装置１は複数の駆動源ユニット１ａ、１ｂ、１ｃによって構成されており、駆動源ユニット１ａ、１ｂ、１ｃのそれぞれは分割収納部２ａ、２ｂ、２ｃに収納されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing optical element, an aligner, that can reduce optical absorption emerging in making a thin film on a substrate and manufacture an optical element having an excellent optical characteristic, and to provide a method for manufacturing device and a device.例文帳に追加

基板上に薄膜を作製した際に発生する光学的吸収を低減することができ、優れた光学特性を有する光学素子を製造することができる光学素子の製造方法、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス提供する。 - 特許庁

Thus, in the course of transporting the substrate W1 to an aligner 100, the apparatus measures the static charge amount and performs aligning only over the substrate W1 which is judged to have static charged amount in a predetermined range, thereby improving its productivity.例文帳に追加

このため、基板Ｗ１を露光装置１００に搬送する途中において、帯電した電荷を計測し、この電荷量が所定範囲であると判断された基板Ｗ１のみに露光処理が施されるので、生産性は向上する。 - 特許庁

To obtain an aligner using EUV light, or the like, in which variation of EUV emission intensity due to temperature variation of a light source, or dimensional variation of a fine pattern and lowering of resolution incident thereto can be prevented while sustaining a long lifetime of a multilayer film mirror.例文帳に追加

ＥＵＶ光等を用いた露光装置において、多層膜ミラーの寿命を長く保ちながら、光源の温度変動に起因するＥＵＶ発光強度の変動やそれに伴う微細なパターンの寸法変化及び解像度低下などを防止する。 - 特許庁