「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an aligner which stably forms a liquid immersed region between a projection optical system and a substrate, satisfactorily recovers the liquid in the exposure with the liquid immersed region formed, and prevents the liquid from flowing out or flying around, etc. to accurately execute an exposure process.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which prevents the mixing of atmosphere from outside into a substitution space upon exchanging and adjusting a component in the optical system of the exposure device for transferring the mask pattern of a mask with a transferring pattern, onto a photoreceptor by illumination light for exposure.例文帳に追加

転写用パターンが形成されたマスクのマスクパターンを露光用の照明光により感光体上に転写する露光装置の光学系において、部品交換及び調整を行う際に、置換空間に外部から大気の混入を防止する露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide the forming method of a resist pattern, which can form a comparatively larger pattern which does not reach the limit of a resolution using a KrF exposure technique, and an extremely microscopic pattern which is under the limit of the resolution using the KrF exposure technique, simultaneously and favorably, and to provide an aligner which is used for this forming method.例文帳に追加

ＫｒＦ露光技術の解像限界に達しない比較的大きなパターンとＫｒＦ露光技術の解像限界以下の極く微細なパターンを同時に良好に形成できるレジストパターンの形成方法及びこの方法に用いる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an assembly structure in which each member constituting any structure is prevented from being deformed even when ambient temperature changes, to provide a stage apparatus capable of keeping positioning accuracy high without causing any deformation on an optical member even when ambient temperature changes, and to provide an aligner having high aligning accuracy while keeping positioning accuracy high.例文帳に追加

周辺温度が変化しても構造物を構成する部材に歪みを生じない組立構造体、周辺温度が変化しても光学部材に歪みを生じず位置決め精度を高度に維持することができるステージ装置、位置決め精度を高度に維持し高い位置合わせ精度を有する露光装置を提供する。 - 特許庁

In an aligner that lights up a mask by lighting luminous flux having coherent anisotropy, and projects and exposes the pattern of a mask surface onto the light-sensitive substrate by a projection optical system, time for lighting up the light-sensitive substrate is adjusted, thus eliminating the illuminance disturbance that is periodically generated on the light-sensitive substrate.例文帳に追加

コヒーレンスの異方性を有する照明光束でマスクを照明し、該マスク面のパターンを投影光学系によって感光基板上に投影露光する露光装置において、前記感光基板に照明する時間を調整することにより、前記感光基板上に周期的に発生する照度外乱をなくすように構成する。 - 特許庁

From among diffracted light by the fine grating in the specimen (a mask for an EB aligner), information (a coupling efficiency) measured as a transmittance or a reflectance regarding 0-order diffracted light as direct light is acquired, the information is compared with an analytical result regarding the grating, and a shape of the grating is quantified.例文帳に追加

被検査物（ＥＢ露光装置用マスク）の微小グレーティングによる回折光のうち、直接光である０次回折光に係る透過率又は反射率として計測される情報（カップリング効率）を取得して、当該情報をグレーティングに係る解析結果と比較することによりグレーティングの形状について定量化する。 - 特許庁

In an aligner 100 transferring a transfer pattern on an exposed substrate, a photomask 12 is provided with a photomask substrate 44 where the transfer pattern is formed, the pellicle film 30 is arranged opposite to the substrate, and a frame holds the pellicle film 30, seals the pellicle film 30 and the photomask substrate 44 and has an opening in a part.例文帳に追加

転写用パターンを被露光基板に転写する露光装置において、転写用パターンの形成されたフォトマスク基板と、基板に対向して配置されたペリクル膜と、ペリクル膜を保持してペリクル膜とフォトマスク基板との間を封じ、かつ、一部に開口を有するフレームとを備えるフォトマスクを用いる。 - 特許庁

To provide a contaminant remover for removing contaminant adhering to the surface of an optical element on the side of a projection optical system closest to a substrate efficiently, and to provide an aligner capable of enhancing exposure precision, and a method of manufacturing device for producing high integration devices efficiently with high yield.例文帳に追加

投影光学系の最も基板側の光学素子表面に付着する汚染物質を効率的に除去することができる汚染物質除去装置、露光精度の向上可能な露光装置、高集積度のデバイスを歩留まりよく効率的に生産することのできるデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A projection aligner has a light source for emitting projection beam flux (5), and also has a projection optical system (1) disposed in an optical path between an object plane (2) and an image plane (3), and at least one optical correction component (24) disposed in from the image plane (3) in an optical path of projection beam.例文帳に追加

投影露光装置は、投影光線束（５）を放出する光源を有し、さらに、物体平面（２）と像平面（３）の間の光路に配置された投影光学系（１）と、投影光線の光路で像平面（３）の手前に配置された少なくとも１つの光学的な補正コンポーネント（２４）とを備えている。 - 特許庁

In this method for controlling exposure, the energy data of exposing beams L detected by an exposure sensor 29 provided at an aligner main body 2 are transmitted through an interface 31 and an interface 32 for setting target energy constituted of a high speed parallel interface to an excimer laser light source 1, and the following pulse emission of the exposing beams L is controlled based on this.例文帳に追加

露光装置本体２に備えた露光量センサ２９で検出した露光ビームＬのエネルギーデータを、高速パラレルインターフェイスからなる目標エネルギー設定用インターフェース３１、インターフェース３２を介してエキシマレーザ光源１に送信し、それに基づいてこの後の露光ビームＬのパルス発光を制御する構成とした。 - 特許庁

An immersion aligner is provided with a liquid holding unit 21, which is provided with metal oxide 22 on a surface and has a height nearly in level with a wafer surface, around a wafer chuck 20, and also equipped with a water repellency recovering means such as a light source 23 having a wavelength different from that of the exposure light to irradiate a surface of the metal oxide.例文帳に追加

液浸露光装置において、ウエハチャック２０の周囲に、表面に金属酸化物２２を設けたウエハ表面と略同一な高さの液体保持部２１を設けると共に、前記金属酸化物の表面を照射するための露光光と異なる波長の光源２３等の撥液性回復手段を備える。 - 特許庁

An aligner for condensing exposure light emitted from a light source through an integrator lens and transferring a mask to a substrate by irradiating the mask and the substrate placed on a stage with the condensed exposure light is improved such that at least two kinds of integrator lenses having different radii of curvatures or thicknesses are used.例文帳に追加

光源から発せられた露光光をインテグレータレンズにより集光し、その集光された露光光をステージ上に置かれたマスクと基板に照射してマスクを基板に転写する露光装置を改良して、インテグレータレンズとして、曲率半径又は厚みの異なる少なくとも２種類のインテグレータレンズを使用する。 - 特許庁

To operate a program rightly without individually corresponding to a processing program when control codes depending on a hardware and information peculiar to a user are contained in a reticle and a reticle cassette bar code, which are read in order to refer whether a reticle carried in an aligner is a designated reticle to be used in an exposure treatment.例文帳に追加

露光装置に搬入されたレチクルが、露光処理で使用する指定されたレチクルであるか照合する為に読みとられるレチクルおよびレチクルカセットバーコードに、ハードウェアに依存するような制御コードやユーザ固有の情報が含まれていても、処理プログラムに個別対応を行なう事なく、正しくプログラムを動作させる。 - 特許庁

A selector 107 outputs only the instruction code from the circuit 105 based on the select signal from an instruction code switching control circuit 106 or multiplexes a part of an instruction code from an instruction aligner 102 to the instruction code and outputs it when an instruction whose instruction length is longer than a prescribed value is carried out.例文帳に追加

セレクタ１０７は、命令コード切換制御回路１０６からのセレクト信号に基づき、命令保持回路１０５からの命令コードのみ又は命令長が所定値よりも長い命令を実行した時は、この命令コードに命令アライナ１０２からの命令コードの一部をマルチプレクスして出力する。 - 特許庁

This controls system, which contains a plurality of aligners for semiconductor 101 and which controls a variety of exposures in manufacturing semiconductor devices, is constituted, such that in performing a plurality of exposures, an optimum exposure condition for each exposure is selected for practice, based on the distortion generated in each aligner for semiconductor 101.例文帳に追加

複数の半導体露光装置１０１を備え、半導体装置を製造する際の各種露光を制御する管理システムを、複数回の露光に際して、半導体露光装置１０１に発生するディストーションに基き、各回の露光に最適な露光状態を選択して実行するように構成する。 - 特許庁

The aligner has an apparatus 121 for supplying clean gas to the sealed space for connection or its periphery, so that the contamination substance entering the sealed space for connection from the external environment is reduced, when the external environment is connected to the sealed space for connection.例文帳に追加

本発明による露光装置は、外部環境と接続用密閉空間とが連絡した際に、外部環境から接続用密閉空間に進入するコンタミ物質を低減するように、接続用密閉空間またはその周囲に清浄なガスを供給する装置（１２１）を有することを特徴とする。 - 特許庁

At least one of various optical sensors provided in an aligner, for example, a beam monitor in a light source 16, integrator sensor 46, a reflected light monitor 47, an illuminometer 59 on a state 58 and so forth is constituted by an optical sensor for detecting photoluminescent light generated in a photosensitive unit by a light receiving layer composed of a GaN crystal.例文帳に追加

露光装置に設けられる種々の光センサ、例えば光源１６内のビームモニタ、インテグレータセンサ４６、反射光モニタ４７、ステージ５８上の照度計５９等の少なくとも１つを、光感応部で発生するフォトルミネセンス光をＧａＮ系結晶から成る受光層で検出する光センサによって構成した。 - 特許庁

The transportation apparatus for transporting a substrate W1 to the aligner includes a first lift pin 11 for moving the substrate W1 in contact with a temperature adjuster 2 away from the adjuster 2, and a first probe 21 for measuring the amount of static charges on the substrate W1 from a side of the substrate W1 in contact with the adjuster 2.例文帳に追加

露光装置に基板Ｗ１を搬送する搬送装置は、温度調節部２に接する基板Ｗ１を、この温度調節部２から離間するように移動する第１リフトピン１１と、基板Ｗ１の温度調節部２との接面側から基板Ｗ１に帯電した電荷を計測する第１プローブ２１とを備えている。 - 特許庁

Furthermore, the aligner apparatus 1 includes a pitch changing means 6 for changing a pitch p between adjoining wafer holding members 15 and 16 to the pitch p1, and a sensor moving means 31 which moves each of the transmission type sensors 33 to a corresponding semiconductor wafer 2 after the pitch changing means 6 changes the pitch p.例文帳に追加

更に、アライナ装置１は、隣接するウエハ保持部材１５，１６同士のピッチｐをピッチｐ１にするピッチ変更手段６と、前記ピッチ変更手段６が前記ピッチｐを変更した後に各透過型センサ３３を対応する前記半導体ウエハ２に移動させるセンサ移動手段３１を備えている。 - 特許庁

To provide a wafer liquid chemical recovering device for restraining occurrence of secondary contamination of wafers by contamination from the inside of a treatment chamber because of disturbance of an air current of clean air caused by installing the components of a wafer aligner mechanism at the surface side of the wafers and by contamination from the components themselves of a wafer liner mechanism.例文帳に追加

ウエーハアライナー機構の構成部品がウエーハ表面側に設置されることによって起こるクリーンエア気流の乱れによる処理室内からの汚染、もしくはウエーハライナー機構の構成部品そのものからの汚染による、ウエーハの二次汚染の発生を抑えるウエーハ薬液回収装置を提供する。 - 特許庁

Thus, even if the non-effective reference chip region adjacent to the effective reference chip region, and other non-effective chip regions remain in exposure of a peripheral region in a periphery aligner, a position of the effective reference chip region can be easily recognized by visual observation, a microscope, or the like according to a difference in a pattern to be formed.例文帳に追加

これにより、周辺露光装置における周辺領域の露光において、有効基準チップ領域に隣接した無効基準チップ領域、その他無効チップ領域が残存していても、形成されるパターンの違いから有効基準チップ領域の位置を目視、顕微鏡などによっても容易に認識することができる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligner which is excellent in coatability and printability on a panel with fine irregularities, is capable of giving a good liquid crystal aligning property (pretilt angle production) by a photo-alignment method with low radiation exposure, and provides a liquid crystal alignment layer having excellent characteristics of image sticking.例文帳に追加

精緻な凹凸を有するパネルへの塗布性ないし印刷性に優れるとともに、少ない放射線照射量の光配向法によって良好な液晶配向性（プレチルト角発現性）を付与することができ、しかも焼き付き特性に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

In the aligner equipped with a plurality of PWM motor drivers, PWM clock oscillators are not separately provided, an external or master/slave feed means is provided, and a means is provided which carries out PWM through a common clock or a clock where frequency is kept the same, but phase is set different for each driver.例文帳に追加

複数のＰＷＭ変調モータードライバーを有する露光装置において、ＰＷＭ変調用クロック発振器は個別に持たずに、外部あるいはマスタースレーブ供給手段を設け、共通クロックあるいは周波数は等しく位相がドライバーごとに異なるクロックによりＰＷＭ変調を行う手段を設ける。 - 特許庁

The foreign matter inspection device includes: a foreign matter detection section for detecting foreign matter on a photomask with prescribed sensitivity; a detection sensitivity information acquisition section for acquiring detection sensitivity information according to usage conditions of an aligner; and a sensitivity change section for changing the sensitivity of the foreign matter detection section, based on the detection sensitivity information.例文帳に追加

異物検査装置は、所定の感度でフォトマスク上の異物を検出する異物検出部と、露光装置の使用条件に応じた検出感度情報を取得する検出感度情報取得部と、前記検出感度情報に基づいて前記異物検出部の前記感度を変更する感度変更部とを備える。 - 特許庁

An aligner 9 by which the pattern of the mask R is exposed by exposure light B on the base plate P through a projection optical system 12, is provided with a line width detector to detect the pattern line width of the mask R and a controller 23 to control the exposure of the exposure light B based on the detected result of the line width detector.例文帳に追加

露光光ＢによりマスクＲのパターンを投影光学系１２を介して基板Ｐに露光する露光装置９において、マスクＲのパターン線幅を検出する線幅検出装置と、線幅検出装置の検出結果に基づいて、露光光Ｂの露光量を制御する制御装置２３とを備える。 - 特許庁

To provide an aligner, having higher accuracy and productivity than those of prior art, by preventing a deterioration of an alignment accuracy due to a change of a base line caused by a problem of a heat with infrared rays as the alignment wavelength or a deterioration or the like of a throughput, due to the base line correction of a high frequency and an aligning method used therefor.例文帳に追加

赤外線をアライメント波長とすることによる熱の問題に起因したベースラインの変動によるアライメント精度の悪化や高頻度のベースライン補正によるスループットの悪化等を防止し、従来よりも高精度で高い生産性を有する露光装置及びそれに用いる位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁

To provide an illuminating optical system capable of illuminating an intended polarization state by decreasing a difference in angle of a light which enters to a half mirror arranged in a light path and a difference in transmission factor attributable to the polarization state, and capable of realizing an excellent resolution by an aligner having a high NA projection optical system.例文帳に追加

光路中に配置されたハーフミラーに入射する光の角度及び偏光状態に起因する透過率の差を低減して所望の偏光状態の照明を行うことができ、高ＮＡの投影光学系を有する露光装置が優れた解像度を実現することを可能とする照明光学系を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１６からの露光光で、照明系ＩＬ１，ＩＬ２を介してレチクルステージ系ＲＳＴに保持されているレチクルＲ１を照明し、レチクルＲ１のパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系ＷＳＴに保持されているウエハＷ１上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁

The projection aligner which projects a specified pattern on a photosensitive substrate is provided with a lighting optical system to supply a light to a specified pattern, and a projection optical system wherein an image of the specified pattern is formed on the photosensitive substrate by means of an immersion liquid between the photosensitive substrate and the projection optical system.例文帳に追加

感光性基板上に所定のパターンを投影する投影露光装置は、照明光を所定のパターンに供給する照明光学系と、感光性基板と投影光学系との間の浸液を介して所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備える。 - 特許庁

As to the oscillation intensity of a laser beam which is emitted from a fluorine laser 1 to irradiate the pattern surface of a mask R in an aligner 100, the ratio of the total intensity of a main oscillation beam having a wavelength of about 157.63 nm to that of an auxiliary oscillation beam having a wavelength of about 157.52 nm is set at 0.3 or below.例文帳に追加

露光装置１００では、フッ素レーザ１からマスクＲのパターン面に照射される、レーザ光の発振線強度のうち、波長が約１５７．６３ｎｍである主発振線の総強度に対する、波長が約１５７．５２ｎｍである副発振線の総強度の比が、０．３％以下に設定されている。 - 特許庁

In the aligner equipped with a light irradiation mechanism 3 radiating the exposing light, a mask stage mechanism 4 having the frame body 31 holding the mask 200 on which the pattern is formed, and a work stage mechanism 5 holding the work 100, a heat insulating member 39 is installed on the mechanism 4 so as to cover the frame body 31.例文帳に追加

露光光を照射する光照射機構３と、パターンが形成されたマスク２００を保持する枠体３１を有するマスクステージ機構４と、ワーク１００を保持するワークステージ機構５とを備えた露光装置において、断熱部材３９が前記枠体３１を覆うようにマスクステージ機構４に設置された構成にしてある。 - 特許庁

The aligner has a projection optical system, which uses an optical member showing double refraction and projects a pattern formed in a mask to a workpiece and a polarization direction deciding means for deciding the polarization direction of exposure light so that the exposure light which exposes the workpiece becomes linearly polarized.例文帳に追加

複屈折を示す光学部材を使用し、マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する投影光学系と、前記被処理体を露光する露光光が直線偏光になるように、当該露光光の偏光方向を決定する偏光方向決定手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for using an optical catalyst in a low-oxygen atmosphere in which generation of CO_2 which is a causative agent for a decreased transmission coefficient which is a reactive product when an organic polymer, being an impurity of an ultraviolet light optical system, is decomposed is suppressed, and to provide an optical system and an aligner using the optical catalyst.例文帳に追加

紫外光光学系の不純物質である有機高分子を分解した際の反応生成物であり透過率減少の原因物質であるCO_2の生成を抑制した、低酸素雰囲気での光触媒の使用方法、及び光触媒を用いた光学系や露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A tracking unit 105 measures a change in a path phase of an each finger of a reception signal based on a correlation value obtained before and after one chip (e.g., ±1/2 chip) of the path phase aligned to a correlator 101, reflects a measured result to an aligning operation of a finger aligner 104 and maintains a synchronizing state.例文帳に追加

トラッキング部１０５は、相関器１０１に割り当てたパス位相の前後１チップ以内（例えば±１／２チップ）で求めた相関値に基づき受信信号の各フィンガ（finger）のパス位相の変動を測定し、測定結果をフィンガ割り当て部１０４の割り当て動作に反映させ、同期状態の維持を図る。 - 特許庁

The aligner irradiates a substrate to be exposed by using light from a light source via a projection optics having a uniform proximity gap to transfer a mask pattern, wherein a composite mirror composed of a plurality of mirror groups making one reflection plane is used in the projection optics.例文帳に追加

光源からの光を利用して、マスクのパターンをマスクのパターンを均一なプロキシミティギャップを有する投影光学系を介して被露光基板に照射する露光装置において、複数のミラー群で一つの反射面を構成する集成ミラーを前記投影光学系に用いたことを特徴とする露光装置。 - 特許庁

When the original having an exposure pattern that is carried in the aligner is aligned by observing an alignment mark on the original by an observation means, the alignment mark on the original is observed by the observation means for measuring the position in advance (step 51), and the measured result is stored as data accompanying the original (step 52).例文帳に追加

露光装置に搬入された露光パターンを有する原板を、該原板上のアライメントマークを観察手段により観察してアライメントする場合に、あらかじめ、観察手段により原板のアライメントマークを観察してその位置を計測し（ステップ５１）、この計測結果を原板に付随するデータとして記憶しておく（ステップ５２）。 - 特許庁

Consequently, peripheral atmosphere of the aligner body 22 disposed on the downstream side of the chemical filters CF1a and CF1b is sustained in a state of high chemical cleanliness and temperature variation of the gas, set at a target temperature by the air conditioner, is suppressed after the gas has passed through the chemical filters CF1a and CF1b.例文帳に追加

従って、ケミカルフィルタＣＦ１ａ，ＣＦ１ｂの下流側に配置された露光装置本体２２の周辺雰囲気を化学的に清浄度の高い状態に保たれるとともに、空調装置によって目標温度に設定された気体の、ケミカルフィルタＣＦ１ａ，ＣＦ１ｂ通過後の温度変動が抑制される。 - 特許庁

This aligner is provided with a mask holder 21 used for fixing an arbitrary one kind of mask selected from among a plurality of kinds of masks having different sizes, and an optical sensor 20 which detects the position of the mask by detecting the alignment marks put on the mask and can be installed to a different location in accordance with the kind of the mask.例文帳に追加

異なる大きさを有する複数種類のマスクの内の任意の１種類のマスクを固定するためのマスクホルダ２１と、マスク上のアライメントマークを検出することによりマスクの位置検出を行うための光学センサであって、マスクの種類に応じて設置場所の変更が可能である光学センサ２０とを具備する。 - 特許庁

To provide a projection aligner and its exposure method capable of omitting a step for temporarily sticking a protective film indispensable so far in order to prevent damage by contact with oxygen in exposure processing of a workpiece and a step for stripping the protective film in subsequent development and equipment therefor, and capable of exhibiting good exposure performance.例文帳に追加

ワーク露光処理の際、酸素に触れることによる害を防止するために、従来は不可欠であった防護フィルムの仮貼着工程と、その後の現像時の防護フィルムの剥離工程およびその設備を省略でき、かつ良好な露光性能を発揮できる投影露光装置およびその露光方法を提供する。 - 特許庁

This article alignment apparatus 10 aligns the direction of the cap 1, by carrying to one from the other by putting the cap 1 in a space formed of an inner surface, by rotating an aligner 11 having the inner surface of a truncated cone shape so that a bus bar forming the lower end of the inner surface maintains a predetermined inclination.例文帳に追加

物品整列装置１０であって、円錐台形状の内表面を有する整列器１１を該内表面の下端をなす母線が所定の傾斜角度を維持するように回転させ、該内表面で形成される空間にキャップ１を入れて一方から他方へと搬送することでキャップ１の向きを揃えるもの。 - 特許庁

The wire aligning apparatus 1 includes the wire aligner 41 for aligning the plurality of wires 81 sent out of a wire sender 43, and a balance arm 4 swingable in the vertical direction H and in the transverse direction W taking a swing support 3 mounted on the top end of a support 2 as a swinging fulcrum P.例文帳に追加

ワイヤ整列装置１は、ワイヤ送出部４３から送出された複数本のワイヤ８１を整列させるワイヤ整列部４１と、支柱２の先端部に設けた揺動支持部３を揺動支点Ｐにして、上下方向Ｈ及び左右方向Ｗに揺動可能な天秤アーム４とを有している。 - 特許庁

To provide a film deposition method, a film deposition apparatus, an optical element, and a projection aligner of high time efficiency for omitting an atmosphere opening step of a vacuum vessel to exchange a masking means, and exchanging the masking means according to a thin film material and a substrate while evacuating the vacuum vessel.例文帳に追加

遮蔽手段を交換するための真空容器の大気開放工程を排除し、真空容器を減圧したまま薄膜用材料や基板に応じた遮蔽手段を交換する、時間効率の高い成膜方法、成膜装置、光学素子および投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The charged particle beam aligner for exposing a work to a pattern with a charged particle beam is characterized in that a region exposed en block has a maximum length of 1 mm or more on the work and the half- value width of an aperture angle distribution over the work is 1 mrad or less.例文帳に追加

荷電粒子線によってパターンを被露光物上に露光する荷電粒子線露光装置であって、一括露光する領域の大きさが、被露光物上で最大長が１mm以上とされており、かつ被露光物上での開き角分布の半値半幅が１mrad以下とされていることを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 特許庁

In the region in which at least one optical element in the aligner is installed, the exposure method is conducted in such way that the gas partial pressure of methan, ethan, propane, butane, iso butane, neopentane, cyclopropane, cyclobutane, pentane, octane or these admixtures is controlled to be 1.5E-8Pa or more, 1.0E-2Pa or less.例文帳に追加

露光装置内の少なくともひとつの光学素子が設置されている領域において、メタン、エタン、プロパン、ブタン、イソブタン、ネオペンタン、シクロプロパン、シクロブタン、ペンタン、オクタンもしくはこれらの混合物のガス分圧を１．５Ｅ−８Ｐａ以上１．０Ｅ−２Ｐａ以下に制御することを特徴とする露光方法、露光装置、及びパターン形成方法。 - 特許庁

The EUV aligner comprises a first reflection optical system including illumination system mirrors 106-109 for guiding EUV light to a reticle 111, and a second reflection optical system including projection system mirrors 121-124 for guiding reflected light from the reticle 111 to a wafer 131, and transfers a pattern on the reticle 111 to the wafer 131.例文帳に追加

ＥＵＶ露光装置は、ＥＵＶ光をレチクル１１１へ導く照明系ミラー１０６〜１０９を含む第１反射光学系と、該レチクル１１１からの反射光をウエハ１３１に導くための投影系ミラー１２１〜１２４を含む第２反射光学系を有し、レチクル１１１上のパターンをウエハ１２１に転写する。 - 特許庁