「back-reflection method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for suppressing the occurrence of resist residual at a non-exposed section caused by reflection light on the back of a substrate.例文帳に追加

基板裏面の反射光に起因する非露光部のレジスト残渣の発生を抑制可能な半導体装置の製造方法を実現する。 - 特許庁

To provide a reflection type illuminator wherein the reflected light on the back surface of a light guide body is reduced and the repair is easy and a method for manufacturing the illuminator.例文帳に追加

導光体裏面の反射光を小さくし、かつ、修復が容易となる反射型照明装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which returns light projected from a back light unit to a reflection region, to the back light unit, and then has higher use efficiency of light than conventional ones, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

バックライトユニットから反射領域に出射された光をバックライトユニットに戻すことができて、従来に比べて光の利用効率がより一層向上する液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for simply and easily manufacturing a reflection type or a transflective liquid crystal display which is provided with a back face substrate having a directional reflection body and displays a picture with high brightness and contrast without color blurring.例文帳に追加

指向性反射体を有する背面基板を備えた、表示画像の輝度、コントラストが高く、色のにじみがない反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイを簡便に製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a position determining device capable of accurately determining even the position of an measuring object causing back reflection and making the measurement difficult in a conventional method.例文帳に追加

本発明は、従来法では計測が困難であった裏面反射が生じる計測対象についても高い精度で位置判定が可能な位置判定装置を得ることを課題とするものである。 - 特許庁

To provide a composition and a method that can reduce the reflection of exposure radiation, from a substrate back into an overcoated photoresist layer, and/or function as a planarizing or via-fill layer.例文帳に追加

基体から、オーバーコートしたフォトレジスト層へ戻る露光放射線の反射を少なくし、および／または、平坦化あるいはビアフィル層として機能することができる組成物および方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate reflection loss in the interface of a transparent conduction film and a photoelectric conversion active layer in a back electrode, to provide a photoelectric conversion element with high photoelectric conversion efficiency, and to provide the manufacturing method.例文帳に追加

裏面電極における透明導電膜と光電変換活性層との界面での反射ロスをなくし、光電変換効率の高い光電変換素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a flat surface measuring method of a mirror using a Fizeau interferometer capable of preventing back surface reflected light of the mirror and performing simply interference fringe measurement only on the inspection surface, and a reflection preventing tool for facilitating a flat surface measuring work when executing the method.例文帳に追加

ミラーの裏面反射光を防止し、被検面のみの干渉縞測定を簡便に行うことができるフィゾー干渉計を用いたミラーの平面測定方法及びその方法実施の際、平面測定作業を容易にする反射防止ジグを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a decorated material capable of performing stereoscopic and clear pattern expression by a light and a shadow in the manufacturing method for the decorated material in which a recession/projection layer is formed on a back surface of a transparent sheet-like base material and a light reflection layer is superposed on its outer side.例文帳に追加

透明なシート状基材の裏面に凹凸層を形成しその外側に光反射層を積層させる装飾材の製造方法において、光と影による立体的で明瞭な図柄表現を行うことが可能な装飾材の製造方法の提供。 - 特許庁

To feed back an evaluation result of a semiconductor material to a device manufacturing process to elevate the yield, by making the evaluation result of a semiconductor material (a voltage value of reflection microwave by a μ-PCD method) and a characteristic evaluation result (mobility) of semiconductor device correspond to each other.例文帳に追加

半導体材料の評価結果（μ-PCD法による反射マイクロ波の電圧値）と半導体デバイスの特性評価結果（移動度）とを対応させることにより、半導体材料の評価結果をデバイス製造プロセスにフィードバックし歩留を高くする。 - 特許庁

Regarding the manufacturing method for the color filter for a liquid crystal display apparatus having at least three color pixels and having a reflection area for reflecting external light and a transmission area for transmitting light emitted from a back light source in one pixel, the reflection area of at least one color pixel is etched by exposing it to atmospheric plasma generated under atmospheric pressure or near the atmospheric pressure.例文帳に追加

少なくとも３色の画素を有し、外光を反射する反射領域と背面光源からの光を透過する透過領域を１画素内に有する液晶表示装置用カラーフィルターの製造方法であって、少なくとも一色の画素の反射領域を、大気圧下もしくは大気圧近傍下で生成した大気圧プラズマに曝すことによりエッチングすることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。 - 特許庁