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d-Maの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 13



例文

An arbitrary particle D on the mask MA is put in focus.例文帳に追加

マスクMA上にある任意の粒子Dは合焦される。 - 特許庁

Radiations emitted from the particle D and mask MA are different in wavelength because of the resulting temperature difference.例文帳に追加

この温度差によって、粒子DおよびマスクMAによって放出される放射の波長は異なる。 - 特許庁

A debris particle D on the mask MA is heated, but not cooled rapidly like a peripheral mask.例文帳に追加

マスクMA上のデブリ粒子Dは加熱するが、周囲マスクほど速く冷却しない。 - 特許庁

When the particle D is detected, the mask MA can be cleaned.例文帳に追加

粒子Dが検出された場合は、マスクMAをクリーニングすることができる。 - 特許庁

例文

Concretely, a moving average image MA is generated based on the image A, and a difference image D between the moving mean image MA and the original image A, an image E obtained by subtracting a threshold TH from each image data of the difference image D, or a binary image F of the difference image D are used for detection.例文帳に追加

具体的には、例えば画像Aに基づいて移動平均画像MAを生成し、この移動平均画像MAともとの画像Aとの差分画像D、そしてこの差分画像Dの各画素データから閾値THを減算した画像E、または差分画像Dの2値化画像Fを利用して検出する。 - 特許庁


例文

Consequently, the presence and position of the particle D on the mask MA having the arbitrary pattern can be detected.例文帳に追加

これにより、したがって、任意のパターンを有するマスクMA上の粒子Dの存在および位置を検出することができる。 - 特許庁

The covers 22 to 24 prevent the main hearth 21 and an auxiliary anode 6 from causing a short circuit due to a deposit (D) of the film-forming material (Ma).例文帳に追加

カバー22〜24は、成膜材料Maの堆積物Dによる主ハース21と補助陽極6との短絡を防止する。 - 特許庁

Thus, the sintered soft magnetic body in which sintered compact density satisfies d≥7.4 g/cm^3, and saturation magnetization in the magnetic field of 1.6 MA/m satisfies Ms≥1.9 T, and magnetic flux density in the magnetic field of 1 kA/m satisfies B1k≥1.4 T can be obtained.例文帳に追加

これにより、焼結体密度d≧7.4g/cm^3、1.6MA/mの磁場中における飽和磁化Ms≧1.9T、1kA/mの磁場中における磁束密度B1k≧1.4Tとなる焼結軟磁性体が得られた。 - 特許庁

The connection part 116a is flexible and connected electrically with some end winding Ma which is the final winding of the winding M1 constituted of the wire D, while being pressed against the wire connection part Mb thereof.例文帳に追加

接続部116aは、可撓性を有し、該可撓性によって、導線Dにて構成される巻線M1の最終の巻線である端巻線Maにおける導線接続部Mbに押圧接触された状態で電気的に接続される。 - 特許庁

例文

A development unit D, an application unit C, and cooling plates 41 are arranged in a processing station S2 which applies resist on a wafer W, and the wafer W is transferred from one to the other by a substrate transfer means MA.例文帳に追加

レジストの塗布等を行う処理ステ−ションS2内に、現像ユニットDと塗布ユニットCと複数の冷却プレート41とを配置し、基板搬送手段MAによりこれらの間でウエハWの搬送を行う。 - 特許庁

例文

When the scheduled printing is stopped, if a determination is made that only part of a scheduled printing region is printable, printing of the printable part (printing area PA) is carried out while an area (masked area MA) other than the printable part is masked (Fig. 11(d)).例文帳に追加

予定の印字を中止した場合、予定の印字領域のうち一部でも印字可能であると判断すれば、印字可能な一部を除く領域(マスク領域MA)をマスクしつつ印字可能な一部(印刷領域PA)の印字を実行する(同図(d))。 - 特許庁

A control part 21 connects switches 14, 19 to an "a" side to supply an output from a sensor 11 to a second current input circuit 3 and determines whether the current within a range of 4-20 mA is output or not from the sensor 11 by an output from an A/D converter 20.例文帳に追加

制御部21は、スイッチ14,19をa側に接続してセンサ11の出力を第2の電流入力回路3に供給し、A/D変換器20の出力により、センサ11から4〜20mAの範囲内の電流が出力されているかを判定する。 - 特許庁

例文

A matrix generation section 26 generates a similarity degree matrix MA in which a similar line GA corresponding to a region where a similarity degree SM of a feature amount F between a sound signal V and a time difference attached sound signal V is high, is arranged in a plane including a time axis T and a time difference axis D.例文帳に追加

マトリクス生成部26は、音響信号Vと時間差を付与した音響信号Vとで特徴量Fの類似度SMが高い領域に対応した類似線分GAを、時間軸Tと時間差軸Dとを含む平面に配置した類似度マトリクスMAを生成する。 - 特許庁

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