「faraday shield」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a plasma treatment apparatus that prevents particles from being generated, by a Faraday shield.例文帳に追加

ファラデーシールドによるパーティクル発生を防止するプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

The split Faraday shield includes a plurality of approximately nonconductive gaps (48) for inductively supplying the high frequency power through the split Faraday shield to continue plasma.例文帳に追加

スプリットファラデーシールドは、プラズマを持続するために高周波電力をスプリットファラデーシールドを通過して誘導的に供給するための複数のほぼ非伝導性の間隙（４８）を有する。 - 特許庁

Further, a Faraday shield 95 is provided between the plasma generation part 80 and the wafer W, and a slit 97 is formed on the Faraday shield 95 to shield an electric field, from among the electric field and a magnetic field generated in the plasma generation part 80, and allow the magnetic field to reach the wafer W.例文帳に追加

また、プラズマ発生部８０とウエハＷとの間にファラデーシールド９５を設けて、プラズマ発生部８０で発生する電界及び磁界のうち電界を遮断して磁界をウエハＷに到達させるために、当該ファラデーシールド９５にスリット９７を形成する。 - 特許庁

A Faraday shield 4 as a conductor is installed between the discharge tube 5 and coil 3, and has a plurality of slits 4S.例文帳に追加

導体であるファラデーシールド４は、放電管５とコイル３の間に設置されるとともに、複数のスリット４Ｓを有する。 - 特許庁

As a result, a gap between the Faraday shield and the dielectric is eliminated, and it is possible to prevent the damage to the dielectric and so on due to overheat of the dielectric because the dielectric is cooled through the Faraday shield by the cooling wind.例文帳に追加

これによってファラデーシールドと誘電体との間に隙間が無くなり、冷却用の風を送ることによってファラデーシールドを介して誘電体の冷却を行うことができるようになるため、誘電体の過熱による誘電体等の損傷を防止することができる。 - 特許庁

To suppress the generation of particle because of the nonuniformity of damage, being capable of eliminating the nonuniformity of the damage of a processing tank wall by Faraday shield.例文帳に追加

ファラデーシールドによる処理槽壁のダメージの不均一を解消することができ、ダメージの不均一によるパーティクルの発生を抑制する。 - 特許庁

The thin film resistor 8 and the Faraday shield layer regions 22, 22' are made in the same conductive layer which is formed below the first metalized layer 28.例文帳に追加

薄膜抵抗器８およびファラデー・シールド層領域２２、２２’は、同じ導電層内に作られ、この導電層は第１のメタライズ層２８の下に配置される。 - 特許庁

A plurality of permanent magnets 6 are installed between the plurality of slits and outside the Faraday shield 4, and generate a multipole field B in the discharge tube 5.例文帳に追加

複数の永久磁石６は、複数のスリットの間であって、ファラデーシールド４の外側に設置され、放電管５の内部に多極磁場Ｂを生成する。 - 特許庁

A Faraday shield 9 shielding a capacity coupling between the high frequency induction antennas and the plasma and making an inductive coupling is endowed with a power supply of an output from a high frequency power source 45 for the Faraday shield controlled by a phase controller 44 via a matching unit 46, based on monitoring by a phase detector 47-2.例文帳に追加

高周波誘導アンテナとプラズマ間の容量結合を遮断し誘導結合させるファラデーシールド９には、位相検出器４７−２による監視の基に、位相制御器４４から制御を受けたファラデーシールド用高周波電源４５からの出力が整合器４６を介して電源供給される。 - 特許庁

The reactor comprises an induction coil (42) for inductively supplying high frequency power to the reaction chamber and a split Faraday shield (45) arranged between the induction coil (42) and the reaction chamber.例文帳に追加

反応装置は高周波電力を反応室に誘導的に供給する誘導コイル（４２）と、誘導コイルと反応室との間に配置されたスプリットファラデーシールド（４５）とを備える。 - 特許庁

To provide a method of operating a plasma processing apparatus having an excellent mass production stability by suppressing peeling off of a reactive product deposited on inner walls (mainly, inner walls of the chamber) of a vacuum chamber other than a Faraday shield effective range.例文帳に追加

真空容器内のファラデーシールド有効範囲外（主に、チャンバー内壁）に付着した反応生成物の剥がれを抑制し、量産安定性に優れたプラズマ処理装置の運転方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of filters 49 short-circuit a high frequency voltage to the ground at different points of the Faraday shield 9 so as to prevent occurrence of an uneven voltage distribution having the same frequency as the plasma generation frequency generated.例文帳に追加

複数のフィルター４９が、ファラデーシールド９を異なる箇所で高周波電圧をグラウンドに短絡させており、発生するプラズマ生成用高周波と同一周波数を持つ不均一な電圧分布の発生を防止する。 - 特許庁

This Faraday shield component includes slits 13, belt-like portions 12A and 12B covering the site of the living body and being pinched by the slits 13, a conductive material 10 defining all the pathways formed by the belt-like portions 12A and 12B as open pathways, and a planar sheet 20 for retaining the conductive material 10.例文帳に追加

スリット１３を有し、生体の部位を被覆すると共にスリット１３により挟まれる帯状部１２Ａ、１２Ｂを有し、この帯状部１２Ａ、１２Ｂによる経路が全て開経路である導電材１０と、この導電材１０を保持する面状シート２０とを具備する。 - 特許庁

The plasma etching device comprises a chamber 1 equipped with a dielectric wall 2 that faces a work 7, a flat coil 3 which is outside the dielectric wall 2 to generate an inductive magnetic field for generating plasma, a plate electrode 13 that can function as a Faraday shield provided between the flat coil 3 and the dielectric wall 2, and a heating means 51 for heating the periphery of the dielectric wall 2.例文帳に追加

被加工体７と対向する誘電体壁２を備えたチャンバ１と、誘電体壁２の外部に配設され、プラズマを生成するための誘導磁場を生成する平面状コイル３と、ファラデーシールドとして機能可能な板状電極１３を平面状コイル３と誘電体壁２との間に備え、さらに、誘電体壁２の周縁部を加熱する加熱手段５１が設けられている。 - 特許庁