例文 (999件) |
film ofの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 49994件
A film thickness calculation part calculates thereafter a film thickness of an OC film (step 103).例文帳に追加
その後、膜厚算出部は、OC層の膜厚を算出する(ステップ103)。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR THIN FILM, SEMICONDUCTOR THIN FILM, AND THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体薄膜の製造方法、半導体薄膜、及び薄膜半導体装置 - 特許庁
OPTICAL FILM, POLARIZER PROTECTIVE FILM CONSISTING OF THAT FILM, AND POLARIZING PLATE例文帳に追加
光学フィルム並びにそれよりなる偏光子保護フィルムおよび偏光板 - 特許庁
METHOD OF FORMING LUMINOUS COATING FILM AND MULTILAYER COATING FILM HAVING LUMINOUS COATING FILM例文帳に追加
蓄光性塗膜形成方法、および蓄光性塗膜を有する複層塗膜 - 特許庁
COATING FILM FORMING DEVICE, COATING FILM EVALUATION SYSTEM, AND MANUFACTURING SYSTEM OF COATING FILM例文帳に追加
塗膜形成装置、塗膜評価システム及び塗膜物製造システム - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING FILM DEPOSITION SUBSTRATE, FILM DEPOSITION SUBSTRATE, AND FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
成膜基板の製造方法、成膜基板、および成膜装置 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING SOLID ELECTROLYTE FILM, AND FILM FOR SOLID ELECTROLYTE FILM例文帳に追加
固体電解質膜の製造方法、固体電解質膜用フィルム - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILM, GAS BARRIER FILM AND THIN-FILM ELEMENT例文帳に追加
シリコン窒化物膜の製造方法、ガスバリア膜、薄膜素子 - 特許庁
REFLECTION TYPE POLARIZING FILM LAMINATED WITH PROTECTIVE FILM, AND LAYERED FILM OF THE SAME例文帳に追加
保護フィルム貼着反射型偏光フィルムとその積層フィルム - 特許庁
FERROELECTRIC THIN FILM, RAW MATERIAL SOLUTION FOR FORMING THE SAME FILM AND FORMATION OF FILM例文帳に追加
強誘電体薄膜とその成膜用原料溶液および成膜方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD, FILM DEPOSITION APPARATUS, CONDUCTIVE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMI- CONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加
成膜方法および成膜装置、導体膜、半導体装置の製造方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD OF SILICON OXIDE THIN FILM BY CVD PROCESS例文帳に追加
CVD法による酸化珪素薄膜の成膜装置及び成膜方法 - 特許庁
CURABLE COMPOSITION, CURED FILM, REFLECTION PREVENTING FILM, AND METHOD OF FORMING CURED FILM例文帳に追加
硬化性組成物、硬化膜、反射防止膜、及び硬化膜の製造方法 - 特許庁
The reflective electrode is a double-layered film of an upper film and a lower film.例文帳に追加
反射電極は上部膜と下部膜との二重膜である。 - 特許庁
COMPOSITION FOR FILM FORMATION, METHOD OF FORMING FILM AND SILICA FILM例文帳に追加
膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜 - 特許庁
An insulating film is configured in a laminate structure of an ozone oxide film and an applied insulating film.例文帳に追加
絶縁膜をオゾン酸化膜と塗布絶縁膜の積層構造とする。 - 特許庁
METHOD FOR DEVELOPING BOUNDARY FILM, APPARATUS FOR DEVELOPING BOUNDARY FILM AND DEVELOPED BODY OF BOUNDARY FILM例文帳に追加
境界膜展開方法、境界膜展開装置、境界膜展開体 - 特許庁
FILM-FORMING APPARATUS, FILM-FORMING SYSTEM, AND CLEANING METHOD OF FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加
成膜装置、成膜システム及び成膜装置のクリーニング方法 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING FILM THICKNESS OF OPTICAL FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILM例文帳に追加
光学フィルムの膜厚測定方法、及び光学フィルムの製造方法 - 特許庁
To generate a film uniform in film quality and film thickness on the surface of a substrate.例文帳に追加
基板の表面に、膜質及び膜厚が均質な膜を生成する。 - 特許庁
INORGANIC FILM, MEMBER FOR PDP USING THE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THE FILM AND THE MEMBER例文帳に追加
無機質膜、それを用いたPDP用部材及びそれらの製造方法 - 特許庁
CONDUCTIVE FILM, THIN FILM MAGNETIC HEAD AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加
導電膜、薄膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL FILM, OPTICAL FILM, AND POLARIZING PLATE USING THE FILM例文帳に追加
光学フィルムの製造方法、光学フィルム、及びそれを用いた偏光板 - 特許庁
To enhance magnetostatic characteristics of a magnetic film film-deposited on a base film.例文帳に追加
ベースフィルムに成膜した磁性膜の静磁気特性を向上させる。 - 特許庁
FILM-THINNING TREATMENT METHOD OF DRY FILM RESIST AND FILM-THINNING TREATMENT DEVICE例文帳に追加
ドライフィルムレジストの薄膜化処理方法及び薄膜化処理装置 - 特許庁
MEASUREMENT METHOD FOR FILM THICKNESS OF LIGHT TRANSMISSION FILM AND FILM THICKNESS MEASURING DEVICE例文帳に追加
光透過膜の膜厚測定方法および膜厚測定装置 - 特許庁
PACKAGING FILM, AND FILM SHEET FORMED OF CONTINUOUS PACKAGING FILM例文帳に追加
包装用フィルム及びこれが連続してなる包装用フィルムシート - 特許庁
FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD OF FILM FORMATION AND SILICA-BASED FILM例文帳に追加
膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜 - 特許庁
FILM THICKNESS MEASURING DEVICE OF ORGANIC THIN FILM AND ORGANIC THIN FILM FORMATION DEVICE例文帳に追加
有機薄膜の膜厚測定装置及び有機薄膜形成装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM DEVICE, THIN FILM DEVICE BASE MATERIAL, AND THIN FILM DEVICE例文帳に追加
薄膜デバイスの製造方法、薄膜デバイス基材、及び、薄膜デバイス - 特許庁
FORMING METHOD OF OPTICAL FILM, OPTICAL FILM AND PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加
光学フィルムの製造方法、光学フィルム及び位相差フィルム - 特許庁
METHOD OF CRYSTALLIZING THIN FILM, POLYCRYSTALLINE FILM AND THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
薄膜結晶化方法、多結晶膜および薄膜半導体装置 - 特許庁
INSULATING FILM, MATERIAL FOR FORMING INSULATING FILM, AND METHOD OF FORMING INSULATING FILM例文帳に追加
絶縁膜、絶縁膜形成用材料および絶縁膜の形成方法 - 特許庁
CONDUCTIVE FILM FORMING SUBSTRATE, CONDUCTIVE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
導電膜形成用基体、導電膜及び導電膜の製造方法 - 特許庁
PEELABLE FILM, ADHESIVE FILM, AND FORMING METHOD OF PEELABLE FILM例文帳に追加
剥離フィルム、接着フィルム及び剥離フィルムの製造方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING FILM, FORMATION OF FILM, AND LOWERED-DENSITY FILM例文帳に追加
膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜 - 特許庁
The tunnel oxide film is formed in a configuration of silicon oxide film/first oxynitriding film or the second oxynitriding film/silicon oxide film/ first oxynitriding film.例文帳に追加
そして、トンネル絶縁膜はシリコン酸化膜/第1酸窒化膜あるいは第2酸窒化膜/シリコン酸化膜/第1酸窒化膜の構造に形成される。 - 特許庁
To provide a film deposition method and a film deposition apparatus, capable of depositing a thin film having excellent film thickness distribution and film quality while maintaining the film deposition rate.例文帳に追加
膜厚分布や膜質に優れた薄膜を、成膜速度を維持しつつ堆積することができる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁
A multi- layered thin film comprising a TiO_2 film, a SiO_2 film, a TiO_2 film, a Ta_2O_5 film, and a SiO_2 film is deposited on the surface of the substrate 9.例文帳に追加
基板9の表面には、TiO_2膜、SiO_2膜、TiO_2膜、Ta_2O_5膜、SiO_2膜からなる多層薄膜が形成される。 - 特許庁
LIQUID FOR FORMING TITANIA FILM, METHOD OF FORMING TITANIA FILM, TITANIA FILM AND MEMBER MADE BY USING TITANIA FILM例文帳に追加
チタニア膜形成用液体、チタニア膜の形成法、チタニア膜及びチタニア膜を用いた部材 - 特許庁
MANUFACTURING PROCESS OF FILM WITH METAL FILM ON BOTH SIDES AND FILM WITH METAL FILM ON BOTH SIDES例文帳に追加
両面金属膜付きフィルムの製造方法、及び両面金属膜付きフィルム - 特許庁
POLARIZATION FILM, PVA BASED RESIN FILM FOR POLARIZATION FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF POLARIZATION FILM例文帳に追加
偏光フィルム、偏光フィルム用PVA系樹脂フィルム及び偏光フィルムの製造方法 - 特許庁
It is preferable that the hard ceramic film consists of DLC (diamond like carbon film), a boron nitride film, or a carbon nitride film.例文帳に追加
また、硬質セラミックス膜はDLC(ダイヤモンド状炭素膜)、窒化ほう素膜、窒化炭素膜が好い。 - 特許庁
A TiW film having 3-5 nm film thickness is used for a base film 32 of the bias magnet film 31.例文帳に追加
バイアス磁石膜31の下地膜32に膜厚3nm〜5nmのTiW膜を用いる。 - 特許庁
The circuit has a multilayer film made of an oxide film, or the oxide film and a nitride film.例文帳に追加
位相補償キャパシタ15の絶縁膜として、酸化膜又は酸化膜と窒化膜の多層膜を有する。 - 特許庁
FORMING METHOD OF ORGANIC ZINC OXIDE FILM, N-TYPE CONDUCTIVE FILM AND P-TYPE CONDUCTIVE FILM USING THE FILM例文帳に追加
有機酸化亜鉛膜、ならびにそれを用いたn型導電膜およびp型導電膜の形成方法 - 特許庁
MASK MEMBER FOR FILM DEPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF MASK MEMBER FOR FILM DEPOSITION, MASK FILM DEPOSITION METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
成膜用マスク部材、成膜用マスク部材の製造方法、マスク成膜方法、および成膜装置 - 特許庁
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