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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > inductively coupledの意味・解説 > inductively coupledに関連した英語例文

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inductively coupledの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 225



例文

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

誘導結合型プラズマ処理装置 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

誘導結合形プラズマ処理装置 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ源 - 特許庁

The adjacent resonators 11, 13 are inductively coupled, and the adjacent resonators 12, 13 are also inductively coupled.例文帳に追加

隣接する共振器11,13は誘導結合し、隣接する共振器12,13も誘導結合している。 - 特許庁

例文

The resonators 4, 5 are coupled inductively, and resonator 5, 6 are also coupled inductively.例文帳に追加

共振器4と共振器5は誘導性結合し、共振器5と共振器6も誘導性結合する。 - 特許庁


例文

PLASMA CONE FOR INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER, AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置用プラズマコーン及び誘導結合プラズマ質量分析装置 - 特許庁

CONTROL METHOD OF INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA AND INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

誘導結合型プラズマの制御方法及び誘導結合型プラズマ処理装置 - 特許庁

(a) Mass spectrometers utilizing inductively-coupled plasma 例文帳に追加

イ 誘導結合プラズマを用いたもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

INDUCTIVELY COUPLED ANTENNA UNIT AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

誘導結合型アンテナユニット及びプラズマ処理装置 - 特許庁

例文

INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING DEVICE, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁

例文

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SPECTROSCOPE AND ITS MEASURING METHOD例文帳に追加

誘導結合型プラズマ分光装置、およびその測定方法 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR AND ITS METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ・リアクタとその方法 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETRY AND EMISSION ANALYZER例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置 - 特許庁

CHAMBER STRUCTURE OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加

誘導結合プラズマ食刻装置のチャンバ構造 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ALIGNMENT APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ整列装置及び方法 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR COUPLED WITH MULTIPLEX MAGNETIC CORE例文帳に追加

多重マグネチックコアが結合された誘導結合プラズマ反応器 - 特許庁

The conductor layer 341 is inductively coupled with the first inductor, and the conductor layer 441 is inductively coupled with the third inductor.例文帳に追加

導体層341は第1のインダクタと誘導性結合し、導体層441は第3のインダクタと誘導性結合する。 - 特許庁

The contactless power supply is inductively coupled to one or above loads.例文帳に追加

この非接触電源は、1つ以上の負荷に誘導結合されている。 - 特許庁

To provide an inductively-coupled plasma processing apparatus having improved uniformity.例文帳に追加

均一性の向上した誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

CENTER RING AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA DECOMPOSITION DEVICE PROVIDED WITH THIS例文帳に追加

センターリングおよびこれを備えた誘導結合プラズマ分解装置 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA ION TRAP MASS SPECTROMETRY DEVICE例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマイオントラップ質量分析装置 - 特許庁

To uniform the plasma density of a high-frequency inductively coupled plasma apparatus.例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマ装置のプラズマ密度の均一化を図る。 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA PRODUCTION DEVICE AND PLASMA PRODUCTION METHOD例文帳に追加

誘導結合型プラズマ生成装置及びプラズマ生成方法 - 特許庁

INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR HIGH FREQUENCY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETRY例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマ質量分析方法及び装置 - 特許庁

The resonators 11 and 12 are inductively coupled and capacitively coupled through capacitors 27 and 28.例文帳に追加

共振器11,12は、誘導結合していると共に、キャパシタ27,28を介して容量結合している。 - 特許庁

INDUCTIVELY-COUPLED DOUBLE-TUBE ELECTRODE AND ARRAY ANTENNA TYPE CVD PLASMA DEVICE例文帳に追加

誘導結合型の二重管電極及びアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置 - 特許庁

In some aspects, the method uses an inductively coupled plasma (ICP) source.例文帳に追加

いくつかの局面では、前記方法は、誘導結合プラズマ(ICP)源を用いる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETOOPTIC DISK BY INDUCTIVELY COUPLED RF PLASMA SUPPORTED MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加

誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタ法における光磁気ディスクの製造方法 - 特許庁

QUANTITATIVE ANALYSIS OF ALUMINUM IN STEEL BY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA EMISSION SPECTROSCOPIC ANALYSIS METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ発光分光分析法による鋼中のアルミニウムの定量分析方法 - 特許庁

Two corresponding terminals (b) and (d) of an inductively coupled coil are interconnected virtually, and are grounded.例文帳に追加

誘導結合されたコイルの対応する2端子であるbとdを仮想的につなぎ、接地する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and method of processing a semiconductor wafer.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁

Particularly, the silicon oxide film 3 is preferably deposited by using an inductively coupled plasma CVD method.例文帳に追加

特に、誘導結合プラズマCVD法を用いてケイ素酸化物膜3を形成することが好ましい。 - 特許庁

SIGHTING DEVICE, AND EMISSION SPECTROMETER WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE COMPRISING SUCH A DEVICE例文帳に追加

照準装置及びそのような装置を含み誘導結合プラズマ源を有する発光分光計 - 特許庁

CONTAINER FOR PRETREATMENT OF ELEMENTAL ANALYSIS, METHOD FOR ELEMENTAL ANALYSIS, INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA TORCH AND ELEMENTAL ANALYSIS SYSTEM例文帳に追加

元素分析前処理用容器、元素分析方法、誘導結合プラズマトーチ、及び元素分析装置 - 特許庁

ANALYZER HAVING GAS CHROMATOGRAPH BONDED WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER例文帳に追加

ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置 - 特許庁

An inductively-coupled micro plasma source has a floating electrode inside a gas flow passage.例文帳に追加

誘導結合型マイクロプラズマ源のガス流路内部に、浮遊電極を用意する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and a method for processing a semiconductor wafer.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of dealing with a target substrate to be processed of a larger size.例文帳に追加

被処理基板の大型化に対応できる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a quantification method in which a minimum limit of quantification for chlorine or bromine is reduced in an inductively coupled plasma emission spectrophotometer.例文帳に追加

誘導結合プラズマ発光分光分析装置による塩素又は臭素を定量下限を下げる。 - 特許庁

INDUCTIVELY-COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA CVD APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING GLASS FILM USING THE SAME例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマCVD装置及びそれを用いたガラス膜の製造方法 - 特許庁

To facilitate mounting chips in the mutually inductively coupled condition.例文帳に追加

互いに誘導結合した状態での実装を容易に行えることを可能にする。 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING QUANTITY OF TRACE ELEMENT USING INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置を用いた微量不純物元素の定量方法 - 特許庁

QUANTITATIVE ANALYSIS METHOD OF ORGANIC METAL USING HIGH-FREQUENCY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA EMISSION SPECTRAL ANALYSIS METHOD例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法を用いた有機金属の定量分析方法 - 特許庁

METHOD OF ELIMINATING M-SHAPE ETCHING RATE DISTRIBUTION IN INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA REACTOR例文帳に追加

誘導結合型プラズマリアクタにおけるエッチング速度の「M形状」の分布特性を排除する方法 - 特許庁

METHOD FOR HIGH-PRECISION ANALYSIS OF METAL ELEMENTS BY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA EMISSION SPECTRAL ANALYSIS METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ発光分光分析法による金属元素の高精度分析方法 - 特許庁

A second inductor is connected to a reception circuit 200 and inductively coupled to the first inductor.例文帳に追加

第2インダクタは、受信回路200に接続されており、第1インダクタと誘導結合している。 - 特許庁

The inductively coupled plasma processing apparatus 1 includes a process chamber 2, a lower electrode 6 arranged in the process chamber 2, and an inductively coupled coil 4 for generating plasma in the process chamber 2.例文帳に追加

本発明の誘導結合プラズマ処理装置1は、処理室2、この処理室2内に配置された下部電極6、処理室2内にプラズマを発生させるための誘導結合コイル4を備えている。 - 特許庁

To provide a plasma cone for an inductively coupled plasma mass spectrometer, and the inductively coupled plasma mass spectrometer provided with the plasma cone having a long life cycle.例文帳に追加

長いライフサイクルを有する誘導結合プラズマ質量分析装置用プラズマコーン及びこれを具備した誘導結合プラズマ質量分析装置を提供する。 - 特許庁

例文

The inductively coupled stabilizer circuit 103 energizes an inductively an electromagnetic radiation emission device 60 positioned within the electromagnetic radiation emission assembly 14, in response to a predetermined electrical signal from a control unit 102.例文帳に追加

誘導結合型安定器回路103は、制御ユニット102からの予め定められた電気信号に応答して、電磁放射線放出アセンブリ14内に位置設定された電磁放射線放出デバイス60を誘導的に付勢する。 - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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