「inductively coupled」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To freely and finely control plasma density distribution while sufficiently restraining a wavelength effect in an RF antenna of an inductively-coupled plasma processing device.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマ処理装置におてＲＦアンテナ内の波長効果を十全に抑制しつつ、プラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor plasma processing device that can enhance etching uniformity, by compensating a radical-side concentration phenomenon which is a weakness of an inductively coupled plasma source.例文帳に追加

本発明の誘導結合プラズマ源の短所であるラジカル側面集中現象を補ってエッチング均一度を高めることができる半導体プラズマ処理装置に関する。 - 特許庁

By connecting the metal electrodes and a coil part to various power sources through cables, inductively-coupled plasma by dielectric barrier discharge, in particular, microplasma having a size not larger than 1 mm which becomes difficult to stably maintain by miniaturization is generated.例文帳に追加

金属電極、コイル部分と各種の電源をケーブルでつなぎ、誘電体バリア放電により誘導結合型プラズマ、特に、微細化により安定維持が困難になる１ｍｍ以下の大きさのマイクロプラズを発生させる。 - 特許庁

This plasma generator equipped with an inductively-coupled plasma generation coil 9 around an insulator tube, and also equipped with electrodes 3 and 4 for generating dielectric barrier discharge inside and outside of the tube is composed.例文帳に追加

絶縁体チューブの周りに誘導結合型プラズマ発生コイル９を具備し、かつ、チューブ内外に誘電体バリア放電発生用の電極３，４も具備したプラズマ発生装置である。 - 特許庁

To provide a device that parallel-operates at least two inductively coupled inverters at an equal rating, and that dispenses with an additional synchronizing line and/or communication line for the parallel operation.例文帳に追加

少なくとも２つの誘導結合インバータを等定格で並列動作させるデバイスであって、そのために、付加的同期化ラインおよび／または通信ラインを不要とするデバイスを提案する。 - 特許庁

Using a high frequency inductively-coupled plasma etching apparatus having two reaction chambers, the second Pt film 108 is etched with a mixture gas of chlorine and argon in one of the reaction chambers.例文帳に追加

反応室を２つ持つ高周波誘導結合型プラズマエッチング装置を用い一方の反応室で塩素とアルゴンの混合ガスで第２のＰｔ膜１０８をエッチングする。 - 特許庁

The combination of the magnetic field generators 1 and 2 and the antenna 7 generates inductively coupled plasma 13 on the outer area in an area inside the antenna and generates wave-excited plasma 12 in the inner area.例文帳に追加

磁場発生器１，２とアンテナ７との組合せは、アンテナの内側の領域のうちの外側領域に誘導結合プラズマ１３を生成し、且つ、その領域のうちの内側領域に波動励起プラズマ１２を生成する。 - 特許庁

To provide a method and a device in which electron temperature of plasma can be held down, in the plasma generation method and device generating inductively coupled plasma.例文帳に追加

誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置であって、プラズマの電子温度を低く抑制することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an interface for an inductively coupled plasma mass spectrometer capable of performing stable measurement longer than conventional especially for a sample including a matrix of a high fusing point.例文帳に追加

特に高融点のマトリックスを含むサンプルに対して、従来よりも長時間にわたり安定した測定を実現可能とする、誘導結合プラズマ質量分析装置のための改良されたインターフェースの提供。 - 特許庁

Accordingly, it is possible to keep the electrons of inductively coupled plasma formed by the high-frequency antenna 106 to be confined inside the plasma-generating space, thereby increasing the plasma electron concentration, while suppressing the rise in the plasma electron temperature.例文帳に追加

これにより，高周波アンテナ１０６により形成された誘導結合プラズマの電子をプラズマ生成空間内に閉じ込めることができるので，プラズマの電子温度の上昇を抑えながら，プラズマ電子密度を高めることができる。 - 特許庁

The high-frequency power source 32 supplies high-frequency power to the ICP electrode 24 and the flat electrode 26, and thereby inductively-coupled plasma of the processing gas is generated in the vacuum chamber 10.例文帳に追加

高周波電源３２がＩＣＰ電極２４及び平面状電極２６に高周波電力を供給することで、真空チャンバ１０内に処理ガスの誘導結合プラズマが発生する。 - 特許庁

The band-pass filter 1 has a multilayer board 20 and three resonators provided in the multilayer board 20 while two adjacent resonators are inductively coupled.例文帳に追加

バンドパスフィルタ１は、積層基板２０と、隣接する２つの共振器同士が誘導性結合するように積層基板２０内に設けられた３つの共振器を備えている。 - 特許庁

An inductively coupled high frequency plasma reactor 10 is provided with a plasma source 16 having multiple channels 38, 44, to each of which a raw gas is independently supplied.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタ１０は、処理ガスが各チャネルに独立して供給される複数のチャネル３８，４４を有するプラズマ源１６を備える。 - 特許庁

In an inductively-coupled plasma torch unit T, a spiral conductor rod 3 is arranged inside a quartz tube 4 whose surface is coated with silicone, and a brass block 5 is arranged therearound.例文帳に追加

誘導結合型プラズマトーチユニットＴにおいて、螺旋形の導体棒３が、シリコンを表面にコーティングした石英管４の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック５が配置されている。 - 特許庁

To provide a plasma generator capable of stably generating and maintaining high-density and high-energy-efficiency inductively-coupled microplasma, and of executing a process using the plasma.例文帳に追加

高密度・高エネルギー効率誘導結合型マイクロプラズマの安定発生・維持が可能で、かつ、プラズマを用いた処理を行うことが可能なプラズマ発生装置を提供すること。 - 特許庁

In several aspects of the method, a thin-film oxide layer is superposed on the second silicon layer oxidized and formed by a high-density plasma excitation chemical vapor deposition treatment and the inductively coupled plasma source at a temperature lower than 400°C.例文帳に追加

この方法のいくつかの局面において、薄膜酸化物層は、酸化された第２のシリコン層の上に重なり、４００℃未満の温度で、高密度プラズマ励起化学蒸着処理および誘導結合プラズマソースによって形成される。 - 特許庁

To provide an inductively-coupled plasma processing device capable of executing high-accuracy plasma density distribution control without replacing an antenna nor increasing a device cost and a power cost.例文帳に追加

アンテナを交換することなく、装置コストおよび電力コストを高くすることなく、かつ高精度のプラズマ密度分布制御を行うことができる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma torch in which a capillary tube is stably retained concentrically with an injector tube, and in which a makeup gas can be flowed smoothly.例文帳に追加

キャピラリーチューブをインジェクターチューブと同心に安定に保持するとともにメイクアップガスをスムーズに流すことができる誘導結合プラズマトーチを提供する。 - 特許庁

Providing a high-frequency power from a high-frequency power source 5 to a coil 7 provided in the vicinity of an dielectric window 8 facing to a sample electrode 6 generates an inductively-coupled plasma in the vacuum vessel 1.例文帳に追加

高周波電源５によりの高周波電力を試料電極６に対向した誘電体窓８の近傍に設けられたコイル７に供給することにより、真空容器１内に誘導結合型プラズマを発生させる。 - 特許庁

The dual mode inductively coupled plasma reactor 100 includes a process chamber 110 having a dielectric lid 120 and a plasma source assembly 160 disposed above the dielectric lid 120.例文帳に追加

デュアルモード誘導結合プラズマリアクタ１００は、誘電性蓋部１２０を有する処理チャンバ１１０及び誘電性蓋部１２０の上に配置されたプラズマソースアセンブリ１６０を含む。 - 特許庁

To provide a method for performing milling and imaging in a focused ion beam (FIB) system employing an inductively coupled plasma ion source.例文帳に追加

誘導結合プラズマ・イオン源を使用した集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムにおいてミリングおよび画像化を実行する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for igniting plasma in a focused ion beam system in which the inductively coupled plasma ion source is biased to a high dc voltage.例文帳に追加

誘導結合プラズマイオン源が高ｄｃ電圧にバイアスされた集束イオンビームシステムにおいて、イオン源内のプラズマに点火する方法を提供する。 - 特許庁

An apparatus includes: a first winding wire for coupling data via a conductor of a power transmission cable; and a second winding wire, inductively coupled to the first winding wire, for the purpose of coupling a data signal to a data port.例文帳に追加

装置は電力伝送ケーブルの導体によりデータを結合する第１の巻線と、データ信号をデータポートへ結合するため第１の巻線に誘導的に結合されている第２の巻線とを具備している。 - 特許庁

The inductively coupled high frequency plasma reactor 10 includes a plasma source 16 having a plurality of channels 38, 44 in which processing gases are independently supplied to each channel.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタ１０は、処理ガスが各チャネルに独立して供給される複数のチャネル３８，４４を有するプラズマ源１６を備える。 - 特許庁

To freely and minutely control a plasma density distribution by using a coil put into an electrically floating state in an inductively coupled plasma process.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマプロセスにおいて電気的にフローティング状態に置かれるコイルを用いてプラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁

The inductive charger may further include a charging circuit for connecting the inductive coil to the power pack when the inductive coil is inductively coupled to a primary coil.例文帳に追加

誘導充電装置は、誘導コイルが一次コイルに誘導結合されている場合、誘導コイルをパワーパックに接続する充電回路をさらに含み得る。 - 特許庁

This method enables the zinc impurity concentration to be evaluated in a non-destructive manner in a shorter period of time with a simpler operation, as compared with a precision chemical analysis such as ICP-MS (Inductively Coupled Plasma-Mass Spectroscopy) requiring an advanced analysis technology.例文帳に追加

この方法により高度な分析技術の必要なＩＣＰ質量分析等の精密化学分析に比べて、非破壊で、短時間かつ簡便に亜鉛不純物濃度を評価することができる。 - 特許庁

POWER SUPPLY BY WIRELESS CONTROL APPARATUS, AND INDUCTIVELY COUPLED BATTERY CHARGER, AND METHOD FOR WIRELESS CONTROL OF THEM例文帳に追加

無線制御装置による電源装置および誘導結合バッテリ・チャージャならびに電源装置および誘導結合バッテリ・チャージャを無線制御する方法 - 特許庁

As a surface analysis method, an XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) analysis method or the like is enumerated, and when being used together with an ICP-AES (Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectroscopy) analysis, a result which is unmeasurable in the ICP-AES analysis can be supplemented.例文帳に追加

表面分析方法としては、ＸＰＳ分析法等が挙げられ、ＩＣＰ−ＡＥＳ分析と併用すれば、ＩＣＰ−ＡＥＳ分析では測定不可能だった結果を補足することも出来る。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma torch for realizing GC analysis, etc. and solution analysis by means of the same torch without detaching a capillary tube, etc. therefrom.例文帳に追加

キャピラリーチューブなどを取り外すことなく、ＧＣ分析等と溶液分析を同一のトーチで実現することが可能な誘導結合プラズマトーチの提供。 - 特許庁

To axially rotate equivalently the inductively coupled status regarding the deposition of byproducts on the inner wall in order to prevent the deposition of the byproducts on the inner wall, while keeping the coil antenna 23 and the cylindrical guiding body 22 in a fixed state.例文帳に追加

コイルアンテナ２３も筒状誘導体２２も固定したままで、副生成物の内壁付着を防止するために、副生成物の内壁付着に関する誘導結合状態を等価的に軸回転させる。 - 特許庁

To provide an electrodeless discharge lamp and an ultraviolet ray irradiating device capable of suppressing deformation of an inductively coupled coil caused by a mechanical vibration and heat produced during lighting of a lamp.例文帳に追加

機械的な振動やランプ点灯時の発熱による誘導結合コイルの形状の変化を抑えることができる無電極放電ランプ及び紫外線照射装置を提供する。 - 特許庁

The surface 10a of an a-plane sapphire substrate 10 is subjected to ICP (inductively coupled plasma) etching to form stripe-pattern grooves 11 whose longitudinal direction is parallel to the m-axis direction of the sapphire substrate 10 (Fig.1(a)).例文帳に追加

ａ面サファイア基板１０の表面１０ａに、ＩＣＰエッチングで長手方向がサファイア基板１０のｍ軸方向に平行なストライプ状に凹部１１を形成する（図１（ａ））。 - 特許庁

To provide an inexpensive high-frequency inductively-coupled plasma ion trap mass spectrometry device capable of restraining generation of low-mass region noise, and of a high-sensitivity quantitative analysis.例文帳に追加

安価でありながら、低質量領域ノイズの発生を抑制でき、高感度定量分析が可能な高周波誘導結合プラズマイオントラップ質量分析装置を実現する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma chemical vapor deposition apparatus where a uniform thin film can be formed on a rectangular substrate used for a flat panel display device.例文帳に追加

平板ディスプレー装置に使用される四角形状の基板に均一な薄膜を形成できる誘導結合プラズマ化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In this inductively coupled plasma processing device, a coiled high frequency antenna 21 is installed in a housing constituting a processing chamber, and reaction gas is introduced into the processing chamber to generate a plasma to form or etch a film on a substrate in the processing chamber.例文帳に追加

従って、処理装置の大型化に伴って高周波アンテナの長さが長くなっても、アンテナ電位を均等かつ低下させることができる誘電結合プラズマ処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To charge a battery 12 with a 200V commercial power source, a a charger 40 is inductively coupled to a port 38, and the current is rectified by a rectifier module 32 connected in parallel to an inverter 14.例文帳に追加

２００Ｖ商用電源から充電する場合は、地上側充電器４０とポート３８によりインダクティブ接続し、インバータ１４と並列接続された整流モジュール３２により整流を行って、バッテリ１２に充電を行う。 - 特許庁

To provide an antenna system which has a radiation conductor and a feed conductor inductively coupled to each other, and provides high radiation efficiency by preventing a radiation current and an induced current from canceling each other.例文帳に追加

放射導体と給電導体を誘導結合させたアンテナ装置において、放射電流と誘導電流との打ち消し合いを防止することによって、高い放射効率を獲得する。 - 特許庁

Furthermore, higher accuracy and reliability analysis becomes possible, by making a liquid with a pH of 6-8 pass through the measuring sample inlet part, through which the measuring sample is passed, of the high-frequency inductively coupled plasma emission spectrometric analyzer.例文帳に追加

さらに高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置の測定試料を通液する測定試料導入部内をpHが6以上、8以下の液体を通液させることで、より高精度、高信頼性の分析が可能となる。 - 特許庁

To provide an inductively coupled ballast circuit suitable for use in a fluid treatment system including a control unit that controls the overall operation of the fluid treatment system.例文帳に追加

流体処理システムの全体的動作を制御する制御ユニットを内含する流体処理システムでの使用に適した誘導結合型安定器回路を提供する。 - 特許庁

An HDPO process generally generates plasma using an inductively and/or capacitively coupled RF energy transmitting device, controls the plasma generated on a substrate, and injects a gas containing an oxidizing source to grow an interface layer.例文帳に追加

ＨＤＰＯ処理は、一般的に、誘導及び／又は容量結合ＲＦ伝達デバイスを用いてプラズマを発生し、基板上で発生したプラズマを制御し、また酸化源を含有するガスを注入して界面層を成長させる。 - 特許庁

To prevent a film from being formed on an inner surface of a sidewall part 14 of a dielectric wall vessel 11 by a scattering substance associated with sputter etching to hinder supply of high-frequency power, in an inductively-coupled plasma processing device.例文帳に追加

誘導結合形プラズマ処理装置において、スパッタエッチングに伴う飛散物によって誘電体壁容器１１の側壁部１４内面へ膜が形成され、高周波電力の供給が阻害されることを防止する。 - 特許庁

In this quantitative determination method for trace boron by high-frequency inductively coupled plasma-mass spectroscopy, lithium is added to a sample solution, and the sample solution is introduced by an electric heating vaporizer.例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマ質量分析法による微量ホウ素の定量方法において、試料溶液にリチウムを添加し、電気加熱気化装置により試料溶液を導入する微量ホウ素の定量方法。 - 特許庁

A magnetic device is equipped with a certain number (not zero) of area windings and an additional closed current path (C3) inductively coupled (not zero) with an interval Ai.例文帳に追加

磁石装置は、ゼロでない面積巻線数を有すると共に、少なくとも一つの区間Ａｉとのゼロでない誘導的結合を有する少なくとも一つの付加的な閉じた電流路（Ｃ３）を備える。 - 特許庁

The plasma reactor comprises a high frequency power supply (43) inductively coupled to a reaction chamber to generate a high frequency magnetic field approximately vertical to a stand on which a wafer is mounted when treatment is conducted.例文帳に追加

プラズマ反応装置は、加工時にウエハが配置される基台に対してほぼ垂直な高周波磁場を生み出すために、反応室に誘導結合された高周波電源（４３）を備える。 - 特許庁