「inductively coupled」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To eliminate a nonuniformity in the circumferential direction caused by the structure of an inductively coupled plasma processing apparatus.例文帳に追加

誘導結合型プラズマ処理装置の構造に起因して生じる周方向の不均一性を除くことを目的とする。 - 特許庁

To provide a laser ablation inductively coupled plasma mass spectroscope capable of reducing variations in ion intensity.例文帳に追加

イオン強度のばらつきを低減させることができるレーザアブレーション誘導結合プラズマ質量分析装置を提供する。 - 特許庁

The inductor patterns 38 and 39 and the inductor pattern 40 and 41 are respectively inductively coupled.例文帳に追加

インダクタパターン３８と３９、並びに、インダクタパターン４０と４１は、それぞれ誘導結合している。 - 特許庁

In a preferred fluid treatment system 10, the stabilizer circuit 103 is inductively coupled with the electromagnetic radiation emission assembly 14.例文帳に追加

好ましい流体処理システム１０においては、安定器回路１０３は電磁放射線放出アセンブリ１４と誘導結合されている。 - 特許庁

FORMING METHOD OF HOLE OR GROOVE PART USING INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF INK JET HEAD例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置を利用した穴または溝部の形成方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁

A high dielectric constant material may be used as a material that forms a chamber of an inductively coupled type reactive ion etching device.例文帳に追加

誘導結合型反応性イオンエッチング装置のチャンバーをなす材料として高誘電率材料を用いることもできる。 - 特許庁

To provide a high-frequency inductively-coupled plasma source capable of forming plasma having a large outer diameter while restraining a coil diameter.例文帳に追加

コイル径を抑えつつより大きな外径を有するプラズマを形成することができる高周波誘導結合プラズマ源の提供。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma mass analyzer capable of continuously measuring a high matrix sample with a good reproducibility.例文帳に追加

高マトリクス試料を連続して再現性良く測定することのできる誘導結合プラズマ質量分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inductively-coupled plasma processing apparatus capable of enhancing uniformity of plasma density distribution in a longitudinal direction of an antenna.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマ処理装置において、アンテナの長手方向におけるプラズマ密度分布の均一性を高める。 - 特許庁

A processing chamber uses an antenna 30 which is driven by RF energy inductively coupled within the chamber.例文帳に追加

本発明の処理チャンバはチャンバ内に誘導結合されたＲＦエネルギーによって駆動されるアンテナ３０を用いる。 - 特許庁

An inductively coupled plasma etching apparatus is provided with a chamber and a window for sealing the opening of a chamber top part.例文帳に追加

誘電結合型プラズマエッチング装置は、チャンバと、チャンバ頂部の開口部を封止するための窓とを備える。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma reactor having etching rate uniformity improved through strengthening of RF control of an ICP source.例文帳に追加

ＩＣＰソースのＲＦ制御の強化を通して、改善されたエッチング速度均一性を有する誘導結合プラズマリアクタを提供する。 - 特許庁

To freely and minutely control the plasma density distribution by using a simple correction coil in an inductively coupled plasma process.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマプロセスにおいて簡易な補正コイルを用いてプラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that improves the in-plane uniformity of a workpiece in an inductively coupled plasma processing.例文帳に追加

誘導結合プラズマを用いるプラズマ処理において、被処理体の面内均一性を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma emission spectrochemical analyzer having a photometric height adjusting means that has a simple structure, is low cost, and is superior in operability.例文帳に追加

構造が簡単で、安価で、操作性に優れた測光高さ調整機構を有する誘導結合プラズマ分光分析装置を提供する。 - 特許庁

In the preferred fluid treatment system 10, the ballast circuit 103 is inductively coupled with the electromagnetic radiation emitting assembly 14.例文帳に追加

好ましい流体処理システム１０においては、安定器回路１０３は電磁放射線放出アセンブリ１４と誘導結合されている。 - 特許庁

To provide a high frequency inductively coupled plasma generating device allowing the formation of plasma in a larger and uniform plasma region.例文帳に追加

プラズマ領域の拡大および均一なプラズマの形成が可能な高周波誘導結合プラズマ生成装置の提供。 - 特許庁

To provide the subject laser ICP(inductively coupled plasma) analyzing method for sampling a fine particle sample from a high temperature sample such as a hot piece or the like to analyze the same.例文帳に追加

熱片等の高温の試料から微粒子試料を採取して分析を行う、高温試料のレーザーＩＣＰ分析方法を提供する。 - 特許庁

In the preferable fluid treatment system, the ballast circuit 103 is inductively coupled to the electromagnetic radiation emitting assembly 14.例文帳に追加

好ましい流体処理システム１０においては、安定器回路１０３は電磁放射線放出アセンブリ１４と誘導結合されている。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of preventing occurrence of notch as much as possible, when etching a micropattern on a processed substrate.例文帳に追加

処理基板に微細パターンをエッチングする際にノッチの発生を極力防止することができる誘導結合プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the device includes a third inductive antenna 28 inductively coupled to each of the second antennas of the plurality of chips.例文帳に追加

加えて、前記デバイスは、第３誘導アンテナ（２８）（複数のチップの第２アンテナのそれぞれに誘導結合されている）を具備している。 - 特許庁

Ina first region, the gradient of capacitive power to the inductively coupled source [dPCAP/dPRF] is greater than 0.例文帳に追加

第1領域では、誘導性結合した源にかけられる電力に対する容量性電力のグラディエント［∂Ｐ_cap／∂Ｐ_RF］は0より大きい。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing inductively coupled plasma wherein a plasma density distribution in the vicinity of a substrate can be controlled uniformly.例文帳に追加

基板付近でのプラズマ密度分布を均一に制御できる誘導結合プラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma (ICP) mass spectrometer and a mass spectrometry method which can perform mass spectrometry with a high degree of precision by preventing the atmosphere from flowing into a plasma.例文帳に追加

プラズマへの大気の流入を抑止し、高精度で分析できるＩＣＰ質量分析装置及び質量分析方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma generator capable of surely performing plasma ignition even in the case of an inexpensive igniter having a low output voltage.例文帳に追加

安価で出力電圧が低いイグナイタでも確実にプラズマ点火が可能な誘導結合プラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high-frequency inductively coupled plasma emission spectrometric analysis method of high analytical accuracy and high reliability for arsenic-containing solutions.例文帳に追加

砒素を含む溶液の高分析精度、高信頼性の高周波誘導結合プラズマ発光分光分析方法を提供する。 - 特許庁

An inductively coupled plasma etching system is provided with a chamber and a window for sealing the top opening of the chamber.例文帳に追加

誘電結合型プラズマエッチング装置は、チャンバと、チャンバ頂部の開口部を封止するための窓とを備える。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING GLASS-LIKE SILICA LAYER WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA TORCH AND PRODUCTION DEVICE TO BE USED例文帳に追加

誘導結合プラズマ・トーチを用いたガラス状シリカ層の製造方法及び使用される製造装置 - 特許庁

METHOD OF CONTROLLING SPATIAL DISTRIBUTION OF INDUCTIVELY- COUPLED PLASMA, AND PLASMA GENERATOR FOR EXECUTING THE METHOD AND ETCHING APPARATUS例文帳に追加

誘導結合プラズマの空間分布制御方法及びこの方法を実施するためのプラズマ発生装置及びエッチング装置 - 特許庁

The conductor layer 21 for the first inductor and the conductor layer 22 for the second inductor are disposed on one end of the laminated body 20, and are inductively coupled.例文帳に追加

第１のインダクタ用導体層２１および第２のインダクタ用導体層２２は、積層体２０の１つの端面に配置され、誘導性結合する。 - 特許庁

The induction coils 100, 110 are coupled to each other inductively for energy and/or data transmission along the drill rod 1.例文帳に追加

誘導コイル１００，１１０は、ドリルロッド１に沿ったエネルギあるいはデータの伝送のために電磁的に互いに結合される。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR ACTIVELY CONTROLLING RF PEAK-TO- PEAK VOLTAGE OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING SYSTEM例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置のＲＦピークトゥピーク電圧を能動的に制御する装置および方法 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma production device uniformalizing a film-forming or an etching speed in a wide area, through control of space distribution of plasma.例文帳に追加

プラズマの空間分布を制御して、広い面積で成膜またはエッチング速度を均一にする誘導結合型プラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma condition monitoring and/or controlling method in a plasma spectrometer, for example, an inductively coupled plasma optical- emission spectrometer or an inductively coupled plasma atomic-spectrometer (ICP-OES or ICP-MS), and a spectrometer for executing the method.例文帳に追加

プラズマ・スペクトロメーター、例えば、プラズマ光学放射スペクトロメーター又は原子スペクトロメーター（ＩＣＰ−ＯＥＳ又はＩＣＰ−ＭＳ）におけるプラズマの状態を監視及び／又は制御する方法、及びそのような方法を実行するスペクトロメーターに関する。 - 特許庁

The SiNxOyCz film is formed by using a CVD method in which a raw material gas including organic metals is decomposed using an inductively-coupled plasma (ICP) by applying RF bias to a base material 2 to be film-deposited and applying ICP output to a one-turn coil 6 to generate the inductively-coupled plasma.例文帳に追加

被成膜基材２にＲＦバイアスを印加し、１ターンのコイル６にＩＣＰ出力を印加して誘導結合プラズマを発生させ、誘導結合プラズマによって有機金属を含む原料ガスを分解するＣＶＤ法を用いることによりＳｉＮxＯyＣz膜を形成する。 - 特許庁

In an inductively coupled plasma processing apparatus, an RF antenna 54 provided on a dielectric window 52 for generating inductively coupled plasma is radially divided into an inner coil 58, an intermediate coil 60, and an outer coil 62.例文帳に追加

この誘導結合型プラズマ処理装置においては、誘導結合プラズマを生成するために誘電体窓５２の上に設けられるＲＦアンテナ５４が径方向で内側コイル５８、中間コイル６０および外側コイル６２に分割されている。 - 特許庁

Deformation of each inductively coupled coil is suppressed, even if it receives a mechanical impact and it swells by heat produced during lighting of the lamp, by fixing each inductively coupled coil by the coil-fixing connecting rod 21 and the coil-fixing piece.例文帳に追加

コイル固定用連結棒２１とコイル固定片２２とによって、誘導結合コイル２_1 、２_2 、…、２_6 の夫々を固定することで、各誘導結合コイル２_1 、２_2 、…、２_6 が機械的な衝撃を受けたり、ランプ点灯時の発熱で膨張したりしても変形が抑えられる。 - 特許庁

A plasma treatment apparatus, which has an inductively coupled type of plasma generator 30, is equipped with temperature keeping means 21 and 22, which keep the temperature of the section facing a treatment chamber of the inductively coupled type of plasma generator part 30 at a prescribed temperature or higher.例文帳に追加

誘導結合型プラズマ発生装置３０を有するプラズマ処理装置において、プラズマ発生休止時に、誘導結合型プラズマ発生装置部分３０の処理室へ面する部分の温度を所定温度以上に維持する温度維持手段２１，２２を備える。 - 特許庁

An injector tube for this inductively coupled plasma torch includes an outside injector tube 11 for introducing an atomized solution specimen, etc. into inductively coupled plasma, and an inside injector tube 12 integrally and concentrically housed in the outside injector tube for introducing gaseous molecules into the coupled plasma.例文帳に追加

誘導結合プラズマトーチのインジェクターチューブは、霧化された溶液試料等を誘導結合プラズマに導入するための外側インジェクターチューブ１１と、外側インジェクターチューブに一体的且つ同心状に収容され、気体状分子を誘導結合プラズマに導入するための内側インジェクターチューブ１２とを含む。 - 特許庁

A winding wd, for detection of a transformer T, is wound around a secondary iron core F2 so that the winding wd is not coupled inductively with a primary winding w1, but is coupled with a secondary winding w2.例文帳に追加

変圧装置Ｔの検出用巻線ｗｄは、一次巻線ｗ１に誘導結合されずに二次巻線ｗ２に誘導結合されるよう、副鉄心Ｆ２に巻装されている。 - 特許庁

The reactor includes a reactor chamber 1104 and a workpiece support 1103 within the chamber, the chamber having a ceiling 1108 facing the workpiece support, and an inductively coupled source power applicator 1114 and a capacitively coupled plasma source power applicator 1116.例文帳に追加

リアクタは、リアクタチャンバと、チャンバ内のワーク支持部とを備えており、チャンバは、ワーク支持部に面する天井と、誘導結合ソース電力アプリケータ及び容量結合プラズマソース電力アプリケータとを有している。 - 特許庁

The resonators 11, 12 are inductively coupled to each other, and capacitively coupled to capacitors 25, 26 connected in parallel via capacitors 27, 28 connected in parallel with the capacitors 25, 26.例文帳に追加

共振器１１，１２は、誘導結合していると共に、並列に接続されたキャパシタ２５，２６と並列に接続されたキャパシタ２７，２８を介して容量結合している。 - 特許庁

The reactor further includes a controller, responsive to the optical sensors for adjusting the relative amounts of power simultaneously coupled to plasma in the chamber by the inductively coupled plasma source power applicator 1114 and the capacitively coupled plasma source power applicator 1116.例文帳に追加

リアクタは、誘導結合プラズマソース電力アプリケータ及び容量結合プラズマソース電力アプリケータによってチャンバ内のプラズマに同時に結合される電力の相対量を調整する光学センサに応答するコントローラを更に備えている。 - 特許庁

An inductively coupled plasma processing apparatus is configured such that inductively coupled plasma is generated so as to have a doughnut shape under a dielectric window 52 close to an RF antenna 54 and the doughnut-shaped plasma is dispersed in a large processing space so as to level the plasma density near a susceptor 12 (namely, on a semiconductor wafer W).例文帳に追加

この誘導結合型プラズマ処理装置は、ＲＦアンテナ５４に近接する誘電体窓５２の下で誘導結合のプラズマをドーナツ状に生成し、このドーナツ状のプラズマを広い処理空間内で分散させて、サセプタ１２近傍（つまり半導体ウエハＷ上）でプラズマの密度を平均化するようにしている。 - 特許庁

This inductively coupled plasma-mass spectrometry or an inductively coupled plasma-optical emission analyzer comprises an oxygen or air permeable tube or an oxygen or air permeable membrane at least at a part of a gas supply line of gas introduced to plasma or a plasma forming gas, and a selector valve introducing the permeated oxygen to the gas supply line in only an optional time zone.例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置又は誘導結合プラズマ発光分析装置において、プラズマに導入されるガス或いはプラズマを形成するガスの供給ラインの少なくとも一部に、酸素又は空気透過性チューブ、若しくは、酸素又は空気透過性膜を備え、透過した酸素を任意の時間帯だけ前記ガス供給ラインに導入するための切替バルブを備えたことを特徴とする。 - 特許庁