「inductively coupled」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In addition, the monitoring system transmits measured data by means of electric power line communication between PLC modems 8-10 in slave units connected to the measuring devices 5-7 and a PLC modem 15 in a master unit inductively coupled to an electrical path at the side of the electric power conversion device 11.例文帳に追加

また、計測装置５〜７に接続された子機のＰＬＣモデム８〜１０と、電力変換装置１１側の電路に誘導結合した親機のＰＬＣモデム１５との間の電力線通信によって、計測データを送信する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma processor in which by- products can be prevented from adhering to a quartz window or by-products adhered to the quartz window can easily be removed.例文帳に追加

副生成物が石英窓に付着しないように、あるいは付着した副生成物を簡便にクリーニングできる誘導型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Etching gas G_E including hydrocarbon is supplied, and a high-frequency power P1 and a high-frequency power P2 are supplied to a bias-side electrode 13 and an inductively coupled coil 14 of the etching device 10, respectively, to generate plasma.例文帳に追加

炭化水素を含むエッチングガスＧ_Ｅを供給して、エッチング装置１０のバイアス側電極１３及び誘導結合コイル１４にそれぞれ高周波電力Ｐ１、Ｐ２を供給してプラズマを生成する。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing silicon nanocrystals using ICP (inductively coupled plasma) which can minimize plasma diffusion phenomena, thereby improving the particle size characteristics and qualities of the silicon nanocrystals.例文帳に追加

プラズマ拡散現象を最小化してシリコンナノ粒子の粒度及び品質を向上させることができるＩＣＰを用いたシリコンナノ粒子製造装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of portions, in the upper surface of the upper cladding layer which portions are arranged along the optical axis of the active layer, are exposed to inductively coupled plasma, and gain of the active layer is periodically modulated along the optical axis of the active layer.例文帳に追加

上部クラッド層の上面のうち活性層の光軸に沿って配置された複数の部分を誘導結合プラズマに曝露して、活性層の利得を活性層の光軸に沿って周期的に変調する。 - 特許庁

The spatial distribution of RF energy inductively coupled from the inductive element to the plasma may be adjusted by varying the pores of the porous deposition shields, the structure of the inductive element or the shape or thickness of the slot bath.例文帳に追加

プラズマに誘導素子から誘導的に結合されるＲＦエネルギーの空間的分布は、有孔のデポジション・シールドの孔、誘導素子の構成、若しくは溝槽の形状又は厚さの変更により調整されてよい。 - 特許庁

Further, residual dissolved solution is vaporized and dried, and then an evaporation residue is dissolved with dilute nitric acid to obtain recovery liquid, and a metal amount in the recovery liquid is determined by an inductively coupled plasma mass spectrometry.例文帳に追加

また、残りの溶解液を蒸発乾固後、蒸発残渣を希硝酸で溶解して回収液を得、この回収液中の金属量を誘導結合プラズマ質量分析法により定量した。 - 特許庁

The sealing material formed of rubber-based resin cross-linked foam is characterized in that the content of sulfur measured by a high-frequency inductively-coupled plasma emission spectrometry is equal to or less than 3,000 mass ppm.例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマ発光分析法で測定される硫黄分含有量が３，０００質量ｐｐｍ以下であることを特徴とするゴム系樹脂架橋発泡体からなるシーリング材である。 - 特許庁

To provide an analysis start time determination method capable of clearly obtaining a stable time in sample replacement and accurately obtaining the analysis start time of a sample, and an ICP (Inductively Coupled Plasma) light emission analyzer using the method.例文帳に追加

試料交換時の安定時間を明確に把握でき、また試料の分析開始時期を正確に把握することができる分析開始時期判断方法及び該方法に使用するＩＣＰ発光分析装置を提供する。 - 特許庁

To reduce cost while ensuring sensitivity in an inductively coupled plasma mass spectrometer for identifying and determining trace impurity elements in a sample solution.例文帳に追加

試料溶液中の微量不純物元素の同定・定量を行う誘導結合プラズマ質量分析装置において、感度を確保しつつ低価格化する。 - 特許庁

To provide a method for compensating sensitivity differences derived from chemical structures and configurations of silicon compounds, making emission intensity constant in an inductively-coupled plasma (ICP) optical emission spectrometry, and precisely determining the quantity of silicon.例文帳に追加

珪素化合物の化学構造や形態に由来する感度差を補正し、ＩＣＰ発光分析の発光強度を一定化して精度よく珪素量を定量する手法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In this quantitative determination method for the micro amount of boron, a hydrochloric acid-added solution provided by adding hydrochloric acid into the sample solution is measured in the quantitative determination method for the micro amount of boron using the inductively coupled plasma mass spectrograph (IPC-MS).例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置を用いた微量ホウ素の定量分析方法において、試料溶液に塩酸を添加して得られた塩酸添加溶液を測定する微量ホウ素の定量分析方法。 - 特許庁

The cleaning efficiency of chamber (1) is improved, by cleaning the chamber using the inductively-coupled plasma of the cleaning gas.例文帳に追加

フッ素を含むクリーニングガスの誘導結合プラズマを用いてチャンバーをクリーニングすることにより、チャンバー（１）のクリーニング効率が向上する。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a semiconductor devices, including a plasma treatment process using an inductively coupled plasma treatment device, in which electronic shading damages can be made difficult to generate, and working accuracy can be increased, and reliability can be increased.例文帳に追加

電子シェーディングダメージが発生しにくく、加工精度が高く、かつ信頼性の高い、誘導結合型プラズマ処理装置を用いたプラズマ処理工程を含む半導体装置の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

(1) Capture respirable dust of ITO, etc., with filtration method, then measure the concentration as element indium by inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS).例文帳に追加

(1)ろ過捕集方法によりＩＴＯ等の吸入性粉じんを捕集し、誘導結合高周波プラズマ質量分析装置(ＩＣＰ－ＭＳ)によりインジウムとしての濃度を測定する。 - 厚生労働省

Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) is a highly sensitive and efficient analyzer of inorganic element in solutions which comprises ICP to ionize metal plasma and mass spectrometer to separate and quantitate the ions.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ質量分析装置(ＩＣＰ－ＭＳ)は、高感度、高性能の溶液中無機元素分析装置であり、プラズマにより金属をイオン化するICP部とそのイオンを分離、定量する質量分析部から構成される。 - 厚生労働省

The resist film removal method attached on a processing surface of a workpiece includes: dry processing the resist film attached on the processing surface of the workpiece by supplying active hydrogen atom generated by an inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa; and dry processing by supplying active oxygen atom generated by the inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa and/or wet processing by medical liquid.例文帳に追加

被処理物の処理表面に付着したレジスト膜を除去する方法であって、被処理物の処理表面に付着したレジスト膜に対し、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性水素原子を供給することによるドライ処理と、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性酸素原子を供給することによるドライ処理及び／又は薬液によるウェット処理とを行う。 - 特許庁

In the analyzing method of the sulfur compound, xenon gas is supplied as a collision gas in an amount of 0.05 mL/min or larger, when the sulfur compound contained in hydrocarbon is qualitatively analyzed and analyzed quantitatively by a gas chromatograph-inductively coupled plasma mass spectrometer.例文帳に追加

炭化水素に含まれる硫黄化合物をガスクロマトグラフ−誘導結合プラズマ質量分析装置により定性及び定量分析する際に、コリジョンガスとしてキセノンガスを0.05mL/分以上供給することを特徴とする硫黄化合物の分析方法である。 - 特許庁

The plasma chemical vapor growth means performs film deposition to the film 3 by inductively coupled plasma generated by the plasma linear source 7, and, simultaneously with this film deposition, the ion etching treatment means performs ion etching treatment to the film 3 by ions from the ion etching roller 5.例文帳に追加

前記プラズマ化学気相成長手段は、プラズマリニアソース７により発生する誘導結合プラズマによってフィルム３に成膜を行い、この成膜と同時に前記イオンエッチング処理手段はイオンエッチングローラー５からのイオンによってフィルム３にイオンエッチング処理を行う。 - 特許庁

According to the present invention, by abundantly generating radicals and ions required for etching reaction by using the inductively coupled plasma source and the remote plasma source, etching reaction can be made active and etching efficiency can be improved.例文帳に追加

本発明によると、誘導結合プラズマ源とリモートプラズマ源とを使用してエッチング反応に必要なラジカルとイオンとを豊富に生成させることによって、エッチング反応が活発になってエッチング効率を向上させることができる。 - 特許庁

The agent for rendering the object to be treated contaminated with organic halogen compounds harmless is prepared from aluminum-nickel alloy powder having 1 to 43 wt.% nickel content in the alloy measured by the inductively coupled plasma emission spectros chemical analysis for aluminum alloys specified by JIS H1307.例文帳に追加

アルミニウム−ニッケル合金粉末からなり、該合金のニッケル含有量がＪＩＳ Ｈ１３０７のアルミニウム合金の誘導結合プラズマ発光分光分析方法による測定で１〜４３重量％である有機ハロゲン化合物で汚染された被処理物用無害化処理剤を製造し、用いる。 - 特許庁

The inductive decoupling assembly is so inductively coupled as to form the equal and opposite inductive coupling to the proper inductive coupling between the first and second loop coil so as to make the net inductive coupling between the loop coils to 0.例文帳に追加

誘導性デカップリングアセンブリは、第１及び第２のループコイル間の固有の誘導結合に等しく且つ反対の誘導結合を発生するように互いに誘導結合され、それによってループコイル間の正味の誘導結合を０にする。 - 特許庁

To provide a dry etching method, using a fluorine-based etching gas, especially one which uses ICP (inductively-coupled plasma) type low-pressure, high-density plasma, for effectively preventing unwanted particles without decreasing the productivity.例文帳に追加

弗素（フッ素）系エッチングガスを用いるドライエッチング方法、特にはＩＣＰ（誘導結合プラズマ）型の低圧高密度プラズマを用いるエッチング方法において、不所望なパーティクルの発生を効果的に防止でき、且つ生産性を損なうことのないものを提供する。 - 特許庁

The etching speed to be provided under the same condition without using a dummy wafer is stably maintained by carrying out a plasma etching process by O_2 gas by using this inductively coupled plasma etching device before a main process.例文帳に追加

本発明による誘導結合型プラズマエッチング装置を用いてＯ_2ガスによるプラズマエッチング処理を本処理前におこなうことで、ダミーウェハを用いなくても同一条件下において得られるエッチング速度を安定的に維持するを可能にした。 - 特許庁

In this manufacturing method of a protein chip substrate, plasma polymerized cyclohexane (PPCHex) and plasma polymerized ethylenediamine (PPEDA) having an amine functional group are deposited by using an inductively coupled plasma chemical vapor-phase deposition method.例文帳に追加

プラズマ重合されたサイクロ核酸（ＰＰＣＨｅｘ）と、アミン機能性グループを有するプラズマ重合されたエチレンダイアミン（ＰＰＥＤＡ）を誘導結合型プラズマ化学気相蒸着法を用いて蒸着するタンパク質チップ基板の製造方法を構成する。 - 特許庁

This chamber cleaning method comprises the steps of supplying the cleaning gas, which contains fluorine to a chamber (1) and cleaning the chamber (1) by generating a inductively-coupled plasma to the chamber (1) under the condition where the cleaning gas is introduced into the chamber (1).例文帳に追加

本発明によるチャンバークリーニング方法は、フッ素を含むクリーニングガスをチャンバー（１）に供給することと、そのクリーニングガスがチャンバー（１）に導入された状態で、誘導結合プラズマをチャンバー（１）に発生し、チャンバー（１）をクリーニングすることとを備えている。 - 特許庁

The inductively coupled plasma torch includes a guide retained in the tip part neighborhood of the injector tube, and this guide has a through hole retaining the capillary tube concentrically with the injector tube and a means to make the makeup gas pass through.例文帳に追加

本発明の誘導結合プラズマトーチは、インジェクターチューブの先端部分近傍に保持されたガイドを含み、このガイドが、キャピラリーチューブをインジェクターチューブと同心に保持する貫通孔と、メイクアップガスを通過させる手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

This polyamide composition is characterized in that the composition comprises an aromatic polyamide having ≥290°C melting point, exhibits V-0 classification in a flammability test according to UL-94 standard and contains ≤400 ppm of sodium ion measured by an inductively coupled plasma emission spectrometry.例文帳に追加

融点が２９０℃以上である芳香族ポリアミドを含んで成り、ＵＬ−９４規格に従って行う燃焼試験において、評価がＶ−０であり、且つ誘導プラズマ発光分析によって測定したナトリウムイオンの量が４００ｐｐｍ以下であることを特徴とするポリアミド組成物。 - 特許庁

After dissolving again the metal impurities in the dilute nitric acid 5, the liquid drops are recovered to measure the kinds and quantities of the trace amount of metal impurities existent on the surface of the semiconductor substrate 1 by atomic absorption method or inductively coupled plasma/mass spectrometry.例文帳に追加

金属不純物を希硝酸５の中に再溶解させた後、液滴を回収し、原子吸光分析法あるいは誘導結合プラズマ質量分析法によって半導体基板表面上に存在する極微量金属不純物の種類および量を測定する。 - 特許庁

In the LC resonance oscillation circuit, a capacitance element (C2) and a switch element (SW1) are parallel connected between both terminals of a secondary inductance element (L2) which is arranged facing an inductance element (L1) that constitutes the LC resonance circuit to be mutually inductively coupled.例文帳に追加

ＬＣ共振型発振回路において、ＬＣ共振回路を構成するインダクタンス素子（Ｌ１）と対向するように配置され相互誘導結合される二次側インダクタンス素子（Ｌ２）の両端子間に、容量素子（Ｃ２）とスイッチ素子（ＳＷ１）とを並列に接続する。 - 特許庁

To weaken inductive coupling between a first resonator and a third resonator, and to readily adjust the inductive coupling between two optional resonators, in a laminated band-pass filter where a second resonator is inductively coupled with each of the first resonator and the third resonator.例文帳に追加

第２の共振器が第１の共振器と第３の共振器の各々と誘導性結合する積層型バンドパスフィルタにおいて、第１の共振器と第３の共振器との間の誘導性結合を弱めると共に、任意の２つの共振器間の誘導性結合の調整を容易にする。 - 特許庁

To provide a shield system usable with an inductively coupled plasma sputtering reactor, which protects a chamber wall from sputter deposition and is replaced after a fixed number of deposition cycles such that accumulated deposition material does not flake off and form particles.例文帳に追加

チャンバー壁をスパッタ堆積から保護するもので、蓄積した堆積材料が剥げ落ちて粒子を形成しないように固定数の堆積サイクル後に交換される、誘導結合プラズマスパッタリアクタと共に使用可能なシールドシステム提供する。 - 特許庁

To provide a cover fixture, capable of suppressing, in an inductively-coupled plasma treatment device, breakage of a cover which covers the lower surface of a window member and generation of particles while facilitating the attachment/detachment of the cover, and further enhancing the flexibility in design of gas introduction.例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置において、窓部材の下面を覆うカバーの破損とパーティクルの発生を抑制でき、且つカバーを容易に着脱できるようにするとともに、ガス導入の設計自由度を高め得るカバー固定具を提供する。 - 特許庁

The power line communication device 1 employing a power line P as a transmission path includes an inductive coupling section 2 for injecting and/or taking a signal with respect to the power line P and receiving power form the power line P by being inductively coupled to the power line P.例文帳に追加

電力線Ｐを信号の伝送路として使用する電力線通信装置１であって、前記電力線Ｐに対して誘導結合することで、前記電力線Ｐに対する信号の注入及び／又は取出を行うとともに前記電力線Ｐから給電を受ける誘導結合部２を備えている。 - 特許庁

To provide a method for determining a metal accurately by simple pretreatment and sample preparation by using a general analyzer such as an inductively coupled plasma mass spectrometer, in a resist cleaning agent such as ethylene carbonate including various resist-originated components after resist cleaning processing or reproduction processing.例文帳に追加

レジスト洗浄処理や再生処理後の各種レジスト由来成分を含む炭酸エチレン等のレジスト洗浄剤において、誘導結合プラズマ質量分析装置等の一般的な分析装置を用いて、簡便な前処理、試料調製により精度よく金属定量を行なう方法を提供する。 - 特許庁

In a process S106, oxygen gas oxygen plasma is used to supply a high-frequency power P3 to the inductively coupled coil 14 without supplying any high-frequency power to the bias-side electrode 13, and plasma ashing of oxygen gas G_O2 is performed to remove an etching deposit.例文帳に追加

工程Ｓ１０６では、酸素ガス酸素プラズマを用いて、バイアス側電極１３に高周波電力を供給すること無く誘導結合コイル１４に高周波電力Ｐ３を供給して、酸素ガスＧ_Ｏ２のプラズマアッシングを行ってエッチング堆積物を除去する。 - 特許庁

When, using silane gas and ammonia gas as raw material gas, a silicon nitride film is formed by an inductively coupled plasma CVD process, film formation is performed in such a manner that effective power calculated by prescribed calculation formula is controlled to 3 to 30 W/sccm to the feed flow rate of the ammonia gas.例文帳に追加

原料ガスとして、シランガスおよびアンモニアガスを用い、誘導結合プラズマＣＶＤ法によって窒化珪素膜を成膜するに際し、アンモニアガスの供給流量に対し、所定の計算式で算出される有効パワーを３〜３０Ｗ／ｓｃｃｍとして成膜を行う。 - 特許庁

A coil-fixing connecting rod 21 having a length almost equal to the length of an arc tube 1 is provided between two conductive wires 31 and 32 of this electrodeless discharge lamp 20, and each inductively coupled coil is mechanically connected to the coil-fixing connecting rod 21 through a coil-fixing piece.例文帳に追加

無電極放電ランプ２０の２本の導電線３_1 、３_2 の間に発光管１の長さと略同一の長さのコイル固定用連結棒２１を設け、このコイル固定用連結棒２１にコイル固定片２２を介して各誘導結合コイル２_1 、２_2 、…、２_6 を機械的に接続する。 - 特許庁

A high-frequency antenna 106 for generating an inductively coupled plasma and an annular upper moving-magnetic-field forming part 300 are provided via a ceiling wall 105 configured of a plate-like insulating member so as to face a placing table, provided inside a pressure-reducible treatment chamber 102.例文帳に追加

減圧可能な処理室１０２内に設けられた載置台に対向するように，板状絶縁部材で構成した天井壁１０５を介して誘導結合プラズマを生成するための高周波アンテナ１０６と環状の上部移動磁場形成部３００とを設けた。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of symmetrically and uniformly generating a plasm density distribution throughout the center part and an outer periphery by forming openings for entering a processing gas at the center part of the lower part in a reaction chamber and a side surface thereof and by providing fan-shaped antennas below the reaction chamber.例文帳に追加

反応チャンバ内の下部中央部及び側面に処理ガスの流入口を形成し、反応チャンバ下部に扇形アンテナを具備することでプラズマ密度分布を中央部と外郭にかけて対称的でかつ均一に発生させることができる誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a hole or a groove part using an inductively coupled plasma etching device free to maintain etching speed and working quality and a manufacturing method of an ink jet head.例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置において、処理時間や処理枚数の増加にともない、チャンバー内壁へフッ素化合物のポリマーが付着していくことによる、エッチング速度低下改善およびノズル穴または溝部の深さ方向に対する垂直性およびウェハ面内の深さバラツキ低減方法の確立。 - 特許庁

This inductively-coupled plasma processing device is structured such that, even at any one point on the outermost periphery of a processing object 2, all lines passing through the inside of a plasma introduction opening 12 from the one point have intersecting points on the inner surface of a bottom surface part 13 of the dielectric wall vessel 11.例文帳に追加

被処理物２の最外周上のいずれの一点においても、当該一点から前記プラズマ導入口１２内を通る直線が総て誘電体壁容器１１の底面部１３の内面上に交点を有する誘導結合形プラズマ処理装置とする。 - 特許庁

To provide a small-sized desolvating apparatus used in an inductively coupled plasma analysis method, or the like, which does not cause reduction in the sensitivity or in the memory effects, due to the adhesion to a tube and the obstruction due to oxides and has high-speed response of analysis signal.例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析法等で用いられる脱溶媒装置において、チューブへの付着による感度減少とメモリー効果、並びに酸化物による妨害が起こらない、小型で分析信号の応答が速い脱溶媒装置を提供する。 - 特許庁

By using an inductively coupled plasma etching apparatus, the surface of the semiconductor substrate 101 is etched by Cl_2 gas and SiCl_4 gas under the etching pressure lower than 20 mTorr, and the via hole 103 whose cross-sectional shape becomes wide toward the bottom part from the opening is formed.例文帳に追加

誘導結合プラズマエッチング装置を用いて、Ｃl_2ガスとＳiＣl_4ガスによりエッチング圧力が２０ｍＴorr未満で半導体基板１０１の表面からエッチングすることによって、断面形状が開口部よりも底部に向って広いバイアホール１０３を形成する。 - 特許庁

To prevent a semiconductor device from deteriorating in reliability by a method, wherein a transistor capable of recovering its characteristics is in a state where a gate insulating film suffers no damage, even if wirings are formed through an inductively coupled plasma etching method.例文帳に追加

誘導結合型プラズマを用いて等価回路で表した場合に保護ダイオードに接続されるような配線加工を行うと、電気遮蔽効果によりトランジスタのゲート酸化膜が破壊され、トランジスタ性能が低下するという問題の解決を図る。 - 特許庁