「insulating-film」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

An inter-electrode insulating film 6 and a germanium film 7a are formed.例文帳に追加

電極間絶縁膜６、ゲルマニウム膜７ａを形成する。 - 特許庁

A gate electrode film 120 is then formed on the gate insulating film 100.例文帳に追加

次いでゲート絶縁膜１００上にゲート電極膜１２０を形成する。 - 特許庁

A low-k film 9 is formed on an interlayer insulating film 5.例文帳に追加

層間絶縁膜５上にＬｏｗ−ｋ膜９が形成される。 - 特許庁

The insulating protective film is formed on the lower metal film on the surface of a wafer.例文帳に追加

ウェハ表面の下層金属膜上に絶縁性保護膜を形成する。 - 特許庁

A photosensitive resin film 210 is formed on a protective insulating film 120.例文帳に追加

保護絶縁膜１２０上に感光性樹脂膜２１０を形成する。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING SILICON STEEL SHEET WITH INSULATING FILM HAVING EXCELLENT FILM APPEARANCE例文帳に追加

被膜外観に優れた絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法 - 特許庁

Moreover, the storage capacitor is formed with the light shielding film, the insulating film and the pixel electrode.例文帳に追加

また遮光膜／絶縁膜／画素電極で保持容量を形成している。 - 特許庁

A second shield film 5 is provided on a second insulating film 72.例文帳に追加

第２のシールド膜５は、第２の絶縁膜７２の上に備えられている。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, INSULATING FILM, AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、絶縁膜およびその形成法 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

膜形成用組成物、絶縁膜及びそれを用いた電子デバイス - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜および電子デバイス - 特許庁

The capacitor insulating film is composed by introducing the dielectric film.例文帳に追加

この誘電体膜が導入されてなるキャパシタ絶縁膜。 - 特許庁

Exfoliation between the diffusion preventing film and the insulating film can be reduced.例文帳に追加

また拡散防止膜及び絶縁膜間の剥がれを少なくすることができる。 - 特許庁

POLYMER, COMPOSITION FOR FORMING FILM, INSULATING FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

ポリマー、膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, ITS PREPARATION PROCESS AND INSULATING FILM-FORMING MATERIAL例文帳に追加

膜形成用組成物、その製造方法および絶縁膜形成用材料 - 特許庁

The interlayer insulating film 9 is formed on the coating film 6.例文帳に追加

層間絶縁膜９は被覆膜６上に形成されている。 - 特許庁

The second insulating film is provided inside the charge storage film.例文帳に追加

第２の絶縁膜は電荷蓄積膜の内側に設けられている。 - 特許庁

To increase the mechanical strength of a low-dielectric-constant film used as an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜に用いる低誘電率膜の機械的強度を増加する。 - 特許庁

ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR INSULATING LAYER MATERIAL AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

有機薄膜トランジスタ絶縁層材料及び有機薄膜トランジスタ - 特許庁

Thus, an interlayer insulating film 154 of the silicon oxide film is formed.例文帳に追加

これにより、シリコン酸化膜による層間絶縁膜１５４を形成する。 - 特許庁

Then, an interlayer insulating film 32 is deposited via a silicon nitride film 31.例文帳に追加

次いで、シリコン窒化膜３１を介して層間絶縁膜３２を堆積する。 - 特許庁

By removing the etching-stop film, a second interlayer insulating film 116 is formed.例文帳に追加

エッチング停止膜を除去し、第２の層間絶縁膜１１６を形成する。 - 特許庁

GATE INSULATING FILM, THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

ゲート絶縁膜、薄膜トランジスタ基板及びその製造方法 - 特許庁

The metal film 3b is covered with a gate insulating film 15.例文帳に追加

また、金属膜３ｂは、ゲート絶縁膜１５によって覆われる。 - 特許庁

An interlayer insulating film 127 and an ITO film are formed over a whole face.例文帳に追加

その後、全面に層間絶縁膜１２７及びＩＴＯ膜を形成する。 - 特許庁

A capping film 40 is formed on the third insulating film 38.例文帳に追加

第３絶縁膜３８上にキャッピング膜４０を形成する。 - 特許庁

A metallic film is formed on the insulating film so as to embed the recess.例文帳に追加

凹部内を埋め込むように、絶縁膜の上に金属膜を形成する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FILM FORMATION, AND INSULATING FILM AND ELECTRONIC DEVICE OBTAINED USING THE SAME例文帳に追加

膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜および電子デバイス - 特許庁

A first metal film 20 is formed on the inter-layer insulating film 17.例文帳に追加

層間絶縁膜１７上に第１金属膜２０を形成する。 - 特許庁

ORGANIC GATE INSULATING FILM AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR USING THE SAME例文帳に追加

有機ゲート絶縁膜およびこれを用いた有機薄膜トランジスタ - 特許庁

The metallic film is chemically and mechanically polished until the surface of the insulating film is exposed.例文帳に追加

金属膜を、絶縁膜の表面が露出するまで化学機械研磨する。 - 特許庁

The inter-layer insulating film is thinned by the etch-back of the polysilicon film 33.例文帳に追加

ポリシリコン膜３３のエッチバックにより層間絶縁膜が薄くなる。 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM PRODUCED BY USING THE SAME AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜および電子デバイス - 特許庁

PREPARATION METHOD OF POLYMER, FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

重合体の製造法、膜形成用組成物、絶縁膜および電子デバイス - 特許庁

The silicon oxide film 3 is then defined as a second gate insulating film.例文帳に追加

そして、前記シリコン酸化膜３を第２のゲート絶縁膜とする。 - 特許庁

A controlled film 9 is formed on the gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜の上に被制御膜９が形成されている。 - 特許庁

MULTILAYER FILM, METHOD FOR FORMATION THEREOF, INSULATING FILM, AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR例文帳に追加

積層膜、積層膜の形成方法、絶縁膜ならびに半導体用基板 - 特許庁

An interlayer insulating film 10a is formed on the stepped film 10.例文帳に追加

段差膜１０上に層間絶縁膜１０ａを形成する。 - 特許庁

An insulating film is formed on the substrate including the above part of the second metal film.例文帳に追加

次に、第２の金属膜上を含む基板上に絶縁膜を形成する。 - 特許庁

POLYMER, FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

ポリマー、膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, MANUFACTURE THEREOF AND MATERIAL FOR LAYER INSULATING FILM例文帳に追加

膜形成用組成物、その製造方法および層間絶縁膜用材料 - 特許庁

The insulating film 8 can reduce a light reflecting amount by the metal film 5.例文帳に追加

絶縁膜８は金属膜５による光の反射量を低減できる。 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM USING THE COMPOSITION AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用組成物、該組成物を用いた絶縁膜及び電子デバイス - 特許庁

INSULATING FILM FORMATION COMPOSITION, AS WELL AS, SILICA SYSTEM FILM AND ITS FORMING METHOD例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物、ならびにシリカ系膜およびその形成方法 - 特許庁

LAMINATE FILM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

積層体膜、積層膜の製造方法、絶縁膜ならびに半導体装置 - 特許庁