「insulating-film」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film forming method for an insulating film capable of forming an insulating film which is excellent in insulation characteristic at a high film-formation rate.例文帳に追加

絶縁特性に優れた絶縁膜を高い成膜レートで成膜することができる絶縁膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

Further, after a thin film circuit is formed on the insulating film, the insulating film in the via hole is removed to expose the thin film circuit.例文帳に追加

さらに前記絶縁膜上に薄膜回路を形成した後、前記ビアホールにおいて前記絶縁膜を除去して薄膜回路を露出させる。 - 特許庁

In an interface between an insulating film and the variable-phase film, a hollow is formed in the insulating film and a part of the variable-phase film is embedded in this hollow.例文帳に追加

絶縁膜と相変化膜との界面において、絶縁膜に窪みを形成し、この窪みに相変化膜の一部を埋め込む。 - 特許庁

To provide a method of measuring a film thickness of an insulating film which enables film thickness measurement of an insulating film made of a material having different properties from a calibration test piece.例文帳に追加

校正試験片と物性の異なる材料の絶縁膜の膜厚測定を可能とする絶縁膜の膜厚測定方法を提供する。 - 特許庁

On the floating surface insulating film 20 of a recording element and a yoke 26, a plating undercoat film 38, a nonmagnetic insulating film 37 and an etching stopper film 60 are formed.例文帳に追加

記録素子の浮上面絶縁膜２０とヨーク２６上にめっき下地膜３８、非磁性絶縁膜３７、エッチングストッパ膜６０を形成する。 - 特許庁

Consequently, the insulating film 6a formed by the CVD method can be improved to nearly the same film property with an insulating film formed of a heat oxide film.例文帳に追加

これにより、ＣＶＤ法で形成された絶縁膜６ａを、熱酸化膜で形成された絶縁膜と同等程度の膜質に改善できる。 - 特許庁

The magnetic detecting element comprises a first soft magnetic film formed on an insulating board, and a second soft magnetic film formed on the first soft magnetic film via an insulating film.例文帳に追加

絶縁基板上に第１の軟磁性膜を形成し、第１の軟磁性膜の上に絶縁膜を介して第２の軟磁性膜を形成する。 - 特許庁

By covering a side wall of a tunnel insulating film 5 with a side wall protection film 3' before removal of the buried insulating film 4 in an air gap AG1, the tunnel insulating film 5 can be protected even when etching selectivity of wet processing between the buried insulating film 4 and the tunnel insulating film 5 cannot be secured.例文帳に追加

空隙ＡＧ１の埋め込み絶縁膜４が除去される前に側壁保護膜３´にてトンネル絶縁膜５の側壁を覆うことにより、埋め込み絶縁膜４とトンネル絶縁膜５との間でウェット処理のエッチング選択比が確保できない場合においても、トンネル絶縁膜５を保護できるようにする。 - 特許庁

A second insulating film 7 within a second region is changed to a second insulating film 7b having a high relative permittivity by irradiating an ultravilet light with a first region to be an interconnection region coated by a shielding film after a first insulating film 6, the second insulating film 7, and a third insulating film 8 are sequentially laminated.例文帳に追加

第１絶縁膜６、第２絶縁膜７、第３絶縁膜８を順次積層した後、配線領域となる第１領域を遮蔽膜によって被覆した状態で、紫外線を照射することで、第２領域内の第２絶縁膜７を比誘電率の高い第２絶縁膜７ｂに変化させる。 - 特許庁

A multilayer insulating film consisting of a first insulating film 33, a first hydrogen barrier film 34, and a second insulating film 35 is formed on the first interlayer insulating film 20 on the periphery of the first plug electrode 21, and a second contact hole H2 is formed by etching the multilayer insulating film.例文帳に追加

次に、この第１プラグ電極２１周辺の第１層間絶縁膜２０上に第１絶縁膜３３と第１水素バリア膜３４と第２絶縁膜３５とからなる積層構造の絶縁膜を形成し、この積層構造の絶縁膜をエッチングして、第２コンタクトホールＨ２を形成する。 - 特許庁

CYANATE ESTER-CONTAINING INSULATING COMPOSITION AND INSULATING FILM AND MULTILAYER PRINTED CIRCUIT BOARD EQUIPPED WITH INSULATING FILM PREPARED FROM THE COMPOSITION例文帳に追加

シアナートエステル含有絶縁組成物、これから製造した絶縁フィルム及び絶縁フィルムを備える多層印刷回路基板 - 特許庁

ORGANIC INSULATING MATERIAL, VARNISH FOR INSULATING FILM USING THE SAME, INSULATING FILM, ITS MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

有機絶縁材料、それを用いた絶縁膜用ワニス、絶縁膜及びその製造方法並びに半導体装置 - 特許庁

The thickness of the insulating films 12A, 12B differ each other and the thickness of the insulating film 12B is the thinnest gate insulating film on the substrate 10.例文帳に追加

絶縁膜１２Ａ，１２Ｂは、厚さが異なり、絶縁膜１２Ｂは基板１０上で最も薄いゲート絶縁膜である。 - 特許庁

A field drain insulating part 120 has a first insulating film 126 and a high dielectric-constant insulating film 124.例文帳に追加

フィールドドレイン絶縁部１２０は、第１絶縁膜１２６及び高誘電率絶縁膜１２４を有している。 - 特許庁

To improve adhesiveness between an interlayer insulating film and the other insulating films while keeping a dielectric constant of the interlayer insulating film low.例文帳に追加

層間絶縁膜の誘電率を低く保ちつつ、層間絶縁膜と他の絶縁膜との密着性を改善する。 - 特許庁

The surface of the interlayer insulating film to be formed between the gate wiring and the data wiring is flattened by using a thick organic insulating layer as the interlayer insulating film.例文帳に追加

また、ゲート配線とデータ配線間に形成する層間絶縁膜を厚い有機絶縁層で形成して表面を平坦化する。 - 特許庁

To provide a coating liquid for forming an insulating film which can form an insulating film having a low relative dielectric constant and exhibiting excellent insulating performances.例文帳に追加

比誘電率が低い絶縁性能に優れた絶縁膜を形成し得る絶縁膜形成用塗布液を提供する。 - 特許庁

The interlayer insulating film 19, which is connected directly to the capacitor 17 in the interlayer insulating films 19 and 21, is constituted of an organic insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜１９、２１のうちの、少なくともキャパシタ１７に直接接する層間絶縁膜１９を、有機絶縁膜で構成する。 - 特許庁

To improve the adhesiveness between the interlayer insulating film and other insulating films while keeping a dielectric constant of an interlayer insulating film low.例文帳に追加

層間絶縁膜の誘電率を低く保ちつつ、層間絶縁膜と他の絶縁膜との密着性を改善する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CAPACITOR HAVING TANTALUM OXIDE FILM AS INSULATING FILM例文帳に追加

タンタル酸化物膜を絶縁膜として有するキャパシタの製造方法 - 特許庁

As the capacitance insulating film 3, a Bi_1-YLa_YFe_1-XNi_XO_3 film is formed.例文帳に追加

容量絶縁膜３としては、Ｂｉ_1-YＬａ_YＦｅ_1-XＮｉ_XＯ_3膜が形成されている。 - 特許庁

DIELECTRIC FILM, CAPACITOR INSULATING FILM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

誘電体膜、キャパシタ絶縁膜及びスパッタリングターゲット - 特許庁

An insulating film 35 and a titanium nitride film 36 are formed on the wafer 11.例文帳に追加

ウェハ１１上に絶縁膜３５および窒化チタン膜３６を形成する。 - 特許庁

ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET WITH EXTREMELY SUPERIOR FILM CHARACTERISTIC AND METHOD FOR FORMING INSULATING FILM例文帳に追加

被膜特性の極めて優れた電磁鋼板とその絶縁被膜形成方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE WITH GATE INSULATING FILM HAVING DIFFERENT FILM THICKNESS例文帳に追加

膜厚が異なるゲート絶縁膜を有する半導体装置の製造方法 - 特許庁

The gate insulating film 5 and the protective film 6 consist of high permittivity films.例文帳に追加

ゲート絶縁膜５及び保護膜６は、高誘電率膜からなる。 - 特許庁

A BiFe_1-XCr_XO_3 film is formed as the capacitance insulating film 3.例文帳に追加

容量絶縁膜３としては、ＢｉＦｅ_1-XＣｒ_XＯ_3膜が形成されている。 - 特許庁

The conductive film layer and the insulating film layer are alternately formed in a multilayer.例文帳に追加

導電性膜層と絶縁性膜層とは交互に多層に形成する。 - 特許庁

To prevent deterioration of characteristics of a ferroelectric film constituting a capacity insulating film.例文帳に追加

容量絶縁膜を構成する強誘電体膜の特性劣化を防止する。 - 特許庁

An insulating film 4 is formed on the electron emitting film 3.例文帳に追加

電子放出膜３上には絶縁膜４が形成されている。 - 特許庁

By these steps, a gate insulating film using a metal oxide film is manufactured.例文帳に追加

これにより、金属酸化膜を用いたゲート絶縁膜を製造する。 - 特許庁

An antireflection film 14 is formed on the upper part of an interlayer insulating film 12.例文帳に追加

層間絶縁膜１２の上部に反射防止膜１４を成膜する。 - 特許庁

SILICON POLYMER, COMPOSITION FOR FORMING FILM AND MATERIAL FOR FORMING INSULATING FILM例文帳に追加

ケイ素ポリマー、膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 - 特許庁

(c) A silicon film is formed on the surface of the insulating film and the substrate.例文帳に追加

（ｃ）絶縁性の膜、及び基板の表面にシリコン膜を形成する。 - 特許庁

In that case, the charge voltage is varied according to the film thickness of the insulating film.例文帳に追加

その際、上記絶縁膜の膜厚に応じてチャージ電圧を変化させる。 - 特許庁

An interlayer insulating film 60 is formed on the silicon nitride film.例文帳に追加

次に、シリコン窒化膜上に層間絶縁膜６０を形成する。 - 特許庁

An etching stopper film 2 is formed on an interlayer insulating film 1.例文帳に追加

層間絶縁膜１の上にエッチングストッパ膜２が形成される。 - 特許庁

A polysilicon film 16X is formed on the gate insulating film 14.例文帳に追加

ゲート絶縁膜上に、ポリシリコン膜１６Ｘを成膜する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 5 is formed on the etching stopper film 4.例文帳に追加

エッチングストッパ膜４の上には層間絶縁膜５が形成される。 - 特許庁

On a 1st insulating film 3, the 1st conductive film pattern 5 is formed first.例文帳に追加

まず、第１絶縁膜３上に第１導電膜パターン５を形成する。 - 特許庁

A substrate 1 includes an insulating film 10 and a wiring film 12.例文帳に追加

基板１は、絶縁膜１０と配線膜１２を含んでいる。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LOW DIELECTRIC CONSTANT FILM, INSULATING FILM AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

低誘電率膜形成用組成物、絶縁膜及び電子デバイス - 特許庁

A substrate 1 includes an element forming film on an insulating film 2.例文帳に追加

基板１は、絶縁膜２上に素子形成膜を備えている。 - 特許庁

The insulating film 2 is formed so as to coat the silicon oxide film 1.例文帳に追加

シリコン酸化膜１を覆うように絶縁膜２が形成されている。 - 特許庁

DIELECTRIC FILM, INSULATING FILM OF CAPACITOR AND THEIR DEPOSITING METHOD例文帳に追加

誘電体膜及びキャパシタ絶縁膜、並びにこれらの膜の作製方法 - 特許庁