「insulating-film」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

GATE INSULATING FILM, METHOD OF EVALUATING GATE INSULATING FILM, SEMICONDUCTOR ELEMENT, ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

ゲート絶縁膜、ゲート絶縁膜の評価方法、半導体素子、電子デバイスおよび電子機器 - 特許庁

ETHYNYL GROUP-CONTAINING ORGANIC ALICYCLIC COMPOUND, INSULATING FILM-FORMING MATERIAL, INSULATING FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

エチニル基含有有橋脂環式化合物、絶縁膜形成材料、絶縁膜及びその製造方法 - 特許庁

After an insulating film 44 is formed on a substrate, a groove 44a is formed in the insulating film 44.例文帳に追加

基板の上方に絶縁膜４４を形成した後、絶縁膜４４に溝４４ａを形成する。 - 特許庁

To accurately evaluate plasma damage that a gate insulating film receives when forming an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜形成時にゲート絶縁膜が受けるプラズマダメージを正確に評価する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC INSULATING FILM AND ORGANIC INSULATING FILM PREPARED FROM IT例文帳に追加

有機絶縁膜形成用組成物およびこれから製造された有機絶縁膜 - 特許庁

The permittivity of an interlayer insulating film 20 is set to be larger than that of an interlayer insulating film 30.例文帳に追加

層間絶縁膜２０の誘電率は層間絶縁膜３０の誘電率よりも高く設定されている。 - 特許庁

Afterwards, a layer insulating film (ILD) 110 and an intra-metal insulating film (IMD) 112 are deposited.例文帳に追加

その後層間絶縁膜（ＩＬＤ）１１０および金属内絶縁膜（ＩＭＤ）１１２が堆積される。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM AND INSULATING FILM FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加

絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物及び有機エレクトロルミネッセンス素子用絶縁膜 - 特許庁

EVALUATING METHOD FOR INSULATING FILM, INSULATING FILM, SEMICONDUCTOR ELEMENT, ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

絶縁膜の評価方法、絶縁膜、半導体素子、電子デバイスおよび電子機器 - 特許庁

A gate electrode 11 is provided on a part of the insulating film 9 and the gate insulating film 10.例文帳に追加

絶縁膜９の一部およびゲート絶縁膜１０の上には、ゲート電極１１が設けられている。 - 特許庁

An insulating film 5 is formed on the insulating film 1 to cover the metal films 4a to 4c.例文帳に追加

絶縁膜１上には、金属膜４ａ〜４ｃを覆って絶縁膜５が形成されている。 - 特許庁

The first insulating film 5 and the second insulating film 4 contains high permeability magnetic material.例文帳に追加

第１絶縁膜５及び第２絶縁膜４は、高透磁率磁性材料を含む。 - 特許庁

A 2nd insulating film 4b is formed on the 1st insulating film to close the opening of the groove.例文帳に追加

第２絶縁膜４ｂは、溝の開口を塞ぐように第１絶縁膜上に形成される。 - 特許庁

The first insulating film 6 surrounds the memory cells 1 on the first insulating film 5 and the first signal lines 2.例文帳に追加

第１層間絶縁膜６は、第１絶縁膜５及び第１信号線２上に、メモリセル１を囲む。 - 特許庁

The first insulating film 107a and the second insulating film 107b constitute a current constriction layer 107.例文帳に追加

第１の絶縁膜１０７ａおよび第２の絶縁膜１０７ｂが電流狭窄層１０７を構成する。 - 特許庁

A separation layer 52, a base insulating film 1, and a gate insulating film 4 are formed on the temporary substrate 51.例文帳に追加

仮基板５１上に分離層５２、下地絶縁膜１およびゲート絶縁膜４を形成する。 - 特許庁

An upper insulating film is filled into a space above the lower insulating film in the trench.例文帳に追加

トレンチ内の、下部絶縁膜よりも上の空間に、上部絶縁膜が充填されている。 - 特許庁

Subsequently, an interlayer insulating film 12 is formed on the underlying interlayer insulating film 10 by plasma process.例文帳に追加

その後、下地層間絶縁膜１０の上にプラズマプロセスによって層間絶縁膜１２を形成する。 - 特許庁

A gate electrode having an insulating film is formed on the upper side of the gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜上に、その上部に絶縁膜を有するゲート電極を形成する。 - 特許庁

A flattened insulating film 19 is formed on the underlayer insulating film 5 including the wiring pattern 11.例文帳に追加

配線パターン１１上を含む下地絶縁膜５上に平坦化された絶縁膜１９を形成する。 - 特許庁

The deposition speed of the first insulating film 102 is lower than that of the second insulating film 103.例文帳に追加

第一の絶縁膜１０２の成膜速度は、第二の絶縁膜１０３の成膜速度よりも遅い。 - 特許庁

The gate insulating film 4 and the capacitance insulating film 5 are formed from the same material and have the same thickness.例文帳に追加

ゲート絶縁膜４と容量絶縁膜５とは材料及び膜厚が同一である。 - 特許庁

A contact hole 12c is formed in the lower interlayer insulating film and the upper interlayer insulating film.例文帳に追加

下層層間絶縁膜と上層層間絶縁膜とにはコンタクトホール１２ｃが形成される。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR STRIPPING INSULATING FILM FROM CONDUCTOR, AND CONDUCTOR COVERED WITH INSULATING FILM例文帳に追加

導体線の絶縁膜剥離方法、その剥離装置および絶縁膜被覆導体線 - 特許庁

A second insulating film is formed on the first insulating film and the conductive member.例文帳に追加

第１の絶縁膜及び導電部材の上に第２の絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

COATING LIQUID FOR INSULATING FILM USED FOR GRAIN-ORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET AND METHOD FOR FORMING THE INSULATING FILM例文帳に追加

方向性電磁鋼板に用いる絶縁皮膜塗布液及び絶縁皮膜形成方法 - 特許庁

The projection 21 is formed of a gate insulating film 3 and an interlayer insulating film 7.例文帳に追加

突起２１はゲート絶縁膜３および層間絶縁膜７によって形成される。 - 特許庁

An insulating film is provided on the second semiconductor region, and a conductor is provided on the insulating film.例文帳に追加

第２半導体領域の上に絶縁膜を設け、絶縁膜の上に導電体を設ける。 - 特許庁

ELECTRICALLY INSULATING THIN-FILM-FORMING RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING ELECTRICALLY INSULATING THIN FILM例文帳に追加

電気絶縁性薄膜形成性樹脂組成物、および電気絶縁性薄膜の形成方法 - 特許庁

To provide a silicon oxide film suitable for use in a gate insulating film and the like, which has excellent insulating property.例文帳に追加

ゲート絶縁膜等の用途に適した、優れた絶縁特性を有するシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

The underlying insulating film 2 includes phosphor, and water 51 to 53 adheres to the underlying insulating film 2.例文帳に追加

下地絶縁膜２はリンを含有し、下地絶縁膜２上には水分５１〜５３が付着している。 - 特許庁

To sufficiently flatten an interlayer insulating film and to eliminate dishing of the interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜の平坦化が十分に行えるようにし、層間絶縁膜のディッシングをなくす。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of forming a first insulating film 2 and a second insulating film 3 on lower layer wiring 1.例文帳に追加

下層配線１の上に、第１の絶縁膜２および第２の絶縁膜３を形成する。 - 特許庁

A second insulating film 85 which contacts an upper surface of the first insulating film is formed.例文帳に追加

第１の絶縁膜の上面に接する第２の絶縁膜８５を形成する。 - 特許庁

In this way, elements such as Si and C that the insulating film lacks are provided to the insulating film.例文帳に追加

これにより、絶縁膜中において、欠乏するＳｉやＣ等の元素を、絶縁膜中に供給する。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTER-LAYER INSULATING FILM FORMATION, AND INTER-LAYER INSULATING FILM例文帳に追加

層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物および層間絶縁膜 - 特許庁

The interconnection layer and the second insulating film are ground until the first insulating film is exposed.例文帳に追加

第１の絶縁膜が露出するまで配線層及び第２の絶縁膜を研磨する。 - 特許庁

Further, the second insulating film 282 is formed using the same process as in the first gate insulating film 27.例文帳に追加

また、第２絶縁膜２８２は、第１のゲート絶縁膜２７と同一の工程で形成する。 - 特許庁

An insulating film 9b is formed, and openings 15 and 17 are provided to the insulating film 9b.例文帳に追加

絶縁膜９ｂを形成し、絶縁膜９ｂの開口部１５、１７を開口する。 - 特許庁

To prevent an organic insulating film from being oxidized, even when the organic insulating film is etched.例文帳に追加

有機絶縁膜に対してエッチングを行なっても、有機絶縁膜が酸化しないようにする。 - 特許庁

An insulating film and a dividing groove that divides the insulating film are further provided on the support substrate.例文帳に追加

支持基板上には更に、絶縁膜と、この絶縁膜を分断する分離溝が設けられている。 - 特許庁

The inter-layer insulating film is formed of the radiation-sensitive resin composition for inter-layer insulating film formation.例文帳に追加

層間絶縁膜は、当該層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物から形成される。 - 特許庁

On the second region, a second insulating film is formed which is thinner than the first insulating film.例文帳に追加

前記第２の領域上に、前記第１の絶縁膜よりも薄い第２の絶縁膜を形成する。 - 特許庁

A metal layer 5 is formed so as to be held between the insulating film 4 and the insulating film 6.例文帳に追加

絶縁膜４と絶縁膜６とに挟まれるようにして、金属膜５が形成されている。 - 特許庁

The photosensitive insulating film is exposed and developed to form ruggedness on the surface of the photosensitive insulating film.例文帳に追加

この感光性絶縁膜を露光現像して、感光性絶縁膜の表面に凹凸を形成する。 - 特許庁