「insulating-film」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

ORGANIC ELECTRICAL INSULATING FILM MATERIAL, ORGANIC ELECTRICAL INSULATING FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

有機絶縁膜材料、有機絶縁膜及びその製造方法 - 特許庁

An upper interlayer insulating film 24 is formed on the lower interlayer insulating film.例文帳に追加

上層層間絶縁膜２４は下層層間絶縁膜上に形成される。 - 特許庁

INSULATING FILM FORMING COMPOSITION, POROUS INSULATING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加

絶縁膜形成組成物、多孔質絶縁膜、およびその製造方法 - 特許庁

In an insulating film forming process, an insulating film is formed in the trench 15.例文帳に追加

絶縁膜形成工程では、トレンチ１５内に絶縁膜を形成する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM, INSULATING FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法 - 特許庁

COATING FLUID FOR FORMING INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING INSULATING FILM例文帳に追加

絶縁膜形成用塗布液及び絶縁膜の形成方法 - 特許庁

INSULATING FILM-FORMING COMPOSITION, AND INSULATING FILM AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法 - 特許庁

In this occasion, the selection gate insulating film is thinner than the tunnel insulating film.例文帳に追加

この時、選択ゲート絶縁膜は前記トンネル絶縁膜より薄い。 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING INSULATING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING INSULATING FILM LAMINATE STRUCTURE例文帳に追加

絶縁膜のエッチング方法と絶縁膜積層構造体の製造方法 - 特許庁

MATERIAL FOR INSULATING FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND INSULATING FILM例文帳に追加

絶縁膜用材料及びその製造方法並びに絶縁膜 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM AND MANUFACTURING METHOD OF INSULATING FILM例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物および絶縁膜の製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, FILM AND INSULATING FILM EACH FORMED FROM THE SAME AND ELECTRONIC DEVICE HAVING THE INSULATING FILM例文帳に追加

膜形成用組成物、該組成物から形成された膜、絶縁膜およびそれを有する電子デバイス - 特許庁

An insulating film, a semiconductor film, an insulating film, and a semiconductor film are laminated in this order on a substrate.例文帳に追加

絶縁膜、半導体膜、絶縁膜、および半導体膜の順で、基板上に膜を積層する。 - 特許庁

A second insulating film composed of an insulating metal nitride is formed on the first insulating film.例文帳に追加

第1の絶縁膜の上に、絶縁性の金属窒化物からなる第２の絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

HEAT-INSULATING COATING MATERIAL COMPOSITION, METHOD FOR FORMING HEAT-INSULATING COATING FILM USING THE SAME AND HEAT-INSULATING COATING FILM例文帳に追加

遮熱塗料組成物及びそれを用いた遮熱塗膜の形成方法並びに遮熱塗膜 - 特許庁

An ON film or an ONO film is used as an insulating film for a transfer electrode, and an oxide insulating film is used as an insulating film for a read-out gate electrode.例文帳に追加

転送電極用の絶縁膜としてＯＮ膜またはＯＮＯ膜を用い、読み出しゲート電極用の絶縁膜として酸化物絶縁膜を用いる。 - 特許庁

MULTILAYER PHOTOSENSITIVE RESIN FILM AND INSULATING FILM COMPRISING THE SAME例文帳に追加

多層感光性樹脂フィルム及びそれからなる絶縁膜 - 特許庁

A thermal oxidation film is formed on an insulating film 101 (Fig.2(A)).例文帳に追加

絶縁膜１０１に熱酸化膜を形成する（図２（Ａ））。 - 特許庁

A metal film 6 is formed on the insulating film 5.例文帳に追加

絶縁膜５上には金属膜６が形成されている。 - 特許庁

FILM FORMATION METHOD, INSULATING FILM AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR例文帳に追加

膜形成方法、絶縁膜および半導体用基板 - 特許庁

An insulating film 41 buries the trench via the stress film.例文帳に追加

絶縁膜４１はトレンチを応力膜を介して埋め込む。 - 特許庁

To form a defect-free III nitride thin film/insulating film.例文帳に追加

欠陥のないIII族窒化物薄膜／絶縁膜を形成する。 - 特許庁

INSULATING FILM, COMPOUND, FILM-FORMING COMPOSITION AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

絶縁膜、化合物、膜形成用組成物及び電子デバイス - 特許庁

To enhance film thickness precision of an insulating film on a fuse.例文帳に追加

ヒューズ上における絶縁膜の膜厚精度を高める。 - 特許庁

The interlayer insulating film 16 is a film having a single layer structure.例文帳に追加

層間絶縁膜１６は、単層構造の膜である。 - 特許庁

COMPOSITION FOR COATING FILM FORMATION AND MATERIAL FOR FORMING INSULATING FILM例文帳に追加

膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 - 特許庁

To form a magnetic film on an insulating film with a high precision.例文帳に追加

絶縁膜の上に磁性膜を高精度で形成する。 - 特許庁

A passivation film is formed on the interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜の上に、パッシベーション膜を形成する。 - 特許庁

A capacitance insulating film and a second conductive film are formed.例文帳に追加

容量絶縁膜及び第２の導電膜を形成する。 - 特許庁

POROUS SILICA THIN FILM FOR INSULATING THIN FILM例文帳に追加

絶縁薄膜用の多孔性シリカ薄膜 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FILM, INSULATING FILM AND THEIR PRODUCTION METHOD例文帳に追加

膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FILM, INSULATING FILM AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用組成物、絶縁膜、及び、電子デバイス - 特許庁

COMPOSITION FOR FILM FORMATION, INSULATING FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用組成物、絶縁膜、及び、電子デバイス - 特許庁

A second conductive film is formed on the insulating film.例文帳に追加

前記絶縁膜上に第２導電膜を形成する。 - 特許庁

Then a barrier film and an inter-layer insulating film are formed.例文帳に追加

この後、バリア膜、層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

THIN FILM TRANSISTOR AND GATE INSULATING FILM例文帳に追加

薄膜トランジスタ及びゲート絶縁膜 - 特許庁

Then, a light-shielding film 108 is formed on the insulating film.例文帳に追加

次に、絶縁膜上に遮光膜１０８を形成する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FILM AND MATERIAL FOR FORMING INSULATING FILM例文帳に追加

膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 - 特許庁

METHOD FOR FORMING COATING FILM AND INSULATING FILM USING THE METHOD例文帳に追加

塗膜形成方法およびそれを用いた絶縁膜 - 特許庁

MULTILAYER FILM, INSULATING FILM, AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR例文帳に追加

積層膜、絶縁膜ならびに半導体用基板 - 特許庁

The insulating film 107 is formed on the laminated film.例文帳に追加

次に、積層膜上に絶縁膜107を形成する。 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, INSULATING FILM, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用組成物、絶縁膜及び電子デバイス - 特許庁

FILM FORMING COMPOSITION AND INSULATING FILM FORMING MATERIAL例文帳に追加

膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 - 特許庁

FILM-FORMING METHOD, INSULATING FILM, AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR例文帳に追加

膜形成方法、絶縁膜ならびに半導体用基板 - 特許庁