「lithography process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

HARD MASK COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

リソグラフィ工程のハードマスク用組成物 - 特許庁

COMPOSITION AND PROCESS FOR IMMERSION LITHOGRAPHY例文帳に追加

浸漬リソグラフィ用の組成物及びプロセス - 特許庁

CLEANING FLUID FOR IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEM, AND IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

液浸リソグラフィシステム用洗浄液及び液浸リソグラフィ工程 - 特許庁

ENHANCED LITHOGRAPHY PATTERNING PROCESS AND SYSTEM例文帳に追加

強化リソグラフィパターニング方法およびシステム - 特許庁

IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS AND STRUCTURE THEREFOR例文帳に追加

液浸リソグラフィ・プロセスとそのプロセス用構造 - 特許庁

PHOTO LITHOGRAPHY PROCESS DEVICE AND DEFECT INSPECTION DEVICE例文帳に追加

フォトリソプロセス装置および欠陥検査方法 - 特許庁

COMPOSITION AND PROCESS FOR IMMERSION LITHOGRAPHY例文帳に追加

液浸リソグラフィーのための組成物および方法 - 特許庁

METHODS AND SYSTEMS FOR LITHOGRAPHY PROCESS CONTROL例文帳に追加

リソグラフィ・プロセス制御のための方法およびシステム - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR LITHOGRAPHY PROCESS CONTROL例文帳に追加

リソグラフィ・プロセス制御のための方法およびシステム - 特許庁

To provide a cleaning fluid for an immersion lithography system, and an immersion lithography process.例文帳に追加

液浸リソグラフィシステム用洗浄液及び液浸リソグラフィ工程を提供する。 - 特許庁

IMAGE-FORMING PROCESS, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR AND LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

画像形成方法、平版印刷版原版および平版印刷方法 - 特許庁

MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD FOR LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

リソグラフィプロセスのための計測システムおよび計測方法 - 特許庁

TOP COAT FOR LITHOGRAPHY PROCESS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィプロセス用のトップコート及びその製造方法 - 特許庁

PREPARATION PROCESS OF COPOLYMER FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY例文帳に追加

半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING POLYMERIC COMPOUND FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY例文帳に追加

半導体リソグラフィー用高分子化合物の製造方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR LITHOGRAPHY PROCESS WINDOW SIMULATION例文帳に追加

リソグラフィプロセスウィンドウをシミュレートするための方法及びシステム - 特許庁

SUBSTRATE FOR EUV MICRO-LITHOGRAPHY AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

ＥＵＶマイクロリソグラフィー用基板およびその製造方法 - 特許庁

LITHOGRAPHY EQUIPMENT, PROCESS FOR FABRICATING ELEMENT, AND OPTICAL COMPONENT例文帳に追加

リソグラフィ装置、素子製造方法、及び光学構成部品 - 特許庁

INTEGRATION OF LITHOGRAPHY APPARATUS AND MASK OPTIMIZATION PROCESS INCLUDING MULTIPLE PATTERNING PROCESS例文帳に追加

リソグラフィ装置と多重パターニングプロセスを含むマスク最適化プロセスとの統合 - 特許庁

FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND OIL IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

半導体装置の製造方法及び液浸リソグラフィーシステム - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR MONITORING AND CONTROLLING LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

リソグラフィ工程を監視及び制御するシステム及び方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER AND LITHOGRAPHY PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

半導体ウェハ及び半導体ウェハを使用するリソグラフィ・プロセス - 特許庁

METHOD OF ANALYZING LITHOGRAPHY PROCESS WINDOW AND ITS ANALYZING PROGRAM例文帳に追加

リソグラフィープロセスウィンドー解析方法およびその解析プログラム - 特許庁

CORRECTION OF RESIST CRITICAL DIMENSION VARIATION IN LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおけるレジストの限界寸法の変動の修正 - 特許庁

CONTROL SYSTEM, LITHOGRAPHY SYSTEM, PROCESS FOR FABRICATING DEVICE, AND DEVICE FABRICATED THROUGH PROCESS例文帳に追加

制御システム、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造されたデバイス - 特許庁

A method for lithography process control may include measuring (22) at least one property of a resist disposed upon a wafer during a lithography process (16).例文帳に追加

リソグラフィ・プロセス（１６）中にウェハ上に配置されたレジストの少なくとも１つの特性を測定する（２２）ことを含むことができる。 - 特許庁

Imprint lithography is a process in which the liquid is dispensed onto a substrate.例文帳に追加

インプリント・リソグラフィは液体を基板上に分配するプロセスである。 - 特許庁

To provide an objective lens used for a liquid crystal immersion lithography process.例文帳に追加

液晶液浸リソグラフィ工程に用いる対物レンズを提供する。 - 特許庁

LITHOGRAPHY PROCESS EVALUATION SYSTEM, LITHOGRAPHY PROCESS EVALUATING METHOD, EXPOSURE SYSTEM EVALUATING METHOD, MASK PATTERN DESIGNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

リソグラフィプロセス評価システム、リソグラフィプロセス評価方法、露光装置評価方法、マスクパターン設計方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

The method includes a critical size measurement process 38 for a feature formed in the lithography process although the critical measurement standard of the lithography process is not limited thereto.例文帳に追加

リソグラフィ・プロセスのクリティカルな測定基準には、それだけには限られないかもしれないが、リソグラフィ・プロセス中に形成されたフィーチャのクリティカル寸法測定工程３８を含む。 - 特許庁

To provide a method of analyzing lithography process window and its analyzing program capable of evaluating the reliability of a lithography process window.例文帳に追加

リソグラフィープロセスウィンドーの信頼性の評価をすることが可能なリソグラフィープロセスウィンドー解析方法およびその解析プログラムを提供すること。 - 特許庁

To provide a lithography process evaluating method by which a dimensional variation factor depending on a mask covering ratio in a lithography process is accurately evaluated.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおけるマスク被覆率に依存する寸法変動要因を正確に評価可能なリソグラフィプロセス評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for positioning a substrate during a double patterning lithography process.例文帳に追加

ダブルパターニングプロセス中に基板の位置合わせをする方法を説明する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography process which is reduced in line width variation.例文帳に追加

線幅変化が低減された電子ビーム・リソグラフィ・プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a new photoresist process, particularly suitable for immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィーに特に好適な新規のフォトレジストプロセスを提供する。 - 特許庁

Patterning of a resist film on a wafer surface is performed in a lithography process.例文帳に追加

リソグラフィー工程でウェハー表面のレジスト膜のパターンニングをおこなう。 - 特許庁

To provide a method for reducing wavefront aberration in a lithography process.例文帳に追加

リグラフィプロセスにおいて、波面収差を低減する方法を提供する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST ALIGNMENT MARK THROUGH DOUBLE PATTERNING LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

ダブルパターニングリソグラフィプロセスでレジストアライメントマークを形成する装置および方法 - 特許庁

MEASURING INSTRUMENT, LITHOGRAPHY UNIT, PROCESS APPARATUS, MEASURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

計測装置、リソグラフィ装置、プロセス装置、計測方法、及びデバイス製造方法。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR LITHOGRAPHY PROCESS-WINDOW-MAXIMIZING OPTICAL PROXIMITY CORRECTION例文帳に追加

リソグラフィプロセスウィンドウ最大化光近接効果補正のための方法及びシステム - 特許庁

To readily evaluate a use limit of a photomask used for a lithography process, when performing the lithography process by ultraviolet exposure.例文帳に追加

紫外線露光によるフォトリソグラフィ工程を行う際に、当該フォトリソグラフィ工程で用いるフォトマスクの使用限界を簡易に評価できるようにする。 - 特許庁

The manufacturing process is simplified and the quantity of the material to be used is reduced by dispensing with the lithography process and the etching process.例文帳に追加

リソグラフィ工程及びエッチング工程の省略による製造工程の簡略化と使用材料の量の削減とを図る。 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARING POLYMER FINE PARTICLE AND ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHY USING THIS例文帳に追加

ポリマー微粒子の製造方法およびそれを用いた平版印刷用原板 - 特許庁

LIQUID FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST-PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To effectively and efficiently monitor a particle in an immersion lithography process.例文帳に追加

液浸リソグラフィプロセス中における粒子を、効果的に且つ効率良く監視する。 - 特許庁