例文 (228件) |
mechanical dispersionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 228件
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法 - 特許庁
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION MATERIAL AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体及び化学機械研磨方法 - 特許庁
WATER DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法 - 特許庁
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法、化学機械研磨用水系分散体の製造方法 - 特許庁
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION PREPARATION KIT例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体調製用キット - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, METHOD OF MANUFACTURING AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨用水系分散体の製造方法および化学機械研磨方法 - 特許庁
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION PREPARING SET, METHOD FOR PREPARING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体調製用セット、化学機械研磨用水系分散体の調製方法、化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMO-MECHANICAL POLISHING AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND CHEMO-MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 - 特許庁
CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING例文帳に追加
半導体基板の化学機械研磨方法および化学機械研磨用水系分散体 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 - 特許庁
PARTICLE FOR CHEMICAL AND MECHANICAL GRINDING, ITS PRODUCTION AND AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL AND MECHANICAL GRINDING例文帳に追加
化学機械研磨用粒子及びその製造方法並びに化学機械研磨用水系分散体 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING IT例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法 - 特許庁
AQUATIC DISPERSION ELEMENT FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, ITS MANUFACTURING METHOD, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法ならびに化学機械研磨方法 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION SOLUTION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD, AND KIT FOR PREPARING THE AQUEOUS DISPERSION SOLUTION例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット - 特許庁
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION PREPARATION KIT, AND METHOD FOR PREPARING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体調製用キットおよび化学機械研磨用水系分散体の調製方法 - 特許庁
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING WATER SYSTEM DISPERSION BODY FOR USE IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICES例文帳に追加
半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING USED FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体 - 特許庁
To provide an aqueous dispersion for chemical and mechanical polishing(CMP) which excels in the balance between chemical etching and mechanical polishing capacity.例文帳に追加
化学的エッチングと機械的研磨能力とのバランスに優れるCMP用水系分散体を提供する。 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加
化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨方法および化学機械研磨用水系分散体の製造方法 - 特許庁
The chemical mechanical polishing method polishes insulation films using the aqueous dispersion element for chemical mechanical polishing.例文帳に追加
化学機械研磨方法は、上記の化学機械研磨用水系分散体を用いて、絶縁膜を研磨することを特徴とする。 - 特許庁
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND KIT FOR PREPARING AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING例文帳に追加
化学機械研磨方法およびそれを使用した半導体デバイス、化学機械研磨用水系分散体調製用キット - 特許庁
To make clear a textural factor bringing dispersion of a mechanical property in an iron base material to evaluate the mechanical property.例文帳に追加
鉄基材料での機械的性質のバラツキに及ぼす組織要因を明確にして機械的性質を評価するための方法を提供する。 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF OXIDE SURFACE, METHOD AND USE OF THE SAME例文帳に追加
酸化物表面の化学的−機械的磨き仕上げのための水性分散液、その製法および使用 - 特許庁
The aqueous dispersion for chemical and mechanical grinding is obtained by dispersing the above coagulated material with ion- exchanged water, etc.例文帳に追加
この凝集体をイオン交換水等に分散させて化学機械研磨用水系分散体を得る。 - 特許庁
To provide a polymer dispersion for improving mechanical properties of building materials.例文帳に追加
建築材料の機械的性質を改善するためのポリマー分散液を提供する。 - 特許庁
To provide a polymer dispersion capable of forming a coating product having good mechanical and optical properties.例文帳に追加
良好な機械的、光学的特性を有する被覆物を生成するポリマー分散体を提供する。 - 特許庁
HIGH STRENGTH COLD ROLLED STEEL SHEET REDUCED IN DISPERSION IN MECHANICAL CHARACTERISTIC, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
機械特性ばらつきの小さい高強度冷延鋼板およびその製造方法 - 特許庁
To provide a chemical/mechanical polishing device where the dispersion of the polishing rate is little.例文帳に追加
ポリシングレートのばらつきが少ないケミカルメカニカルポリシング装置を提供する。 - 特許庁
To obtain an emulsion dispersion having good stability with days and mechanical stability by a simple method.例文帳に追加
簡便な方法で経日安定性および機械的安定性の良好な乳化分散液を得る。 - 特許庁
POLYMER DISPERSION, USE OF POLYMER DISPERSION AND POWDER AND GRANULE PRODUCED FROM POLYMER DISPERSION, AND METHOD OF IMPROVING MECHANICAL STRENGTH, ELASTICITY AND PROCESSABILITY OF BUILDING MATERIAL例文帳に追加
ポリマー分散液、該分散液および該分散液から得られる粉末および顆粒の使用、並びに建築材料の機械的強度、弾性および加工性を改善するための方法 - 特許庁
To provide a composite resin aqueous dispersion composed of a crosslinked polyvinyl chloride resin aqueous dispersion and a polyurethane resin aqueous dispersion, improved in delustering, delustering resistance, mechanical strength, water resistance and chemical resistance.例文帳に追加
艶消し性、艶消し耐久性、機械強度及び耐水性や耐薬品性の改善された、架橋ポリ塩化ビニル樹脂水性分散体とポリウレタン樹脂水性分散体からなる複合樹脂水性分散体を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a fluoropolymer aqueous dispersion, by which the fluoropolymer aqueous dispersion excellent in dispersion stability and mechanical stability can be produced in a high yield, even when contacted with an anion exchange resin.例文帳に追加
陰イオン交換樹脂との接触を行うものであっても、分散安定性及び機械安定性に優れたフルオロポリマー水性分散液を収率良く製造する方法を提供する。 - 特許庁
The water dispersion for chemical mechanical polishing comprises inorganic particles, and nitrogen atom-containing surfactants.例文帳に追加
上記課題は、無機粒子と、窒素原子含有界面活性剤を含有することを特徴とする、化学機械研磨用水系分散体によって解決される。 - 特許庁
WATER-BASED DISPERSION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING USED FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, CIRCUIT BOARD, AND MULTILAYER CIRCUIT BOARD例文帳に追加
回路基板の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体、回路基板の製造方法、回路基板および多層回路基板 - 特許庁
To provide an aqueous dispersion of fluoropolymer excellent in mechanical stability while suppressing increase of viscosity and foamability.例文帳に追加
粘度上昇と起泡性とを抑え且つ機械的安定性に優れたフルオロポリマー水性分散液を提供する。 - 特許庁
To provide an aqueous fluoropolymer dispersion excellent in foaming suppression without largely impairing mechanical stability and viscosity rise suppression.例文帳に追加
粘度上昇抑制と機械的安定性とを大きく損なうことなく、泡立ち抑制に優れたフルオロポリマー水性分散液を提供する。 - 特許庁
The modified layered silicate is prepared by mixing the swellable layered silicate with the nonionic polar organic compound by mechanical shearing force in the absence of a dispersion medium.例文帳に追加
膨潤性層状ケイ酸塩と、非イオン性極性有機化合物とを、分散媒の非共存下で機械的剪断力により混合して得られる。 - 特許庁
To provide a platinum group-Mn alloy target minimal in the dispersion of mechanical properties and film deposition characteristic.例文帳に追加
機械的特性および成膜特性のバラツキが小さい白金族−Mn合金ターゲットを提供する。 - 特許庁
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING USED IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a composition for chemical mechanical polishing which reduces occurrence of defects of a polishing surface by improving dispersion property and providing chelate capability.例文帳に追加
分散性を向上させ、キレート能力も持たせることで、より研磨面の欠陥を抑制できる化学機械研磨用組成物の提供。 - 特許庁
To provide a method for producing a fluorine-containing copolymer forming an aqueous dispersion with excellent mechanical stability.例文帳に追加
機械的安定性にすぐれた水性分散液を形成し得る含フッ素共重合体の製造法を提供する。 - 特許庁
To provide an aqueous dispersion type rubber adhesive composition with excellent mechanical stability, and an adhesive sheet formed by using the adhesive composition.例文帳に追加
機械的安定性に優れた水分散型ゴム系粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いてなる粘着シートを提供する。 - 特許庁
To provide a fluorine-containing polymer aqueous dispersion in which an emulsifier having low bioaccumulation potential is used, and which is excellent in mechanical stability.例文帳に追加
生体蓄積性の低い乳化剤を用い、しかも機械的安定性にすぐれた含フッ素ポリマー水性分散液を提供する。 - 特許庁
To provide a mechanical powder molding machine capable of suppressing the dispersion of powder feeding quantity and improving cycling time.例文帳に追加
機械式粉末成形機で、給粉量のバラツキを抑え、且つサイクルタイムを向上させることができる機構。 - 特許庁
To surely compensate a focusing position in zoom tracking even when dispersion in terms of production is found in a lens and a mechanical correction mechanism or the like.例文帳に追加
レンズ、機械補正機構等に製造上のばらつきがある場合にも、ズームトラッキングにおいてピント位置を確実に補償する。 - 特許庁
To prevent a mirror from malfunctioning due to output dispersion of a potentiometer caused by nonuniformity of mechanical action.例文帳に追加
機械的な動作のムラに起因するこれらポテンショメータ出力のバラツキによるミラーの誤動作を防止する。 - 特許庁
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