p=typeを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8316件
To convert a nitride semiconductor where a p-type impurity is doped into a low-resistance p-type.例文帳に追加
p型不純物がドープされた窒化物半導体を低抵抗なp型とする。 - 特許庁
The Si substrate is constituted in a two layer structure in which a p type high resistance Si layer is laminated on a p type low resistance Si layer.例文帳に追加
Si基板は、p型低抵抗Si層の上にp型高抵抗Si層を積層した2層構造になっている。 - 特許庁
The p-type drain region 230 and a p-type base region 220 are connected electrically.例文帳に追加
p型ドレイン領域230と、p型ベース領域220とは、電気的に接続されている。 - 特許庁
A p-type drain region 330 and the second p-type base region 420 are connected electrically.例文帳に追加
p型ドレイン領域330と第2のp型ベース領域420とは電気的に接続されている。 - 特許庁
In this case, an n-type deep region may be interposed between a p-type partition region and a p-type well region.例文帳に追加
また、p仕切り領域とpウェル領域との間にn深部領域を挟んでも良い。 - 特許庁
The P-type isolation region 2 has the bottom face, reaching the upper face of the P-type impurity diffusion layer 3.例文帳に追加
P型分離領域2は、P型不純物拡散層3の上面に達する底面を有している。 - 特許庁
the junction between a p-type semiconductor and an n-type semiconductor 例文帳に追加
p型半導体とn型半導体の間の接合 - 日本語WordNet
in a semiconducting crystal, a junction between a p-type region and an n-type region 例文帳に追加
半導体の単結晶中のP型とN型との接合 - EDR日英対訳辞書
The p-type semiconductor layer includes a nitride semiconductor layer.例文帳に追加
前記p側半導体層は、窒化物半導体層を含む。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING P-TYPE GALLIUM NITRIDE SEMICONDUCTOR REGION例文帳に追加
p型窒化ガリウム系半導体領域を形成する方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF p-TYPE GALLIUM NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型窒化ガリウム系化合物半導体の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING P-TYPE SEMICONDUCTOR SrCu2O2 SINGLE CRYSTAL例文帳に追加
P形半導体SrCu2O2単結晶の製造方法 - 特許庁
The second layer includes p-type AlGaN.例文帳に追加
第2層は、p形AlGaNを含む。 - 特許庁
P-TYPE OXIDE SEMICONDUCTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
p型酸化物半導体およびその製造方法 - 特許庁
P-TYPE GALLIUM NITRIDE THIN LAYER AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
p型窒化ガリウム薄膜およびその製造方法 - 特許庁
FORMATION OF LOW-RESISTIVITY P-TYPE GALLIUM NITRIDE例文帳に追加
低抵抗率P型窒化ガリウムの形成 - 特許庁
P-TYPE SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
p型半導体及び半導体デバイス - 特許庁
P-TYPE NITRIDE SEMICONDUCTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
p型窒化物半導体及びその製造方法 - 特許庁
The p-side electrode contacts the p-type semiconductor layer.例文帳に追加
p側電極はp形半導体層に接する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF P-TYPE GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
III族窒化物p型半導体の製造方法 - 特許庁
P-TYPE GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加
III族窒化物p型半導体およびその製造方法 - 特許庁
P-TYPE GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
p型III族窒化物半導体とその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR P-TYPE III NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型III族窒化物半導体の製造方法 - 特許庁
ULTRAVIOLET-EMITTING DEVICE USING P-TYPE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型半導体を用いた紫外発光素子 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING P-TYPE SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
p型半導体の製造方法及び半導体素子 - 特許庁
GROUP III NITRIDE LIGHT EMITTING DEVICE HAVING P TYPE ACTIVE LAYER例文帳に追加
p型活性層を有するIII族窒化物発光装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING p-TYPE SiC SEMICONDUCTOR SINGLE CRYSTAL例文帳に追加
p型SiC半導体単結晶の製造方法 - 特許庁
P TYPE GAAS SINGLE CRYSTAL AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
p型GaAs単結晶およびその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF P-TYPE GAN SYSTEM COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型GaN系化合物半導体の製造方法 - 特許庁
p-TYPE ACTIVATION METHOD OF GaN BASED COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加
GaN系化合物半導体のp型活性化方法 - 特許庁
p-TYPE ACTIVATION METHOD OF AlGaN BASED COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加
AlGaN系化合物半導体のp型活性化方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING P-TYPE NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型窒化物半導体の製造方法 - 特許庁
ACTIVATION METHOD OF COMPOUND SEMICONDUCTOR THIN FILM TO P-TYPE例文帳に追加
化合物半導体薄膜のp型への活性化方法 - 特許庁
METHOD FOR GROWING P-TYPE NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型窒化物半導体の成長方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING p-TYPE SEMICONDUCTOR CRYSTAL例文帳に追加
p型半導体結晶の製造方法および発光デバイス - 特許庁
p-TYPE TRANSPARENT OXIDE FILM DEPOSITING METHOD, AND SOLAR CELL例文帳に追加
p型透明酸化物膜の成膜方法及び太陽電池 - 特許庁
ACTIVATION METHOD OF POTASSIUM NITRIDE-BASED P-TYPE COMPOUND SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
窒化ガリウム系p型化合物半導体層の活性化法 - 特許庁
P-TYPE SILICON SINGLE-CRYSTAL WAFER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
p型シリコン単結晶ウェーハ及びその製造方法 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a substrate having a p-type semiconductor layer capable of avoiding deterioration in the film quality of the p-type semiconductor layer and activating p-type impurities in the p-type semiconductor layer.例文帳に追加
p型半導体層の膜質の劣化を避けるとともに、p型半導体層におけるp型不純物の活性化を可能とする、p型半導体層を備える基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
Furthermore, the p-type dopant concentration of a p-type Al_ZGa_1-ZN layer 21 is prescribed, independently of the p-type dopant concentration N_P19 of a p-type AL_YGA_1-YN layer 19.例文帳に追加
また、p型Al_ZGa_1−ZN層21のp型ドーパント濃度がp型Al_YGa_1−YN層19のp型ドーパント濃度N_P19はと独立して規定される。 - 特許庁
The p-type semiconductor layer is provided between the p-side contact layer and the light-emitting layer and includes a p-type layer with a p-type impurity concentration lower than that of the p-type contact layer.例文帳に追加
p形半導体層は、p側コンタクト層と発光層との間に設けられ、p形不純物濃度がp形コンタクト層のp形不純物濃度よりも低いp形層を含む。 - 特許庁
The P-type first drain region 16 has a P-type impurity concentration higher than those of the P-type second drain region 6 and the P-type third drain region 10.例文帳に追加
P型第1ドレイン領域16はP型第2ドレイン領域6及びP型第3ドレイン領域10よりも濃いP型不純物濃度をもっている。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING p-TYPE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
p型半導体層の形成方法および装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR P-TYPE SILICON CARBIDE LAYER例文帳に追加
p型シリコンカーバイド層の製造方法 - 特許庁
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