「pl under」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The PL observation area is specified highly precisely, and the observation area is set easily to allow the observation under the optimum condition.例文帳に追加

ＰＬ観測領域を高精度に特定することができ、その観測領域の最適状態での観測を容易に設定することができる。 - 特許庁

Under the exposure light IL in a vacuum ultraviolet ray region, the image of the pattern of a reticle 12 is projected on the wafer 1 7a on the wafer stage 18a within a wafer chamber 24 through a projective optical system PL.例文帳に追加

真空紫外域の露光光ＩＬのもとで、レチクル１２のパターンの像が投影光学系ＰＬを介して、ウエハ室２４内のウエハステージ１８ａ上のウエハ１７ａに投影される。 - 特許庁

A mask R wherein a prescribed pattern is formed is illuminated under cross pole illumination conditions, a wafer W is exposed via a projection optical system PL by light IL projected from the mask, and a hole array is formed on the wafer.例文帳に追加

クロスポール照明条件下で所定のパターンが形成されたマスクＲを照明し、該マスクから射出される光ＩＬで投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光し、そのウエハ上にホールアレイを形成する。 - 特許庁

Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加

そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁

A guide member 26 is provided in a base part 23 provided under a lens holder 22 so as to surround an image sensor 11 and has an inner surface brought into contact with a peripheral surface of the image sensor 11 to guide a lens unit 14 so that the lens unit 14 moves straight in a direction of an optical axis PL.例文帳に追加

レンズホルダ２２の下部に設けたベース部２３には、イメージセンサ１１を囲みようにガイド部材２６が設けられ、その内面がイメージセンサ１１の周面と接することにより、レンズユニット１４が光軸ＰＬと方向の直進移動するようにガイドする。 - 特許庁

Additionally, positional regulation in the car cross direction is carried out by setting a parting line PL and engaging a cutout 232 to be required for rapping with a hook 42 of the unit panel so as not to be an under cut structure at the time of rapping the support flange 231.例文帳に追加

また、支持フランジ２３１が型抜き時、アンダーカット構造とならないように、パーティングラインＰＬを設定するとともに、型抜き上必要となる切欠き２３２をユニットパネル４０のフック４２と係着させることにより、車幅方向の位置規制を行なう。 - 特許庁