「plasma high‐density」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

FILM DEPOSITION APPARATUS USING DC HIGH-DENSITY PLASMA例文帳に追加

直流高密度プラズマを用いる成膜装置 - 特許庁

HIGH-DENSITY SPUTTERING UTILIZING FRONT END OF SHEET PLASMA例文帳に追加

シートプラズマ先端利用高密度スパタリング - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA SOURCE FOR IONIZED METAL DEPOSITION例文帳に追加

イオン化金属堆積用の高密度プラズマ源 - 特許庁

LOW PRESSURE/HIGH DENSITY PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

低圧・高密度プラズマ処理装置 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma processing device capable of producing high-density plasma.例文帳に追加

高密度プラズマを得ることができる常圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

REMOTE PLASMA-CLEANING METHOD OF HIGH-DENSITY PLASMA CVD SYSTEM例文帳に追加

高密度プラズマＣＶＤ装置のリモートプラズマクリーニング方法 - 特許庁

A high density plasma is formed by the hollow cathode electrode, and an efficiency of plasma dissociation caused by this high density plasma is enhanced, thereby enhancing a coating speed.例文帳に追加

ホローカソード電極により高密度プラズマを形成し、この高密度プラズマによるプラズマ乖離の効率を高め、成膜速度を向上させる。 - 特許庁

MAGNET FOR HIGH DENSITY PLASMA, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS FOR HIGH DENSITY PLASMA USING THE SAME例文帳に追加

高密度プラズマ用磁石及びその製造方法、並びにこれを用いた高密度プラズマ用の半導体製造装置 - 特許庁

To provide a magnet for high density plasma, a manufacturing method therefor and a semiconductor manufacturing apparatus for the high density plasma using it.例文帳に追加

高密度プラズマ用磁石及びその製造方法、並びにこれを用いた高密度プラズマ用の半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

The high-density plasma oxide-film evaporation equipment, for embedding a high-density plasma oxide film in the trench of the semiconductor substrate 124, is provided.例文帳に追加

半導体基板１２４のトレンチ内に高密度プラズマ酸化膜を埋設する高密度プラズマ酸化膜蒸着装備に関する。 - 特許庁

To provide a high-density plasma source applicable to a wide working atmospheric pressure from a low atmospheric pressure to a high atmospheric pressure, and a forming method of high-density plasma.例文帳に追加

低気圧から高気圧まで広い動作気圧に対応できる高密度プラズマ源、及び高密度プラズマ生成方法を提供する。 - 特許庁

CHUCK ASSEMBLY AND HIGH DENSITY PLASMA DEVICE USING SAME例文帳に追加

チャックアセンブリ及びそれを用いた高密度プラズマ装置 - 特許庁

To provide a magnetron reactor feeding a high density plasma source.例文帳に追加

高密度プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタを提供する。 - 特許庁

To provide an ion source to accomplish a high density of a high-frequency plasma.例文帳に追加

高周波プラズマの高密度化を図ったイオン源を提供する。 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体製造用高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁

DC HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE, FILM-FORMING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF FILM例文帳に追加

直流高密度プラズマ源、成膜装置および膜の製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD FOR HIGH TEMPERATURE HIGH DENSITY SHEET PLASMA BY LINER COMPRESSION例文帳に追加

ライナー圧縮による高温高密度シートプラズマ生成法 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA SOURCE FOR IONIZED METAL DEPOSITION CAPABLE OF EXCITING PLASMA WAVE例文帳に追加

プラズマ波を励起可能なイオン化金属堆積のための高密度プラズマ源 - 特許庁

To inexpensively generate high density plasma regardless of the size of a plasma generation system.例文帳に追加

プラズマ生成装置の大小に関係なく、高密度のプラズマを廉価に生成する。 - 特許庁

The external plasma source is constituted of a plasma source capable of generating high density plasma and uniformly covering the periphery of the base material with the high density plasma.例文帳に追加

外部プラズマ源は高密度プラズマを生成可能で、且つ、この高密度プラズマにより処理基材の周囲を均一に覆うことができるプラズマ源から構成する。 - 特許庁

A high-density plasma region 12 is formed at the upper part of the plasma generating chamber 1 through an induction coupling plasma method, and a first gas inlet 4 is provided so as to enable the most of gas to flow into the high-density plasma region 12.例文帳に追加

誘導結合プラズマ法により、プラズマ発生室１の上部に高密度のプラズマ領域１２を形成し、主たるガスがこのプラズマ領域１２へ流入するように、第１ガス導入口４を配置する。 - 特許庁

Since carbon monoxide gas is introduced into the plasma region 13 which is 1/10 or less as low in plasma density as the high-density plasma region 12, it is less hit by the high-temperature high-density plasma and carried onto the substrate 2 before it is dissociated.例文帳に追加

一酸化炭素ガスは、１桁以上低密度のプラズマ領域１３に導入されるので、高温・高密度のプラズマガスによる衝突を受けることが少なく、解離する前に基板２の上に運ばれる。 - 特許庁

To generate a high-density plasma even in the central part of a plasma generating region in a plasma generating device having rectangular electrodes.例文帳に追加

矩形電極を有するプラズマ生成装置において、プラズマ生成領域の中央部でも、高密度のプラズマを生成することができるようにする。 - 特許庁

To provide a plasma generating apparatus that can enhance the plasma density and realize uniform distribution of high density plasma having high inductive coupling efficiency.例文帳に追加

プラズマ密度を高め、誘導結合効率の高い高密度プラズマを均一に分布させることができるプラズマ発生装置の提供。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus generating high-density plasma with even plasma density over a large area.例文帳に追加

大面積にわたって均一なプラズマ密度を有する高密度プラズマを生成できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma source by which high density plasma can be highly efficiently produced and to provide a plasma treatment system.例文帳に追加

高効率で且つ高密度のプラズマを生成することが可能なプラズマ源ないしプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma resistant member exhibiting sufficient durability to plasma when it is exposed to low pressure and high density plasma, and to provide a method of producing the same.例文帳に追加

低圧高密度プラズマ曝露に対しても十分耐える耐プラズマ性部材およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a chuck assembly that reduces damage to the film quality of a wafer backside due to plasma during a high density plasma processing, and a high density plasma device using same.例文帳に追加

高密度プラズマ工程中のプラズマによるウエハ裏の膜質ダメージを減少することができるチャックアセンブリ及びそれを用いた高密度プラズマ装置を提供する。 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA PROCESS FOR PRODUCING SILICON DIOXIDE ON SILICON CARBIDE SUBSTRATE例文帳に追加

シリコンカーバイド基板上に二酸化シリコンを生成する高密度プラズマプロセス - 特許庁

To provide a yttria (Y_2O_3) sintered compact of high density excelling in plasma resistance.例文帳に追加

高密度で耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ_２Ｏ_３）焼結体を提供する。 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加

高密度プラズマ化学気相蒸着装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

HIGH-DENSITY MAGNESIUM OXIDE-BASED SINTERED COMPACT AND ITS PRODUCTION, AND MEMBER FOR PLASMA TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

高密度酸化マグネシウム質焼結体及びその製造方法、並びにプラズマ処理装置用部材 - 特許庁

Further, on the Al_2O_3 film 20, a silicon oxide film 23 is formed by the high density plasma method for instance.例文帳に追加

更に、Ａｌ_2Ｏ_3膜２０上に、例えば高密度プラズマ法によりシリコン酸化膜２３を形成する。 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA FLUORINATED SILICON GLASS PROCESS STACK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

高密度プラズマフッ素化シリコンガラスプロセススタックおよびその製造方法 - 特許庁

In addition, film deposition can be performed with high-density plasma, and high-speed film deposition can be realized.例文帳に追加

また本発明により、高密度プラズマで成膜することが可能となり、高速成膜ができるようになる。 - 特許庁

The arrangement such as this creates a stable high-density plasma between the mesh and the cathode plate.例文帳に追加

この様な配置によって、メッシュ／カソード板間に安定な高密度プラズマが生成される。 - 特許庁

DEPOSITION OF AMORPHOUS SILICON FILM BY HIGH-DENSITY PLASMA HDP-CVD AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温での高密度プラズマＨＤＰ−ＣＶＤによるアモルファスシリコン膜の堆積 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA OXIDE-FILM EVAPORATION EQUIPMENT AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT UTILIZING THE SAME例文帳に追加

高密度プラズマ酸化膜蒸着装備及びこれを利用した半導体素子の製造方法 - 特許庁

To form high-density uniform plasma as well as to avoid the problem of surface erosion.例文帳に追加

表面侵食の問題を回避すると共に高密度で均一なプラズマを形成すること。 - 特許庁

Thereafter, the relevant trench 3 is filled with a high-density plasma oxidized film (HDP4).例文帳に追加

その後、高密度プラズマ酸化膜（ＨＤＰ４）で当該トレンチ３を充填する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING HIGH AREA/HIGH DENSITY PLASMA BY MICROWAVE DISCHARGE例文帳に追加

マイクロ波放電による大面積・高密度プラズマの生成方法及び装置 - 特許庁

To make a rectilinear carbon nanotube (CNT) by performing perpendicular orientation to high density in a plasma enhanced CVD process.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法において、高密度に垂直配向し、直線状のＣＮＴを簡易に作製する。 - 特許庁

To obtain a sintered compact of a high-density and high-purity molybdenum oxide by using a discharge plasma method.例文帳に追加

放電プラズマ法を用いて高密度の高純度酸化モリブデンの焼結体を得る。 - 特許庁

To provide an ICP circuit in which circuit adjustment is easy and in which plasma of high density is stably generated.例文帳に追加

回路調整が容易で高密度のプラズマを安定的に発生させるＩＣＰ回路を提供する。 - 特許庁