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ranging methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 307件
The image forming method comprises developing the negative image forming material provided with an image recording layer containing (A) a radical generator, (B) a radical polymerizable compound, (C) an IR absorbent, and (D) a binder polymer on a base by using an alkaline developing solution containing a weak acid having a dissociation constant pka ranging from 10 to 13 or its salt after image exposure by an IR laser.例文帳に追加
支持体上に(A)ラジカル発生剤、(B)ラジカル重合性化合物、(C)赤外吸収剤、及び(D)バインダーポリマーを含有する画像記録層を設けてなるネガ型画像形成材料を、赤外線レーザで画像露光後、解離定数 pkaが10〜13の範囲にある弱酸又はその塩を含有するアルカリ性現像液を用いて現像することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
In the case of applying plural coating liquids simultaneously in layers by a bead coating method, when the difference between the maximum temperature of the coating temperature of plural coating liquids and the minimum temperature is ≥5°C, a slide hoper 12 is kept at a temperature ranging from the maximum temperature to the minimum temperature for ≥48 hr before plural coating liquids are passed through a liquid passage of the slide hopper 12.例文帳に追加
複数の塗布液をビード塗布方法で重層同時塗布する場合に、複数の塗布液の塗布温度の最大温度と最低温度との温度差が5°C以上ある場合には、複数の塗布液をスライドホッパー12の通液路に通液する前に、スライドホッパー12を前記最高温度から前記最低温度までの温度で48時間以上保温するようにした。 - 特許庁
The method for manufacturing the patterned polyimide precursur film comprises subjecting the photoresist film on a polyimide pattern to a heat treatment for 30 seconds to 30 minutes at a temperature ranging from 40 to 100°C within 30 minutes, before a process of peeling the photoresist film with a peeling liquid after patterning the polyimide precursur film formed on a semiconductor wafer, having a difference in level of ≥2 microns with the photoresist.例文帳に追加
2ミクロン以上の段差を有する半導体ウエハ上に形成されたポリイミド前駆体被膜をフォトレジストでパターン加工した後、ポリイミドパターン上のフォトレジスト被膜を剥離液で剥離する工程の前60分以内に、40〜100℃の範囲の温度で30秒〜30分間の加熱処理を施すことを特徴とするパターン化されたポリイミド前駆体被膜の製造方法。 - 特許庁
To provide a method for conveniently obtaining sodium chondroitin sulfate with high purity having an appropriate molecular weight distribution at low cost from an extract containing "chondroitin sulfate having a molecular weight distribution ranging from at least 8,000 to 500,000 and protein and/or a decomposition product thereof", which is obtained by subjecting raw materials such as snout cartilage of salmon to alkaline treatment or enzymatic treatment.例文帳に追加
鮭の鼻軟骨等の原料物質をアルカリ処理或いは酵素処理することにより得られる、“少なくとも分子量8000〜50万の分子量分布を持つコンドロイチン硫酸並びにタンパク質及び/又はその分解物”を含む抽出物から、適度な分子量分布を有する高純度のコンドロイチン硫酸ナトリウムを簡便に且つ低コストで得る方法を提供する。 - 特許庁
This method for producing a copolyester resin comprises a step for esterifying a dicarboxylic acid with ethylene glycol and another glycol and a step for polycondensing the esterification product in the presence of a titanium dioxide/silicon dioxide coprecipitate catalyst, the catalyst being in the form of 4% or less content by weight suspension in glycol, in which the copolyester resin has the other glycol content ranging from 20 to 80% of the total glycol content.例文帳に追加
エチレングリコール及びその他のグリコールでジカルボン酸をエステル化反応させる段階と、二酸化チタン/二酸化珪素共沈物触媒を総グリコールに対し4重量%以下となるサスペンションの形態で用いて前記エステル化反応生成物を重縮合させる段階とからなる、総グリコール含量に対し前記その他のグリコール含量が20ないし80モル%である共重合ポリエステル樹脂の製造方法である。 - 特許庁
The chemical mechanical polishing method uses polishing liquid containing colloidal silica particles having a positive ζ potential and anionic surfactant and having pH ranging 1.5-7.0 to polish the body to be polished at least including a first layer containing polysilicon or modified polysilicon and a second layer containing at least one selected from a group consisting of silicon oxide, silicon nitride, silicon carbonate, silicon carbonitride, silicon carbide and silicon oxynitride.例文帳に追加
正のζ電位を有するコロイダルシリカ粒子と、アニオン性界面活性剤とを含み、且つpHが1.5〜7.0の範囲である研磨液を用いて、ポリシリコン又は変性ポリシリコンを含む第1層と、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、炭窒化ケイ素、酸化炭化ケイ素、及び酸窒化ケイ素からなる群より選択される少なくとも1種を含む第2層とを少なくとも有して構成される被研磨体を研磨する化学的機械的研磨方法。 - 特許庁
To provide a reinforcing/repairing method for a concrete structure capable of infiltrating and hardening an adhesive composition into fine cracks and reliably and easily performing reinforcement and filling repair by merely applying the adhesive composition to the concrete surface of the structure in the concrete structure having cracks ranging from hardly discoverable fine cracks to cracks with the width of about 0.5 mm and to provide the infiltration type adhesive composition for it.例文帳に追加
発見が困難な微細クラックから、幅が 0.5mm程度のひび割れを有するコンクリート構造物にあっても、単にその構造物のコンクリート表面に塗布するだけで、微細ひび割れ内部に接着性組成物を浸透、硬化させることができ、それにより確実かつ容易に補強および充填補修を行うことのできるコンクリート構造物の補強・補修方法、およびそのための浸透型の接着性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
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