「target metal」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

LIQUID METAL TARGET FOR NEUTRON GENERATING DEVICE例文帳に追加

中性子発生装置用液体金属ターゲット - 特許庁

METAL RESISTOR MATERIAL AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

金属抵抗体材料およびスパッタリングターゲット - 特許庁

METHOD OF FORMING METAL BLANK FOR SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用金属ブランクの形成方法 - 特許庁

LIQUID METAL TARGET FOR MATERIAL IRRADIATION例文帳に追加

材料照射用液体金属ターゲット - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING METAL SPUTTERING TARGET例文帳に追加

金属スパッタリング・ターゲット材料を作成する方法 - 特許庁

SYSTEM FOR COOLING LIQUID METAL TARGET例文帳に追加

液体金属ターゲット冷却システム - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL METAL TARGET WITH BOTTOM例文帳に追加

底のある円筒状メタルターゲットの製造方法 - 特許庁

METAL ZINC-CONTAINING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

金属亜鉛含有スパッタリングターゲット - 特許庁

Ni-Nb BASED TARGET MATERIAL AND SUBSTRATE FILM FOR BRAZING FILLER METAL例文帳に追加

Ｎｉ−Ｎｂ系ターゲット材およびロウ材用下地膜 - 特許庁

X-RAY SOURCE PROVIDED WITH LIQUID METAL TARGET例文帳に追加

液体金属ターゲットを備えたＸ線源 - 特許庁

A metal target 12 is arranged on a metal oxide target 10, and a single sputtering target 14 is constituted.例文帳に追加

金属のターゲット１２を、金属酸化物のターゲット１０上に配置し、単一のスパッタリングターゲット１４を構成させる。 - 特許庁

To efficiently recover a target metal, in which the target metal can be recovered while the material density of the metal is remained at high rate.例文帳に追加

対象となる金属を効率的に回収するとともに、材料密度が高い状態で対象金属を回収可能とする。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL COMPOSED OF CERAMICS-METAL COMPOSITE MATERIAL, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

セラミックス−金属複合材料からなるスパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット - 特許庁

In addition, particles accelerated to the target are collided to release the metal substance from the target.例文帳に追加

また、ターゲットに加速された粒子を衝突させ、ターゲットから金属物質を放出させる。 - 特許庁

A metal target composing the metal composition and an oxide target composing the oxide are formed at the same time by sputtering.例文帳に追加

前記金属組成物を構成する金属ターゲットと、前記酸化物を構成する酸化物ターゲットとを同時にスパッタリングして形成した。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING NOBLE METAL TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING AND NOBLE METAL TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING PRODUCED BY THE METHOD例文帳に追加

貴金属スパッタリング用ターゲット材の製造方法及びその方法により製造される貴金属スパッタリング用ターゲット材 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING PRECIOUS METAL MAGNETIC SPUTTERING TARGET AND PRECIOUS METAL MAGNETIC SPUTTERING TARGET FABRICATED BY USING THE METHOD例文帳に追加

貴金属磁気スパッタリングターゲットの製造方法及びこの方法で製造された貴金属磁気スパッタリングターゲット - 特許庁

The heat-resistant target is a metal oxide or a ceramic, and the transition metal is chromium or zinc.例文帳に追加

耐熱性ターゲットは金属酸化物又はセラミックスであり、遷移金属はクロム又は亜鉛である。 - 特許庁

The supply of the metal silver is made possible by casting, forging, and rolling the metal silver into a target shape.例文帳に追加

金属銀の供給は、金属銀を目的の形状に鋳造、鍛造、圧延することで可能である。 - 特許庁

OPTICAL RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET AND AZO-METAL CHELATE DYE例文帳に追加

光記録媒体、スパッタリングターゲット及びアゾ金属キレート色素 - 特許庁

METAL RESISTOR MATERIAL, SPUTTERING TARGET AND RESISTANCE THIN FILM例文帳に追加

金属抵抗体材料、スパッタリングターゲットおよび抵抗薄膜 - 特許庁

SPUTTERING TARGET OF HIGH MELTING POINT METAL, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

高融点金属スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

A metal target 6 is arranged between the opposed hemimorphic crystals.例文帳に追加

対向する異極像結晶の間には、金属ターゲット６が配置される。 - 特許庁

METAL SILICIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

金属シリサイドスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING METAL POWDER AND METHOD FOR PRODUCING TARGET MATERIAL例文帳に追加

金属粉末の製造方法およびターゲット材の製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHODS OF METAL POWDER WITH HIGH MELTING POINT AND TARGET MATERIAL例文帳に追加

高融点金属系粉末の製造方法およびターゲット材の製造方法 - 特許庁

This method for producing the metal complex containing the metal and target compound by performing the reaction of the metal fine particles with the target compound is provided by irradiating a laser beam to reaction liquid containing the metal fine particles and the target compound to produce the metal complex.例文帳に追加

金属微粒子と標的化合物とを反応させてなる、金属と標的化合物とを含む金属複合体の製造方法であって、金属微粒子と、標的化合物と、を含む反応液に、レーザを照射することにより、金属複合体を製造する金属複合体の製造方法である。 - 特許庁

TARGET FORMED OF SINTERING-RESISTANT MATERIAL OF HIGH-MELTING POINT METAL ALLOY, HIGH-MELTING POINT METAL SILICIDE, HIGH-MELTING POINT METAL CARBIDE, HIGH-MELTING POINT METAL NITRIDE, OR HIGH-MELTING POINT METAL BORIDE, PROCESS FOR PRODUCING THE TARGET, ASSEMBLY OF THE SPUTTERING TARGET-BACKING PLATE, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

高融点金属合金、高融点金属珪化物、高融点金属炭化物、高融点金属窒化物あるいは高融点金属ホウ化物の難焼結体からなるターゲット及びその製造方法並びに同スパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体及びその製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing a metal complex for simply obtaining the metal complex containing the metal and a target compound by performing the reaction of the metal fine particles with the target compound.例文帳に追加

金属微粒子と標的化合物とを反応させてなる、金属と標的化合物とを含む金属複合体を簡易に得るための、金属複合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

An electron of a metal atom is excited by irradiating, with light, a metal vapor of an ion generation target on a heating metal body.例文帳に追加

イオン生成対象の金属蒸気に加熱金属体上で光を照射し金属原子における電子を励起することにした。 - 特許庁

HIGH PURITY METAL, SPUTTERING TARGET CONSISTING OF HIGH PURITY METAL, THIN FILM FORMED BY SPUTTERING, AND METHOD FOR MANUFACTURING HIGH PURITY METAL例文帳に追加

高純度金属、高純度金属からなるスパッタリングターゲット及びスパッタリングにより形成した薄膜並びに高純度金属の製造方法 - 特許庁

The radiation transmission target 11 having a target metal 12 on a substrate 13 is provided, on the surface of the substrate 13 opposite from the surface provided with the target metal 12, with an antistatic part 14.例文帳に追加

基板１３上にターゲット金属１２を有する放射線透過型ターゲット１１であって、基板１３のターゲット金属１２を有する面とは反対側の面に帯電防止部１４を有する放射線透過型ターゲット。 - 特許庁

To provide an X-ray target that has enabled supporting a minute target, by using a minute ball or a minute rod as a target and moreover by burying the target into a plate of a metal like beryllium or the like to improve thermal conduction.例文帳に追加

ターゲットに微小球や微小ロッドを用い、さらに、そのターゲットをベリリューム等の板に埋め込んで熱伝導を良くしたことにより、微小ターゲットの支持を可能にしたＸ線ターゲットを提供する。 - 特許庁

METAL OXIDE AND PRODUCTION OF TARGET MATERIAL USING THE SAME AND USED FOR FORMING THIN FILM, TARGET MATERIAL FOR FORMING METAL OXIDE THIN FILM AND FORMATION OF METAL OXIDE THIN FILM例文帳に追加

金属酸化物およびこれを用いた薄膜形成用ターゲット材の製法、金属酸化物薄膜形成用ターゲット材および金属酸化物薄膜の形成法 - 特許庁

The metal ring is rolled until the thickness of the metal ring becomes the target thickness (P12) and the perimeter of the metal ring is measured when reaching the target thickness (P13).例文帳に追加

金属リングの板厚が目標板厚になるまで金属リングを圧延し（Ｐ１２）、目標板厚になったら金属リングの周長を測定する（Ｐ１３）。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING HIGH-PURITY METAL, HIGH-PURITY METAL, SPUTTERING TARGET CONSISTING OF THIS HIGH-PURITY METAL AND THIN FILM FORMED BY THIS SPUTTERING TARGET例文帳に追加

高純度金属の製造方法、高純度金属、同高純度金属からなるスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成した薄膜 - 特許庁

This sputtering target (a metal-silicide target) has a micro- structure including concatenated metal-silicide phases and segregated Si phases discontinuously existing in spaces between the metal-silicide phases.例文帳に追加

スパッタリングターゲット（金属シリサイドターゲット）は、連鎖状に形成された金属シリサイド相と、この金属シリサイド相の間隙に不連続に存在する遊離Ｓｉ相とを含む微細組織を有する。 - 特許庁

HIGH PURITY IRON, HIGH PURITY IRON TARGET, HIGH PURITY COBALT, HIGH PURITY COBALT TARGET AND METHOD FOR PRODUCING HIGH PURITY METAL例文帳に追加

高純度鉄および高純度鉄ターゲット、高純度コバルトおよび高純度コバルトターゲットならびに高純度金属の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL COMPOSED OF CERAMICS-METAL COMPOSITE MATERIAL, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THEM例文帳に追加

セラミックス−金属複合材料からなるスパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲットならびにそれらの製造方法 - 特許庁

A movable magnet is installed on a side of the target-holding part opposite to a side at which the metal target opposes to the substrate.例文帳に追加

ターゲット保持部には、金属ターゲットが基板と対向する側の反対側にマグネットが移動可能に設けられている。 - 特許庁

The target is provided in which the atom ratio of Bi to Ti as metal components of the BiTi-based oxide target is Bi:Ti=6:x (3<x<7).例文帳に追加

ＢｉＴｉ系酸化物ターゲットの金属成分としてのＢｉとＴｉとの原子比が、Ｂｉ：Ｔｉ＝６：ｘ（３＜ｘ＜７）であるターゲットを提供する。 - 特許庁

The cooling mechanism 50 cools a target 1 so as to be a temperature lower than the melting point of a metal to be the material of the target 1.例文帳に追加

冷却機構５０は、ターゲット１を、ターゲット１の材料となる金属の融点よりも低い温度になるまで冷却する。 - 特許庁

Next, the base layer outside the target area is removed, or conductive metal crystal is grown in the target area.例文帳に追加

次いで、目標領域の外側の基層が除去されるか、もしくは、導電性金属結晶が目標領域内で成長される。 - 特許庁

The HOMS, supporting the gold ion adsorbing compound adsorbing the gold ion which is the target metal, is chemically processed, and the gold ion, which is the target metal, is liberated from the gold ion adsorbing compound supported on the HOMS, and gold, which is the target metal, is recovered.例文帳に追加

目標金属である金イオンを吸着した金イオン吸着性化合物を担持したHOMSを化学的処理し、目標金属である金イオンをHOMSに担持された金イオン吸着性化合物から遊離させ、目標金属である金を回収する。 - 特許庁

The single-color hard X rays 4 are generated by collision of the pulsed electron beams 1 and the pulsed laser light 3 at the shelter position of the metal target, and the characteristic X rays 5 are generated from the same light source position 2a by collision of the pulsed electron beams 1 and the metal target 42 at the collision position of the metal target.例文帳に追加

金属ターゲットの退避位置でパルス電子ビーム１とパルスレーザー光３の衝突で単色硬Ｘ線４を発生し、金属ターゲット４２の衝突位置でパルス電子ビーム１と金属ターゲット４２の衝突により同一の光源位置２ａから特性Ｘ線５を発生する。 - 特許庁