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tolerance developmentの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
To provide a pharmaceutical having effects for controlling the development of tolerance of cancer cells to an anticancer drug while effectively killing the cancer cells.例文帳に追加
抗がん剤に対するがん細胞の耐性形成を抑制しつつ、がん細胞を有効に死滅させる効果を有する医薬を提供する。 - 特許庁
The recombinant proteins are produced by obtaining various antibody genes against the female sex hormones and then modifying various characteristics, for example, affinity for an antigen, binding properties to an antigen, cross reactivity, tolerance to a substance interfering an antigen-antibody reaction, tolerance to a substance interfering an enzymatic color development reaction, tolerance to a solvent, etc., of the original antibodies by genetically modification techniques.例文帳に追加
女性ホルモン類に対する種々の抗体遺伝子を取得し、元の抗体が持つ抗原に対する親和性、抗原結合能、交叉反応性、抗原抗体反応妨害物質耐性、酵素発色反応妨害物質耐性、溶媒耐性などの種々の性質が遺伝子組換え技術により改変された組換え蛋白質が前記課題を解決した。 - 特許庁
To obtain an excellent medicinal composition capable of being used for a long time continuously by suppressing the development of drug tolerance caused by the continuous use of it, and useful for the treatment or prevention of glaucoma or ocular hypertension.例文帳に追加
連用による薬剤耐性の発現を抑え、長期継続使用が可能である優れた緑内障または高眼圧疾患の治療または予防のための医薬組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition, exhibiting formability of a contrasty picture without lowering sensitivity, and satisfactory, in particular, in contrast, fuzzy printing, white-light safety, and large development tolerance.例文帳に追加
感度を低下させることなく、硬調な画像形成性を示し、特に、硬調で、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、および現像許容性の広い満足するべき、感光性組成物を提供する。 - 特許庁
Therefore, if the activity of a pyrimidine-specific 5'-nucleotidase having substrate specificity similar to SDT1 is inhibited, the development of drug tolerance to a pyrimidine-based drug can be prevented or the efficacy of the drug can be restored.例文帳に追加
したがって、ＳＤＴ１と同様の基質特異性を有するピリミジン特異的５’−ヌクレオチダーゼの活性を阻害すれば、ピリミジン系薬剤に関する薬剤耐性の出現を防止あるいは回復出来る。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition capable of giving a high performance cured film excellent in exposure tolerance, development tolerance, PCT resistance, via shape, heat resistance, developability, adhesion, thermal shock resistance, electric corrosion resistance, flexibility and mechanical properties, and suitable for use in the production of a printed wiring board, a high density multilayer plate, a semiconductor package and the like.例文帳に追加
露光裕度、現像裕度、耐ＰＣＴ性、ビア形状、耐熱性、現像性、密着性、耐熱衝撃性、耐電食性、可とう性、機械特性に優れた高性能な硬化膜を得ることができ、プリント配線板や高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of selectively enhancing the analgesic potency of morphine and other bimodally-acting opioid agonists and simultaneously attenuating development of physical dependence, tolerance and other side effects caused by the chronic administration of the bimodally-acting opioid agonists.例文帳に追加
モルヒネ等の両作用性オピオイド作用物質の鎮痛作用を選択的に増強し、同時に、両作用性オピオイド作用物質の継続的使用時にみられる身体的依存性、耐性、その他の副作用を軽減するための方法を提供する。 - 特許庁
To provide an air current-type classifying device which classifies a powder raw material such as a toner for the development of a static charge image as an example into a plurality of particles with a varying particle diameter and ensures a high-precision and efficient classifying operation with the capability of always adjusting a classification point within the tolerance range even during the operation.例文帳に追加
例えば、静電荷像現像用のトナーのような粉体原料を粒径の異なる複数の粒子に分級する装置であって、高精度で効率的な分級ができ、作業中においても分級点を許容範囲に常時調整し得る気流式分級装置を提供する。 - 特許庁
To provide a lithographic printing plate material with improved printability (antifouling resistance and water tolerance), plate wear and chemical resistance, a lithographic printing plate material capable of on-machine development, a method for manufacturing the lithographic printing plate, a lithographic printing plate material having both good on-machine developing properties and plate wear, and a method for manufacturing the lithographic printing plate.例文帳に追加
印刷適性（耐汚れ性、水幅など）、耐刷力、ケミカル耐性が向上した平版印刷版材料、印刷機上現像が可能な平版印刷版材料及び平版印刷版の作製方法、且つ、良好な印刷機上現像性と耐刷力を両立した平版印刷版材料及び平版印刷版の作製方法の提供。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition having a wide defocus latitude and excellent in process tolerance, line edge roughness and resolving power or having an improved margin for exposure in the production of a semiconductor device, suppressing the occurrence of development defects, capable of preventing the generation of particles in the dissolution of solid components in a solvent or during storage and capable of preventing a change of sensitivity due to storage.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、デフォーカスラチチュードが広く、プロセス許容性及びラインエッジラフネスや解像力に優れ、あるいは露光マージンが改善され、現像欠陥の発生が軽減され、固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生を防止でき、経時保存による感度の変動を防止できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
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