underlayerを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 828件
UNDERLAYER MATERIAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
下地材加工装置 - 特許庁
ARTIFICIAL TURF UNDERLAYER STRUCTURE例文帳に追加
人工芝の下地構造 - 特許庁
UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION例文帳に追加
下層膜形成組成物 - 特許庁
HEAT-INSULATION ROOF UNDERLAYER STRUCTURE例文帳に追加
断熱屋根下地構造 - 特許庁
UNDERLAYER COMPOSITION AND METHOD OF IMAGING UNDERLAYER COMPOSITION例文帳に追加
下層組成物および下層を像形成する方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST UNDERLAYER FILM例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物およびレジスト下層膜 - 特許庁
COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM例文帳に追加
レジスト下層膜用組成物 - 特許庁
COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST例文帳に追加
レジスト下層膜用組成物 - 特許庁
UNDERLAYER STRUCTURE FOR ROOF GREENING例文帳に追加
屋上緑化用下地構造 - 特許庁
WALL STRUCTURE AND WALL UNDERLAYER SHEET例文帳に追加
壁構造及び壁下地シート - 特許庁
COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM AND RESIST UNDERLAYER FILM USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜用組成物及びこれを用いたレジスト下層膜 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物 - 特許庁
UNDERLAYER MEMBER FOR FIXING FUNCTIONAL MEMBER例文帳に追加
機能部材固着用下地部材 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, RESIST UNDERLAYER FILM FORMING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION AND RESIST UNDERLAYER FILM USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜 - 特許庁
UNDERLAYER SHEET FOR WATERPROOFING BUILDING ROOF例文帳に追加
建物屋根の防水用下地シート - 特許庁
To carry out appropriate underlayer removal in accordance with a tint of the underlayer by correcting from color information quantities of underlayer removal in accordance with a detected underlayer level.例文帳に追加
検出下地レベルに応じた下地除去量を色情報から補正することにより、下地の色みに応じた適切な下地除去を行う。 - 特許庁
THERMAL SPRAYING CYLINDRICAL TARGET HAVING UNDERLAYER例文帳に追加
下地層を有する溶射円筒ターゲット - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, AND FORMATION METHOD THEREOF例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターン形成方法 - 特許庁
WALL UNDERLAYER MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加
壁下地材及びその製造方法 - 特許庁
UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY例文帳に追加
リソグラフィー用下層膜形成組成物 - 特許庁
A third underlayer 3 and a second underlayer 4 are successively formed and then a Ru layer is formed as a first underlayer 5.例文帳に追加
続いて第3下地層3および第2下地層4を形成した後、第1下地層5としてRu層を形成する。 - 特許庁
PRODUCTION OF COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST AND COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST例文帳に追加
レジスト下層膜用組成物の製造方法およびレジスト下層膜用組成物 - 特許庁
POLYMER FOR UNDERLAYER FILM, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加
下層膜用重合体、下層膜用組成物及び半導体の製造方法 - 特許庁
Then, density of the first underlayer 6 and that of the second underlayer 7 are different with each other.例文帳に追加
そして、第1の下地層6と第2の下地層7は、密度が互いに異なる。 - 特許庁
WATERPROOFING METHOD FOR NONWOVEN FABRIC SHEET UNDERLAYER PAINT FILM例文帳に追加
不織布シート下張り塗膜防水工法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL CROSSLINKING/CURING RESIST UNDERLAYER FILM例文帳に追加
光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING METHOD, AND FULLERENE DERIVATIVE例文帳に追加
レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、フラーレン誘導体 - 特許庁
PRODUCTION OF COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST例文帳に追加
レジスト下層膜用組成物の製造方法 - 特許庁
UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST PROCESS例文帳に追加
多層レジストプロセス用下層膜形成組成物 - 特許庁
MAGNETIC RECORDING MEDIUM HAVING NEW UNDERLAYER STRUCTURE例文帳に追加
新規基層構造を有する磁気記録媒体 - 特許庁
The method can further include a step of forming a first underlayer of titanium and a second underlayer of gold.例文帳に追加
チタンからなる第1下地層と金からなる第2下地層をさらに備えることが好ましい。 - 特許庁
NAPHTHALENE DERIVATIVE, RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, RESIST UNDERLAYER FILM FORMING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ナフタレン誘導体、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 - 特許庁
The underlayer decision portion 44 corrects, based on the decision made by itself, the quantities of underlayer removal corresponding to the underlayer level detected from the luminance data.例文帳に追加
また、下地判定部44は、その判断結果に基づいて輝度データから検出された下地レベルに対する下地除去量を補正する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS USING THE SAME, AND RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL例文帳に追加
レジスト下層膜形成方法、これを用いたパターン形成方法、及びレジスト下層膜材料 - 特許庁
A multilayered underlayer including a first metal underlayer, a second metal underlayer having non-solid solubility to the first metal underlayer and opening holes and a third metal underlayer having solid solubility to the first metal underlayer and non-solid solubility to the second metal underlayer is formed on a substrate and a magnetic recording layer is formed thereon.例文帳に追加
基板上に、第1の金属下地層と、第1の金属下地層に対し非固溶性を有し、開孔をもつ第2の金属下地層と、第1の金属下地層に対し固溶性を有し、かつ第2の金属下地層に対し非固溶性を有する第3の金属下地層とを含む多層下地層を形成し、その上に磁気記録層を形成する。 - 特許庁
ELECTRON BEAM CURABLE RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION例文帳に追加
電子線硬化のレジスト下層膜形成組成物 - 特許庁
That is, the underlayer impermeable liners 16 are arranged at an interval and an end part of one of the underlayer impermeable liners 16 is overlapped with one end part of the underlayer impermeable liner-joining sheet 20 and an end part of the other underlayer impermeable liner 16 is overlapped with the other end part of the underlayer impermeable liner-joining sheet 20 to join the underlayer impermeable liners 16.例文帳に追加
すなわち、下層遮水シート16同士は離間して配置され、1の下層遮水シート16の端部と遮水下層連結シート20の一端部とが重ね合わされると共に、他の下層遮水シート16の端部と遮水下層連結シート20の他端部とが重ね合わされて連結されている。 - 特許庁
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